第29回高分子表面研究会講座
高分子表面解析講座
趣旨 「高分子の表面界面構造創製」と、「高分子の表面界面分析」を専門とする高分子表面研究会が、「材料と表面分析を繋ぐ」ことを目指した高分子表面解析講座を企画しました。
今回は、企業の方々を講師に迎え、高分子の表面・界面分析の産業界における現状や解析の実例、そして問題点などについて紹介して頂きます。
参加された方々と講師の間で活発な質疑応答が可能な講座にしたいと思いますので、是非ご参加ください。
主催 高分子学会　高分子表面研究会
協賛 （予定）日本化学会、応用物理学会、日本表面科学会、色材協会、日本分析化学会、日本材料学会、 日本接着学会、繊維学会
開催日 2011年07月07日～2011年07月08日
開催場所 東京理科大学 森戸記念館 Ｂ1Ｆ 第一フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2

交通 JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線　飯田橋駅下車　徒歩10分、都営地下鉄大江戸線　牛込神楽坂駅　徒歩10分
プログラム ＜10：30～10：35＞　開会挨拶　
＜10：35～11：20＞
1.　表面・界面分析概論
（東レリサーチセンター）萬　 尚樹

＜11：25～12：10＞
2. ガスクラスターイオンエッチングによるポリマーの深さ方向分析
（アルバック・ファイ）眞田 則明

＜13：15～14：00＞
3. MALDI-TOFMSを用いたマスイメージングの現状
（島津製作所）山崎 雄三

＜14：05～14：50＞
4．SAICASを用いた積層膜界面の剥離強度解析
（ダイプラ・ウィンテス）齋藤 　誠

＜15：00～15：45＞
5．X線小角／広角散乱を用いた高分子材料の分析　～耐衝撃性ポリマーアロイの分析を事例に～
（日産アーク）高橋 洋平

＜15：50～16：35＞　
6．X線反射率測定による高分子薄膜の構造解析
（日東電工）宮崎 　司

第2日：7月8日（金）
＜10：30～11：15＞　
7．二次元相関分光法によるPVAフィルムのin-situ解析
（日東分析センター）河辺 雅義

＜11：20～12：05＞　
8．高分子膜解析におけるケモメトリックスの活用
（旭化成）坂部 輝御

＜13：10～13：55＞　
9．フッ素化ハイパーブランチポリマーによる表面改質ハードコートの機能の発現
（日産化学工業）原口 将幸

＜14：00～14：45＞　
10．感光性ポリマー（半導体レジスト）の各種分析（仮）
（リソテックジャパン）関口 　淳

＜14：55～15：40＞　
11．モスアイ型反射防止フィルム＜モスマイトTM＞の開発　～ナノインプリントにおける離型不良解析～
（三菱レイヨン）小澤 　覚

＜15：45～16：30＞　
12．複写機・プリンタ業界における材料分析技術
（リコー）並木 章代

＜16：30～16：35＞　閉会挨拶　
受付期間 2011年04月11日～2011年07月06日
参加要領 1)　定員　　　　　　100名
　
2)　参加費（税込）　①企業27,300円　②大学・官公庁9,450円　③学生3,150円　④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員3,150円　⑤ 高分子表面研究会メンバー　(a)企業22,050円　(b)大学・官公庁7,350円
　
3）申込方法　高分子学会学会申込サイトhttp://www.spsj.or.jp/entry/からお申込いただくか、下記申込用紙にご記入いただき、FAXまたは郵便にてご送付の上、参加費を7月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。

4) 振込先 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行銀座支店　普通預金1126232（社）高分子学会＞
　　　　　郵便振替＜00110-6-111688（社）高分子学会＞

※振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。

申込先　高分子学会 第29回高分子表面研究会講座係
〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F
電話03－5540－3771　 Fax03－5540－3737