16-1高分子表面研究会
最先端の顕微鏡／イメージング技術で、表面・界面を見る |
| 趣旨 |
高分子材料の表面・界面の状態は、接着や複合材料の物性などに大きな影響を及ぼすため、表面・界面における分子の組成や運動性などを理解することは、材料開発において重要な問題となっています。近年では新しい顕微鏡技術や分光技術の発展により、表面・界面を直接的に「見る」ことが可能となっています。今回の研究会では、表面・界面に適用可能な様々な分光技術によるイメージングの分野でご活躍されております先生方を講師としてお迎えし、最先端のイメージング技術とその応用について解説いただきます。多数の方々のご参加をお待ちいたしております。 |
| 主催 |
高分子学会 高分子表面研究会 |
| 協賛 |
日本表面科学会、日本分析化学会、日本化学会、日本接着学会、日本複合材料学会（予定） |
| 開催日 |
2016年10月21日 10:15～16:35 |
| 開催場所 |
東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2
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| 交通 |
JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線 飯田橋駅下車 徒歩10分、都営地下鉄大江戸線 牛込神楽坂駅 徒歩5分、東京メトロ東西線 神楽坂駅徒歩5分 |
| プログラム |
＜10：15～10：20＞ 開会の挨拶
＜10：20～11：10＞
1.「SPMによる化学分析のロードマップ～最近のAFM-IRおよびSNOM-IR計測の展開～」（日産アーク）叶 際平
＜11：10～12：00＞
2.電気化学FM-AFMおよびMD計算による電気二重層を形成する液体側の局所構造解析（大阪大学）福井 賢一
＜13：00～13：50＞
3.ラマン散乱を用いた顕微分析イメージング(大阪大学）藤田 克昌
＜13：50～14：40＞
4.赤外超解像顕微鏡の開発とその応用（岡山理科大学）酒井 誠
＜14：50～15：40＞
5.X線・中性子反射率イメージングによる埋もれた界面観察（物質・材料研究機構）桜井 健次
＜15：40～16：30＞
6.TOF-SIMSイメージングによる解析技術の現状（東レリサーチセンター）萬 尚樹
＜16：30～16：35＞ 閉会の挨拶 |
| 受付期間 |
2016年07月12日～2016年10月20日 |
| 参加要領 |
1) 定員 80名
2) 参加費（税込） ①企業5,400円 ②大学・官公庁3,240円 ③学生2,160円 ④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員2,160円 ⑤ 高分子表面研究会メンバー無料
3）申込方法 本サイトよりお申込みいただき、参加費を10月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。
4) 振込先 銀行振込：三菱東京UFJ銀行銀座支店(普) 1126232 名義：公益社団法人高分子学会
郵便振替：00110-6-111688 名義：公益社団法人高分子学会
※振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。
※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。
申込先 高分子学会 16-1高分子表面研究会係
104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F
電話03－5540－3771 Fax03－5540－3737 |