18-1無機高分子研究会
無機高分子の合成と機能：各種元素および元素ブロックを含む新しいハイブリッド材料の創製を目指して
趣旨 多彩な元素を含むハイブリッド材料やプレセラミックスなどをはじめとして無機高分子は次世代を担う超高性能、超高機能材料として今後益々展開が期待できる極めて重要な研究開発対象であります。無機高分子研究会では、これらの材料を対象としたシンポジウムを6月に、また学術研究討論会を11月にそれぞれ開催しており、無機高分子の基礎から応用に関する最新の研究成果に関する情報交換の場として、多数の方々に広く活用頂いております。本セミナーは、個々のテーマに関連する研究背景、研究手法の詳細、期待されるアウトプット、さらには研究の哲学などについて、アットホームな雰囲気で一歩踏み込んだ議論を行える場として一泊二日の予定で企画しました。情報交換の場として、様々な分野の方の御参加を期待します。
主催 高分子学会　無機高分子研究会
開催日 2018年10月12日～2018年10月13日
開催場所 富士フィルム和光純薬（株）湯河原研修所
熱海市泉232-8

Tel：0465-64-0559
Fax：0465-60-1389
交通 JR東海道線・湯河原駅下車　タクシー「椿寺の下、和光純薬研修所」もしくは 「温泉場」「不動滝」「奥湯河原」行きバスにて約10分「落合橋」下車、 椿寺を目標に徒歩約10分
プログラム 第1日目＝10月12日（金）
＜13:00～13:30＞　受付

＜13:30～17:30＞　講演
1.「かご型シルセスキオキサンの形を利用した機能性新素材開発」
（京都工芸繊維大学）中　建介

2.「Si・Geの電子的な特徴を生かした機能材料へのアプローチ」
（広島大学大学院）大下　浄治

3.「界面制御により創られる有機無機ハイブリッドの機能と応用」
（京都工芸繊維大学）松川　公洋

＜18:00～＞　休憩・懇親会

第２日目＝10月13日（土）
＜9:00～11:40＞
4.「精密な高分子反応に基づく未踏の元素ブロックπ共役高分子の合成」
（東京工業大学大学院）冨田　育義

5.「シルセスキオキサン系元素ブロック高分子：合成から応用まで」
（東京理科大学）郡司　天博

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。
受付期間 2018年06月28日～2018年09月13日
参加要領 1) 定員　40名
　※申込締切9/13(木)までです。
　　お早めのお申し込みをお願いいたします。
　※研究会の趣旨により宿泊をお願いしております。
　　ご理解の程よろしくお願い致します。

2）参加費（税込）
　　①企業21,600円　
　　②大学・官公庁10,800円　
　　③学生3,240円　
　　④高分子学会会員の名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員3,240円　
　　⑤無機高分子研究会メンバー無料　

3）宿泊費（1泊2食付、懇親会費込）
　　企業・大学・官公庁：15,000円　　
　　学生：10,000円

4）申込方法　本サイトよりお申込みください。参加費と宿泊費を合わせて10月末までにご送金ください。
申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。

5）振込先　　
　　銀行振込＜三菱UFJ銀行銀座支店 普通預金1126232 公益社団法人高分子学会＞
　　郵便振替＜00110-6-111688　公益社団法人　高分子学会＞
振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。
銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。

申込先　高分子学会 17-1無機高分子研究会係
　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F
　　　　電話03－5540－3770　 Fax03－5540－3737