11-1高分子表面研究会
表面修飾・処理の新展開 |
趣旨 |
表面修飾・処理は素材表面の性能や機能を高めるために幅広く行われており、内部の性質を損なうことなく表面のみの性質を変える工業的に大変有用な手段です。高分子表面の修飾・処理だけでなく、金属などの表面を高分子で修飾したものなど、高分子がかかわるものが数多くあります。コーティングやメッキといった手法やプラズマ処理などの表面処理、さらには反応を利用して作製した高分子ブラシによる表面改質など様々なものがあり、工業的な面だけでなく学術的な面からも研究が進められています。そこで、今回の研究会では、その新たなる展開について第一線で研究・開発されている方々を講師にお迎えし、研究開発の現状と今後の課題・展望について解説していただきます。多数の皆様のご参加をお待ちしております。 |
主催 |
高分子学会 高分子表面研究会 |
協賛 |
日本化学会、応用物理学会、色材協会、繊維学会、日本材料学会、日本接着学会、日本表面科学会、日本分析化学会(予定) |
開催日 |
2011年10月21日 10:00〜16:35 |
開催場所 |
東京理科大学森戸記念館第1フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2
Tel:03-3260-4271
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交通 |
JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線 飯田橋駅下車 徒歩10分、都営地下鉄大江戸線 牛込神楽坂駅 徒歩10分 |
プログラム |
<10:00〜10:05> 開会挨拶
<10:05〜11:05> 1.リビングラジカル重合による表面/界面制御と新材料創製(京都大学)辻井 敬亘
<11:05〜12:05> 2.金属の表面処理と高分子接着(住友金属鉱山)山辺 秀敏
<13:20〜14:20> 3.プラスチックフィルム等の表面処理の現状と問題点(金沢工業大学)小川 俊夫
<14:20〜15:20> 4.ドライコーティングを用いたガスバリア技術(三菱樹脂)柳原 英人
<15:30〜16:30> 5.バイオインターフェイスを指向した表面修飾技術(関西大学)岩崎 泰彦
<16:30〜16:35> 閉会挨拶
※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 |
受付期間 |
2011年08月05日〜2011年10月20日 |
参加要領 |
1)定員 100名 2)参加費(税込) @企業5,250円 A大学・官公庁3,150円 B学生2,100円 C名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員2,100円 D 高分子表面研究会メンバー無料
3)申込方法 本サイトよりお申込ください。参加費はお申込後、10月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書(希望者のみ)を順次送付いたします。
4)振込先 銀行振込<三菱東京UFJ銀行銀座支店 普通預金1126232(社)高分子学会> 郵便振替<00110-6-111688(社)高分子学会> 振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。 銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。
申込先 高分子学会 11-1高分子表面研究会係 〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F 電話03−5540−3771 Fax03−5540−3737
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