POLYMERS Vol.61 No.9
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특집
나노임프린트 기술이 만들어가는 제조업의 미래 -회사별 접근방식-
지금으로부터 약 20여 년 전에는 양산화가 가능한 50nm 미만의 미세 가공기술은 존재하지 않았다. 1995년에 접촉 조형방식의 나노임프린트 리소그래피에 의한 고분자 레지스트 재료의 성형 가공과 금속 나노 가공이 실현되어, 지금은 단일 나노 크기의 반도체 가공 및 장치 연구가 최첨단으로 진행되고 있다. 20nm 미만의 나노 일렉트로닉스 및 패턴화 된 미디어 자기 기록 매체, LED의 고효율화 등을 달성하기 위한 유망한 나노 제조 도구로써 나노임프린트 기술은 주목을 모으고 있다. 본 특집에서는 산업계에서 독자적으로 개발하고 있는 나노임프린트 기술과 관련하여, 각 회사에서 연구 개발을 시작하게 된 경위와 혁신, 지금까지 개발된 독자적인 재료, 프로세스 및 장치를 소개한다.
나카가와, 가이다, 다가야, 마츠이
영문독자를 위한 요약
680

최신 연구결과
683

특집에 부쳐
나노임프린트 기술의 전망 고무로 마사노리
684

토픽
높은 에칭 내성을 갖는 나노임프린트 재료 시마타니 사토시
685
나노임프린트를 위한 UV 경화성 수지의 개발 미야케 히로토
687
고분자 복제주형과 그 대형화 기술 미야자와 다카히데
689
Roll-to-Roll용 SRM(연결부위가 없는 원통형 주형)의 개발 아베 마사유키
691
NIL 주형 −sub-20 nm 패턴의 달성을 위하여− 호가 모리히사
693
나노 가공기술의 산업적인 응용 미야우치 아키히로
695
LED용 나노임프린트 기술 및 장치 개발 고쿠보 미츠노리
697
독자 기술로 도전하는 차세대 반도체 및 HDD 제조 와다 히데유키
699
광통신용 레이저를 위한 나노임프린트의 응용 야나기사와 마사키
701
나노임프린트를 이용한 디바이스 개발 -와이어 그리드 편광소자- 사카모토 히로시
703

폴리만화
705

고분자과학의 최전선
나노임프린트 리소그래피에서의 이형기술 나카가와 마사루
706

성장하는 고분자
그때로부터 10년, 그리고 10년 후의 나에게 와쿠 도모노리

710


Messages: “Work and Life”
Japan Inter-Society Liaison Association Committee for Promoting Equal Participation of Men and Women in Science and Engineering Kazue KURIHARA
711

MACRO Economy
712

SPSJ 60th Anniversary: Messages from Research Group
713

Messages from SPSJ
720
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