06-2印刷・情報記録・表示研究会 発光性高分子・超分子と情報記録
趣旨	蛍光や燐光を発する物質による情報記録や画像記録は、高感度読み出しが可能であるため将来の多層高密度記録方式の一つとして期待されています。また、通常の光の下では不可視のイメージとして記録できることからセキュリティー分野においても関心が高まっています。今回、発光性高分子合成の最前線から、様々な高分子・超分子系物質を用いる発光制御技術、および可逆または非可逆なイメージングについて基礎的立場から論じる場を提供すべく、大学において最先端で研究を進めている研究者を講師としてお招きして本研究会を開催します。
主催	高分子学会　印刷・情報記録・表示研究会
開催日	2006年06月30日　10:30〜16:10
開催場所	東京工業大学百年記念館フェライト会議室 東京都目黒区大岡山2-12-1 http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html Tel：03-5734-3340
交通	東急目黒線・大井町線　大岡山駅下車　徒歩約1分
プログラム	<10:30−11:20> 1）ケイ素、ホウ素を含む光・電子機能分子の設計と合成 （名大院理）山口　茂弘 <11:20−12:10> 2）ポリシリレンフェニレンを用いるケイ光画像記録 （広島大院工）大下　浄治 <13:30−14:20> 3）蛍光性ジフェニルアセチレンポリマーを用いた多色発光情報記録 （慶北大工）郭　起燮、（奈良先端大院）○藤木　道也 <14:20−15:10> 4）金属錯体の超分子組織体を利用する可逆的燐光制御 （東大院工）相田　卓三 <15:20〜16:10> 5）光・熱により強度可変な発光材料−希土類イオンドープポリイミド− （東北大多元研）石坂　孝之
受付期間	2006年04月14日〜2006年06月29日
参加要領	1）定員100名 2）参加費 企業 5,250円、大学・官公庁 3,150円、学生・GS 2,100円 (印刷・情報記録・表示研究会メンバー　無料) 3）申込方法 Webでお申し込み後、参加費を6月末日までにご送金ください。参加証、請求書（希望者のみ）を順次送付させていただきます。 4）振込先 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 (社)高分子学会＞ 郵便振込＜00110-6-111688 (社)高分子学会＞ 振込手数料は振込人にてご負担下さいますようお願いいたします。 銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書にかえさせていただきます。 問合せ先 (社)高分子学会　06-2印刷・情報記録・表示研究会研究会係 〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ﾋﾞﾙ6F TEL 03-5540-3771　　FAX 03-5540-3737 ※Webでのお申し込みは6月29日(木)午前までとさせていただきます。以降は上記宛お問い合わせ下さい。