07-1光反応・電子用材料研究会 半導体ＵＶレーザーの進歩と応用
趣旨	レーザー技術は様々な分野でその応用例を広げており、我々の生活に身近なところ でその恩恵を受けています。また、近年半導体ＵＶレーザーやＬＥＤの出現により、従来の水銀灯を光源とした露光法とは異なるリソグラフィー加工の技術も発達しています。更に有機物を用いたレーザー発光の研究も精力的に進められています。本研究会ではレーザー技術を用いた新しい光産業の創造、半導体ＵＶレーザーやＬＥＤを用いた新しいリソグラフィー技術の進捗、更に有機半導体レーザーを目指した最先端の研究に関して、各分野の専門の先生方にホットな話題を講演していただきます。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2007年05月17日　13:00〜16:40
開催場所	東京工業大学　百年記念館　フェライト会議室 東京都目黒区大岡山2-12-1 Tel：03-5734-3331
プログラム	13:00〜13:50　 1．高出力固体レーザーの産業応用 　　　　　（光産業創成大学院大学）　山中　正宣 13:50〜14:40 2．レーザーダイレクトイメージング用レジスト材料 　　　　　（日立化成工業）　鍛冶　　誠 15:00〜15:50 3．半導体レーザーを用いたマイクロ光造形とその応用 　　　　　（ディーメック）　寺本　俊夫 15:50〜16:40 4．コレステリック液晶を利用したらせん構造を持つ有機半導体 　　　　　（東京大学大学院工学系研究科）　舟橋　正浩
受付期間	2007年03月12日〜2007年05月16日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生/ゴールド･シルバー 1,050円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を5月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合せ先　（社）高分子学会　07‐1　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは5月16日(水)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせ下さい。