第12回高分子表面研究討論会
趣旨	高分子表面研究会では、「高分子表面（：高分子及び有機分子集合体の関与する表面・界面）」の研究に関する発表と討論の場として、第１２回研究発表会を開催します。高分子表面をどのように理解したらよいか？どのように観察・計測したらよいか？あるいは、どのように作ったらよいか？などに関する日頃の研究成果をもとに、今後の一層の進展に繋げる上で、研究者同士が情報交換できる場を提供したいと考えています。したがって、完成度の高い成果は勿論のこと、研究途中で知恵を拝借したくなったもの、研究の緒についたばかりの話題・課題提供的なもの、研究すべき未解決課題の紹介なども大いに歓迎します。本研究会メンバーのみならず、高分子表面に関心をお持ちの幅広い分野の方々のご参加を願います。
主催	高分子表面研究会
協賛	日本化学会　日本接着学会　日本表面科学会　繊維学会　色材協会（予定）
開催日	2007年01月18日　10:25〜17:10
開催場所	東京工業大学 百年記念館フェライト会議室 目黒区大岡山2-12-1 Tel：03-5734-3331
交通	東急目黒線･東急大井町線　大岡山駅　下車徒歩約1分
プログラム	［研究発表　15分（研究発表12分・質疑応答3分］ ［特別講演　45分（講演35分・質疑応答10分）］ 〈10:25〜10:30〉　はじめに　（三菱化学）中村友久 〈10:30〜12:00〉　 キャラクタリゼーション(I)等　［座長　黒田真一］ 1)　ポリスチレンラテックス粒子の界面活性剤水溶液中における表面力挙動 (首都大学理工･理*)○藤井政俊･羽持渚*･最上理映*･加藤直 2)　TOF-SIMSを用いた添加剤の分析 (旭化成基盤技術研) ○伊藤秀己･河野禎市郎・金森由紀子　 　 3)　ポリ(4-トリメチルシリルスチレン)/ポリイソプレンブレンドおよびブロック共重合体薄膜の表面凝集構造評価 (名大院工･高エネ機構*) ○川口大輔･大矢正幸･鳥飼直也*･高野敦志･松下裕秀　　　　　　　　　　　　 4)　陽電子消滅法による高分子膜の空隙評価 (日東電工) ○島津彰・（産総研）鈴木良一・大平俊行・小林慶規 5)　走査型プローブ顕微鏡による高分子トランスクリスタル層の熱・力学マイクロ解析 (神戸大工・(財)ひょうご科技協会*)○小林司･信澤果那子･漆原良昌*･小寺賢･西野孝 6)　X線回折を利用したポリ-α-オレフィン界面の構造解析 (神戸大工) ○西野孝･小寺賢･井上健太郎 〈13:00〜14：30〉 キャラクタリゼーション(�U)･機能､現象の機構解析(I)等［座長　西岡利勝］ 7)　異種固体界面におけるガラス転移温度とその深さ依存性 (九大院工) ○田中敬二・土村悠・長村利彦　 8)　時間分解蛍光および偏光解消測定に基づく高分子超薄膜の分子運動特性評価 (九大院工) ○立石洋平･田中敬二･長村利彦 9)　PENフィルムの表面改質とガス透過挙動 (静岡大工) ○長島亮･成島和男･稲垣訓宏 10)　密度汎関数計算によるC2H2xの共鳴XESの理論的解析 (金沢大院自然科研) ○高木裕介･瀬弘之･井田朋智･遠藤一央 11)　固体高分解能13C NMRによるポリスチレン−ポリイソプレンブロック共重合体のダイナミクスの研究 (金沢大理･Akron大(米国)*) ○高橋宏和･稲川茉耶･水野元博･遠藤一央･Chang Dae Han* 12)　FT-Raman分光法による高次構造の異なるポリスチレンの分子量予測 (大日本印刷･九大院農*)○佐藤健太･小名俊博*･奥山大輔･藤村秀夫･黒田孝二 〈14:40〜15:40〉 表面･界面研究への提言･機能､現象の機構解析(�U)等［座長　遠藤一央］ (特別講演) 合成化学からの高分子の関与する表面・界面に関する研究へのプロポーザル (東工大院理工) 小西玄一 13)　斜め切削法を利用したSFMによる高分子薄膜内部の構造・物性解析 (財)化学技術戦略推進機構*･九大院工･東洋紡1･九大先導研2･九大3)○應矢量之*･赤堀敬一･村瀬浩貴1･杉原秀紀1･田中敬二･高原淳2･梶山千里3　 〈15:45〜17:00〉 機能､現象の機構解析(�V)･形成方法等［座長　西野　孝］ 14)　電子線トモグラフィーで観たポリオレフィン材料−ラメラの立体構造について− (三菱化学科技研センター) ○松本創･佐野博成･横澤浩樹 15) 常圧下における添加剤のPPフィルム表面へのブリード現象解明 (出光興産*･プライムポリマー･群馬大1) ○若林淳*･河野孝之･木村篤太郎･田村聡･遠藤雅彦･大西聡*･西岡利勝1･田中義勝･金井俊孝* 16) 自動車塗膜の光劣化における表面状態の解析 (東レリサーチセンター) ○執行文子･渡邉猛 17) 表面開始リビングラジカル重合の反応機構―表面固定化重合開始基の表面密度と開始効率 (GIKI(Pakistan)*･京大化研) Ejaz Muhammad*･大野工司･○辻井敬亘･福田猛 18) 大気圧低温プラズマジェットによる薄膜生成 (群馬大工) ○黒田真一･トタ.ピルド.カシ･池田優･久保田仁 〈17:00〜17:10〉　おわりに（神戸大工）西野　孝
受付期間	2006年11月13日〜2007年01月17日
参加要領	[申込] (1)上記「行事参加・発表申込(web)」からお申込ください。 　 (申込内容はe-mailにて届けられる受理通知にてご確認ください。） (2)申込受付後、事務局より参加証と請求書（希望者のみ）が届きます。 (3)参加費を下記いずれかの振込先に1月末日迄にご送金ください。 [参加費] （1）会社・大学・官公庁　4,200円　（2）学生・ｺﾞｰﾙﾄﾞ・ｼﾙﾊﾞｰ 2,100円 （3）高分子表面研究会メンバー　3,150円 （訂正とお詫び） 『高分子12月号（979頁掲載）』の本行事参加費に誤りがございました。 正しい参加費は上記[参加費]記載のとおりとなります。深くお詫び申しあげます。 [振込先] (1)銀行 　　三菱東京UFJ銀行　銀座支店　普通預金　1126232　（社）高分子学会 　 (2)郵便局 　　00110-6-111688（社）高分子学会 [その他] ・振込み手数料は振込人にてご負担ください。 ・銀行・郵便局の領収書をもって本会からの領収書にかえさせていただきます。 [問合せ先]　 （社）高分子学会　第12回高分子表面研究討論会係 　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F　 　　電話03−5540−3770 FAX03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは1月17日(水)午前までとさせていただきます。 以降は上記宛お問い合わせ下さい。