13-2高分子表面研究会
エレクトロニクス分野に用いる材料の界面・表面制御技術 |
趣旨 |
エレクトロニクス分野では軽量化、高強度化、薄膜化技術等、さまざまな高機能技術が要求されています。これに伴い、材料の表面・界面における化学・物理は製品設計に欠かせない実用上非常に重要な分野として位置づけられています。今回は電子機器、次世代表示媒体などに用いている材料に関する研究・開発をターゲットに、表面自由エネルギー制御、異種材料の界面、分子間力、化学結合等の設計・制御である基礎編から、製品形態に至るまでご活躍されている先生方をお迎えし、研究テーマや製品設計についてご講演頂きます。 ここで講演される表面・界面の制御技術の多くはエレクトロニクス分野の研究のみならず、自然環境や生活環境に関する科学にも貢献し発展することを期待します。
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主催 |
高分子学会 高分子表面研究会 |
協賛 |
日本化学会、応用物理学会、色材協会、繊維学会、日本材料学会、日本接着学会、日本表面科学会、日本分析化学会(予定) |
開催日 |
2014年02月07日 10:25〜16:35 |
開催場所 |
東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム
東京都新宿区神楽坂4-2-2
Tel:03-3260-4271
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交通 |
JR総武線、地下鉄有楽町線・東西線・南北線 飯田橋駅下車 徒歩10分、都営地下鉄大江戸線 牛込神楽坂駅 徒歩10分 |
プログラム |
<10:25〜10:30> 開会挨拶 <10:30〜11:15> 1.超撥水・超親水の基礎−フッ素樹脂表面の超親水化−(埼玉工大院工)矢嶋 龍彦 <11:15〜12:00> 2.アモルファス酸化物半導体の特徴とフレキシブル応用(東工大)神谷 利夫
<13:15〜14:00> 3.アクリル/エポキシ系ナノコンポジット接着剤のレオロジー挙動(山形大院理工)杉本 昌隆
<14:00〜14:45> 4.パーヒドロポリシラザンを用いたバリアフィルムの高機能化(東工大院理工)斎藤 礼子 **会誌「高分子」1月号のタイトル記載に誤りがございました。 上記タイトルが正式となります。お詫びして訂正申し上げます。
<15:00〜15:45> 5.複素縮合芳香族を用いた有機半導体の開発と応用(理研)瀧宮 和男
<15:45〜16:30> 6.異種材料間の特異的な構造形成とその界面によって実現する光拡散フィルムの基礎と応用(リンテック)草間 健太郎
<16:30〜16:35> 閉会挨拶 ※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。
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受付期間 |
2013年11月26日〜2014年02月06日 |
参加要領 |
1)定員 100名 2)参加費(税込) @企業5,250円 A大学・官公庁3,150円 B学生2,100円 C名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員2,100円 D 高分子表面研究会メンバー無料
3)申込方法 本サイトよりお申込ください。参加費はお申込後、2月末までにご送金ください。申込受付後、参加証と請求書(希望者のみ)を順次送付いたします。
4)振込先 銀行振込<三菱東京UFJ銀行銀座支店 普通預金1126232 シヤ)コウブンシガツカイ> 郵便振替<00110-6-111688シヤ)コウブンシガツカイ> 振込手数料は申込者にてご負担くださいますようお願いいたします。 銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書とさせていただきます。
申込先 高分子学会 13-2高分子表面研究会係 〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F 電話03−5540−3771 Fax03−5540−3737
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