第30回高分子表面研究会講座
高分子表面の分光分析
趣旨 高分子材料における表面物性は、それが置かれた環境や、接触する対象物（すなわち界面）によってさまざまに変化するため、高分子表面を正しく評価し、理解することは、材料開発においても極めて重要です。本講座では、高分子表面の分光分析に焦点を当て、振動分光（赤外、ラマン、SFG）、X線分光、電子分光等について、当該分野の第一線でご活躍の６名の講師の方々を、産・官・学からお迎えし、分子配向や表面・界面偏析など、表面・界面のキャラクタリゼーションについて分かりやすく解説いただくとともに、最近の研究成果や技術動向についてのご講演をいただきます。多数の皆様のご参加をお待ちしております。
主催 高分子学会　高分子表面研究会
協賛 （予定）日本化学会、応用物理学会、日本表面科学会、色材協会、日本分析化学会、日本材料学会、 日本接着学会、繊維学会
開催日 2012年07月06日　10:25～16:45
開催場所 東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2

交通 JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線　飯田橋駅下車　徒歩10分、都営地下鉄大江戸線　牛込神楽坂駅　徒歩10分
プログラム ＜10：25～10：30＞　開会の挨拶

＜10：30～11：20＞
1.「高分子表面・界面をいかに捉えるか」
（神戸大学）西野　孝


＜11：20～12：10＞
2.「赤外反射分光法による高分子表面構造解析」
（京都大学）長谷川健


＜13：10～14：00＞
3.「ラマン分光法による分子配向解析の基礎と応用」
（富士フイルム）高橋洋平


＜14：00～14：50＞
4.「和周波発生分光を用いた高分子表面・界面分析」
（産業技術総合研究所）宮前孝行


＜15：00～15：50＞
5.「放射光X線分光法による高分子材料の解析」
（住友ゴム工業）岸本浩通


＜15：50～16:40＞
6．「Arクラスタービームを用いた表面、界面のXPS」
（アルバック　ファイ）眞田則明


＜16：40～16：45＞　閉会の挨拶
受付期間 2012年05月01日～2012年07月05日
参加要領 1)　定員　　　　　　100名
　
2)　参加費（税込）　①企業13,650円　②大学・官公庁5,250円　③学生2,100円　④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員2,100円　⑤ 高分子表面研究会メンバー　(a)企業10,500円　(b)大学・官公庁4,200円
　
3）申込方法　高分子学会学会申込サイトhttp://www.spsj.or.jp/entry/からお申込いただくか、下記申込用紙にご記入いただき、FAXまたは郵便にてご送付の上、参加費を7月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。

4) 振込先 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店(普) 1126232 名義 シャ）コウブンシガツカイ＞
郵便振替＜00110-6-111688　　名義 シャ）コウブンシガツカイ＞


※振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。

申込先　高分子学会 第30回高分子表面研究会講座係
〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F
電話03－5540－3771　 Fax03－5540－3737