第31回高分子表面研究会講座
表面界面現象の基礎と量子ビームによる解析・制御の最前線
趣旨 高分子材料における表面物性は、それが置かれた環境や、接触する対象物（すなわち界面）によってさまざまに変化するため、高分子表面を正しく評価し、理解することは、材料開発においても極めて重要です。本講座では、高分子表面・界面が特に重要となる接着に焦点を当て、接着の基礎から量子ビームを用いた最新の表面・界面分析、さらには接着性の制御に関わる表面改質法等について、当該分野の第一線でご活躍の５名の講師の方々を、産・官・学からお迎えし、原理や分析手法のテクニックなどを含めた基礎から最近の研究成果や技術動向まで、実例を交えて分かりやすく解説していただきます。また、最後には講師を囲んだ質問コーナーに加え、高分子表面・界面に関わる皆様の相互交流を目的とした交流会も予定しております。多数の皆様のご参加をお待ちしております。
主催 高分子学会　高分子表面研究会
協賛 （予定）日本化学会、応用物理学会、日本表面科学会、色材協会、日本分析化学会、日本材料学会、 日本接着学会、繊維学会
開催日 2013年07月05日　09:55～18:00
開催場所 東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2

交通 JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線　飯田橋駅下車　徒歩10分、都営地下鉄大江戸線　牛込神楽坂駅　徒歩10分
プログラム ※講座終了後に、交流会を開催いたします!!ぜひご参加ください。

＜ 9：55～10：00＞　開会の挨拶
＜10：00～11：00＞
1.「接着の基礎～界面の古典的分子論」
（接着技術コンサルタント）三刀基郷

　接着接合物がその機能を発揮するためには、被着材と接着剤界面に強い相互作用力が働いていなければならない。接合界面の相互作用にはアンカー効果、化学結合、拡散、静電気引力、分子間力、酸－塩基相互作用などの諸説が唱えられているが、接合界面に普遍的に存在する相互作用力は分子間力である。本講演では、分子間力による界面の相互作用を評価する手法を紹介し、はく離接着強さとの関連について述べる。

＜11：00～12：00＞
2.「放射光を用いたNEXAFS分光法の基礎と高分子表面解析への応用」
（九州シンクロトロン光研究センター）岡島敏浩

　国内外の放射光施設の充実により、軟X線領域で行うNEXAFS分光法は、有機化合物の表面・界面の化学結合状態を評価する手法として近年活発な利用が行われている。本講演では、得られたスペクトルから有用な情報を引き出すために必要な、試料調整のテクニックや手法の原理、特徴などの基礎的内容の解説を行い、有機化合物の表面・界面の解析に応用した幾つかの例を示す。

＜13：00～14：00＞
3.「X線/中性子測定法の基礎と新規高分子材料開発への応用～高分子ナノ界面における構造とダイナミクス～」
(Stony Brook Univ.）古賀忠典

　最近、高分子/無機固体（ナノ粒子を含めた）界面で形成される高分子の吸着層（ナノメートルスケール）が材料の諸物性に大きな影響を及ぼす事が明らかになってきている。本講演では、様々な放射光X線/中性子測定手法（特に、反射率法および光子相関分光法）を組み合わせ、本手法の基礎的内容の解説から、この界面で形成される高分子鎖のユニークな吸着構造とそのダイナミクスについて議論する。

＜14：00～15：00＞
4.「電子線（ＥＢ）硬化技術を用いた化粧シートの開発」
（大日本印刷）折笠利幸

　電子線（EB）の工業的利用は、架橋や滅菌、硬化等さまざまな分野で行われてきた。その中で樹脂を硬化し塗膜を形成するEB硬化技術に関しては、熱硬化、紫外線硬化等の他の硬化技術と比較して、その特徴を生かすことによりさまざまな展開が可能となる。本講演では、EB硬化技術を用いたコーティング技術、及びその技術を応用した化粧シートへの機能性付与という観点からその特徴と有用性を述べる。

＜15：10～16：10＞
5.「量子ビーム誘起化学反応を利用した高分子材料の表面改質及び接着性改良」
（早稲田大）大島明博

　電子線やγ線に代表される電離性放射線は、比較的物質透過能力が高く、物質全体においてほぼ均一な化学反応を誘起できるが、我々のグループでは、物質媒体への量子ビームのエネルギー付与技術を駆使することで、数マイクロ以下の表層領域において化学反応（グラフト・架橋反応等）を誘起し改質する技術を研究開発している。本講演では、従来の表面改質技術に替わる量子ビーム誘起化学反応による高分子材料の表面改質技術を紹介すると共にその応用としての接着性改良等に関しても述べる。

＜16：10～16：40＞　質問コーナー

＜16：40～18：00＞　交流会　　　
受付期間 2013年04月04日～2013年07月04日
参加要領 1)　定員　　　　　　100名
　
2)　参加費（税込）　①企業13,650円　②大学・官公庁5,250円　③学生2,100円　④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員2,100円　⑤ 高分子表面研究会メンバー　(a)企業10,500円　(b)大学・官公庁4,200円
　
3）申込方法　本サイトよりお申込みいただき、参加費を7月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書（希望者のみ）を順次送付いたします。

4) 振込先 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店(普) 1126232 名義 シャ）コウブンシガツカイ＞
郵便振替＜00110-6-111688　　名義 シャ）コウブンシガツカイ＞


※振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。

※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。

申込先　高分子学会 第31回高分子表面研究会講座係
104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F
電話03－5540－3771　 Fax03－5540－3737