10-1高分子表面研究会
表面・界面を分子で議論しよう
趣旨 表面・界面はさまざまな高分子材料において重要な役割を果たしています。バルクに比較して，表面・界面の構造・物性はずいぶん異なるようだということが最近異論なく語られるようになってきました。その際，表面・界面の構造は実際どうなっているのかを理解すること，表面・界面故の特異な物性をいかに材料に発現させ得るのかが研究開発上のキーになってきます。近年，さまざまな解析法が高分子材料にも適用され，各視点から高分子表面・界面を分子レベルで眺められるようになってきました。このため，本研究会では各種走査型プローブ顕微鏡，和周波発生分光，陽電子消滅法，シミュレーションを駆使して表面・界面を探索されている第一線の方々を講師にお招きし，研究開発現状と今後の課題・展望について解説して頂くとともに，表面・界面を分子鎖・官能基レベルで議論する活発な会にしたいと思います。奮ってご参加頂けますよう，どうぞ宜しくお願い申し上げます。
主催 高分子学会　高分子表面研究会
協賛 日本化学会、応用物理学会、色材協会、繊維学会、日本材料学会、日本接着学会、日本表面科学会、日本分析化学会（予定）
開催日 2010年10月22日　10:00～16:45
開催場所 東京理科大学森戸記念館第１フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2

Tel：03-3260-4271
交通 JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線　飯田橋駅下車　徒歩10分、都営地下鉄大江戸線　牛込神楽坂駅　徒歩10分
プログラム ＜10：00～10：10＞　開会挨拶

＜10：10～11：00＞
1．有機無機ハイブリッド超親水膜の開発状況
（富士フィルム）田中　智史


＜11：00～11：50＞
2．高分子LB膜の高分解能原子間力顕微鏡観察
（山形大学）　熊木治郎


＜13：00～13：50＞
3．プローブ顕微鏡による高分子材料の相溶状態解析
(花王) 　 丹治 範文


＜13：50～14：40＞
4．界面選択的なヘテロダイン検出和周波発生分光
（理化学研究所）　山口祥一


＜15：00～15：50＞
5．陽電子消滅法による高分子表面からバルクにおける分子間隙の解析
(日東電工)　 島津　彰


＜15：50～16：40＞
6．粗視化シミュレーションを用いた高分子表面・界面の分子鎖ダイナミクスと局所物性の解析
(産業総合技術研究所)　 森田裕史


＜16：40～16：45＞　閉会挨拶

　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。
受付期間 2010年07月27日～2010年10月21日
参加要領 1）定員　100名　
2）参加費（税込） ①企業5,250円　②大学・官公庁3,150円　③学生2,100円　
④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員2,100円　
⑤ 高分子表面研究会メンバー無料　

3）申込方法　 本サイトよりお申込ください。参加費はお申込後、10月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。

4）振込先 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行銀座支店　普通預金1126232（社）高分子学会＞
　　　　　郵便振替＜00110-6-111688（社）高分子学会＞
振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。
銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。

申込先　　　高分子学会 10-1高分子表面研究会係
〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F
電話03－5540－3771　 Fax03－5540－3737