2003年11月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2003年11月主催行事

2003 九州・西部-釜山・慶南高分子・繊維合同シンポジウム

主　催 韓国繊維工学会釜山慶南支部　繊維学会西部支部　韓国高分子学会釜山慶南支部　高分子学会九州支部
日　時 11月3日（月）～5日（水）
会　場 韓国釜山市慶南大学 若手研究者による口頭発表，および一般のポスター発表を行います。
口頭発表
11月4日（火）＜8 : 55～12 : 45＞
  1. Kinetic Studies and Applications of Atom Transfer Radical Polymerization
    　　(Pusan National Univ.) Hyun-jong Paik
  2. Molecular Aggregation State and Mechanical Properties of Polyurethane Elastomers
    　　(Nagasaki Univ.) Ken Kojio and Mutsuhisa Furukawa
  3. The Extensional Viscosity and Orientation of Triblock Copolymer
    　　(Pusan National Univ.) Eun Young Kim
  4. Viscoelastic Behaviors of Potassium, Magnesium, and Aluminum Salts of Carboxy Telechelic Poly(ethylene butylene)
    　　(Kyushu Univ.) Syed Atiqur Rahman
  5. Preparation and Environmental Applications of Paperlike Fiber/Photocatalyst Composites
    　　(Kyushu Univ.) Takuya Kitaoka
  6. The Influence of Needle Life during Knitting
    　　(Pusan National Univ.) Young Seok Koo
  7. A Single-step Synthesis of TiO2 Microcapasules in Ionic Liquids and Their Simultaneous Modification with Functional Materials
    　　(Kyushu Univ.) Takuya Nakashima and Nobuo Kimizuka
  8. Novel Fluorene-based Blue Light Emitting Materials
    　　(Gyeongsang National Univ.) Hyung-Sun Kim
ポスター発表
1月4日（火）＜15 : 50～18 : 00＞　ミキサーは11月3日（月）18 : 00～20 : 00，懇親会は11月4日（火）18 : 00～20 : 00に慶南大学27番ビルで行います。
ポスター発表申込
発表を希望される方は，所属，名前（発表者名に下線），発表題目，連絡先，E-mail addressを英語で繊維学会西部支部庶務・会計幹事大石まで電子メールでご連絡下さい。（締切：9月15日(月)まで）
予稿原稿締切
10月1日（水）〔A4判で2枚〕公式ウェブサイト(http://www.polymer.pusan.ac.kr/symposium/index.html)が開設されていますので，ご覧下さい。
連絡先 [840-8502]佐賀市本庄町1　佐賀大学理工学部機能物質化学科　大石祐司　TEL&FAX: 0952-28-8668
E-mail: oishiy@cc.saga-u.ac.jp

第18回高分子エレクトロニクス研究会講座

主題＝最先端ディスプレイ技術と高分子材料
＜趣旨＞CRTに代わるディスプレイとして，液晶ディスプレイはすでに凌駕する勢いを示しています。また有機ELディスプレイも24インチサイズのディスプレイが試作されるなど次世代フラットディスプレイ候補として期待がますます高まっています。
　これらの新規ディスプレイを支える高分子材料に注目し，個々の性能を高めることにより，新規フラットディスプレイ産業への取り組みを考えたいと思います。そして新しいビジネスチャンスを探索したいと存じます。
主　催 高分子学会　高分子エレクトロニクス研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　化学工学会　画像電子学会　石油学会　電気学会　電気化学会　電子情報通信学会　日本印刷学会　日本化学会　日本機械学会　
日　時 11月4日（火），5日（水）
会　場 上智大学中央図書館棟9階921会議室（東京都千代田区紀尾井町7-1）
交　通 JR中央線，地下鉄丸ノ内線・南北線とも「四谷駅」下車　徒歩5分）
講　演
11月4日
＜10 : 00～11 : 50＞
  1. フラットパネルディスプレイの最新研究動向　（NHK技研）佐藤史郎
  2. 反射型，反透過型TFT液晶の開発　（シャープ）津田和彦
＜13 : 10～16 : 50＞
  1. FPDと透明導電膜　（ジオマティック）本松　徹
  2. 有機ELフィルムディスプレイ　（パイオニア）宮寺敏之
  3. デジタル・ネットワーク時代の新応用を切り開くFPD技術　（日経マイクロデバイス）朝倉博史
  4. FPD用の高分子材料　（JSR）熊野厚司
11月5日
＜10 : 00～11 : 40＞
  1. 自己治癒コーティング材　（ナトコ）内山祥彦
  2. 薄膜偏光膜材（Optiva-TVF）によるLCDパネル内偏光層の形成　（ナカン）中西正治
＜13 : 00～16 : 30＞
  1. ICチップ・リライタブル複合材料の展望　（デンソーウェーブ）柴田　彰
  2. 透明導電性フィルム基板　（帝人）御子柴　均
  3. 液晶用カラーフィルターおよびその材料　（東レ）久保田泰生
  4. 三次元ディスプレイの進展　（農工大）高木康博
参加要領 １）定員100名　２）参加費（銀行振込）(1)会社27,300円，(2)大学・官公庁9,450円，(3)学生・ゴールドシルバー3,150円　(4)高分子エレクトロニクス研究会メンバー　(a)会社22,050円，(b)大学・官公庁7,350円　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用をご送金下さい。参加証は順次発送いたします。
申込先 　高分子学会　第18回高分子エレクトロニクス研究会講座係

第18回茨城地区「若手の会」交流会

＜趣旨＞本会は茨城地区の高分子若手研究者の交流，活性化を目的として活動しており，今年で18回目を迎えます。毎年，産官学の研究機関より多数参加いただき非常に活況を呈しております。本年はつくばの「三菱化学（株）・つくばクリエイションセンター」を会場に，参加者全員による自己紹介，招待講演，本会独自の形式で運営される話題提供や特別講演など，多くの企画を盛り込んで開催します。もちろん県外からの参加や，気持ちは若々しいベテラン研究者の参加も大歓迎です。
主　催 高分子学会関東支部
日　時 11月6日（木）10 : 00～7日（金）15 : 00
会　場 三菱化学（株）・つくばクリエイションセンター（つくば市稲岡字寺台828-3　TEL: 029-841-1511）
プログラム
[招待講演]
  1. 高分子と液晶の接点で見出されたバナナ型液晶-バナナが分極とキラリティを自発的に発生させる-　（東工大）渡邊順次
  2. 速液体クロマトグラフィーを利用した共重合体の組成分布解析　（農工大）荻野賢司
[特別講演]
  1. 遺伝子改変技術でどこまでが可能になったか　（筑波大）高橋　智
[話題提供]
  1. ケテンシリルアセタールの向山-マイケル反応-　（ジャパンゴアテックス）藤田幸宏
  2. 乾けば耐水性なのに水中でナノ分散するリン脂質ポリマー-メイクアップやスキンケア繊維への展開-　（日本油脂）山本宣之
  3. 高分子複合材料の界面凝集構造と疲労機構に関する研究　（住友化学）小松 晋太郎
  4. ゾルゲル法による有機正孔輸送材料/遷移金属ナノ粒子複合体の作製と評価　（日立化成）横住友美
  5. ポリオレフィン系ブロックポリマーのエマルションの展開　（クラレ）松永修始・石浦一成・吉原資二
[ポスターセッション]数十件予定　（飛び入り参加大歓迎です）
参加要領 １）定員70名　２）参加費　(1)企業20,000円，(2)官公庁12,000円，(3)学生3，000円　３）申込方法　氏名，勤務先，連絡先住所，TEL，FAX, E-mailアドレスを記入し，TEL，ハガキ，FAXまたはE-mailでお申込み下さい。またポスターセッションでの発表を希望される方はその旨を明記して下さい。　４）申込締切　10月15日
申込先 [305-0841]つくば市御幸が丘41　（株）クラレ・つくば研究所　井田大嗣　TEL: 029-853-1534　FAX: 029-853-1547
E-mail: Hiro-Ida@kuraray.co.jp
URL：http://staff.aist.go.jp/sugiyama-j/wakate

第15回高分子基礎物性研究会講座

主題＝高分子のキャラクタリゼーションとダイナミックス-基礎と測定法-
＜趣旨＞高分子の分子特性の正しい評価とキャラクタリゼーション，ならびにこれらに基づいた分子運動ダイナミックスの解析は，新規な高分子材料の開発，高分子の高性能化，高機能化を進める上で不可欠の課題です。とくに近年，高分子構造の生成原理，モルホロジーの多様性，運動の階層性などの理解が進む中で，高分子成形加工の分子論化と相まって，キャラクタリゼーションとダイナミックスの解析法もより高度化，精緻化されてきています。現場で高分子材料開発にあたっておられる方，新しく高分子の研究に携わるようになった方にとって，高分子キャラクタリゼーションと高分子ダイナミックスの基礎と実技の修得は，これからの研究活動にとって必須のテーマであると言えます。本講座は，企業の若手研究者や学生・大学院生の方々を対象にして，高分子のキャラクタリゼーションとダイナミックスに関する最新の考え方や実験技法を基礎から具体的な実験例・応用例にわたって解説し，それらを利用していただくための一助とすることを目的として企画されました。受講後にも講師の方々に気軽に質問していただけるよう，講師の先生方の連絡先（電子メールアドレス，電話，ファックス）を講演要旨に掲載いたしました。講師の先生方にも快く了解していただいております。質問，相談などにご利用いただければ幸いです。
主　催 高分子学会　高分子基礎物性研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　化学工学会　色材協会　繊維学会　日本化学会　日本ゴム協会　日本分析学会　日本木材学会　日本レオロジー学会
日　時 11月11日（火），12日（水）両日とも　9 : 30～17 : 00
会　場 工学院大学 28階 第一会議室（東京都新宿区西新宿1-24-2　TEL: 03-3342-1211）
交　通 JR新宿駅西口徒歩5分，京王プラザホテル前
講　演
第1日＝11月11日(火)
＜9 : 30～11 : 30＞
  1. 高分子キャラクタリゼーションの基礎　（阪大院理）佐藤尚弘
＜12 : 40～17 : 00＞
  1. 高分子の化学構造分布-クロマトグラフィーとNMRから何がわかるか-　（阪大院基礎工）右手浩一
  2. 高分子熱分析の基礎と応用　（都立大院工）吉田博久
  3. 散乱法で観る高分子複合系の構造　（東工大院理工）野島修一
  4. 高分子の実空間観測　（東大院新領域）下村武史
第2日＝11月12日(水)
＜9 : 30～11 : 30＞
  1. 高分子ダイナミックスの基礎　（京大化研）金谷利治
＜12 : 40～17 : 00＞
  1. 高分子系における計算機シミュレーション　（放送大学）堂寺知成
  2. 固体NMR法による高分子の構造解析　（東工大院理工）安藤慎治
  3. 高分子の動的光散乱法-測定から解析の実際まで-　（群馬大工）窪田健二
  4. レオロジーの基礎から成形加工まで　（金沢大工）新田晃平
参加要領 １）定員100名　２）参加費（銀行振込，含協賛学協会会員）会員　(1)会社27,300円　(2)大学・官公庁9,450円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(4)高分子基礎物性研究会メンバー　a)会社21,840円　b) 大学・官公庁7,560円　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を11月末日までにご送金下さい。参加証と請求書（希望者のみ）は開催約1カ月前から順次ご送付いたします。
申込先 　高分子学会　第15回高分子基礎物性研究会講座係

第34回高分子錯体研究会講座

主題＝イオン性液体―グリーンサステイナブルテクノロジーの新展開―
＜趣旨＞グリーンサステイナブルテクノロジーの観点から，常温で液体であるイオン性液体（常温溶融塩）に関する研究開発が急速に行われてきている。イオン性液体は，不揮発性，不（難）燃性,化学的安定性，低粘度で高極性，高イオン導電性，広い電位窓など多くの興味深い特徴をもち，化学合成，電解合成，触媒反応などに用いる再利用可能なグリーン溶媒として，また新規な電解質溶液としてたいへん期待されている。最近では，イオン性液体のポリマー化や高分子フィルム化も可能になっている。二次電池，電気二重層キャパシタ，イオン伝導性シート，湿式太陽電池，電気メッキなどにおける応用研究が注目されている。一方，高純度化方法の開発，イオン伝導メカニズムや分子構造に関する基礎研究の進展も目覚しい。
　本講座では，新規イオン性液体の合成，物性，解析・評価，各種デバイスへの応用についての最前線の紹介と将来展望について，各界の第一線で活躍されている講師を招いて講座を開催します。
主　催 高分子学会　高分子錯体研究会
協　賛 日本化学会　電気化学会　固体イオニクス学会　応用物理学会
日　時 11月13日（木）9 : 30～17 : 00
会　場 上智大学　中央図書館棟　812会議室（千代田区紀尾井町7-1）
交　通 JR　中央線・総武線/地下鉄　丸ノ内線・南北線/四谷駅下車　徒歩5分
講　演
＜9 : 30～11 : 35＞
挨拶　（高分子錯体研究会運営委員長）大坂武男
  1. 新規イオン性液体の探索と高分子化　（農工大工）大野弘幸
  2. イオン性液体の合成と物性　（広栄化学）山田好美
＜12 : 35～16 : 55＞
  1. イオン性液体がひらく新しい反応場　（東工大院生命理工）北爪智哉
  2. 新規イオン性液体の開発と各種デバイスへの応用　（産総研）松本　一
  3. アンモニウム塩イオン性液体-蓄電デバイスの利用-　（日清紡）佐藤貴哉
  4. イオン性液体の電気二重層キャパシタへの応用　（三菱化学）宇恵　誠
閉会の挨拶　（上智大理工）栗栖安彦
参加要領 １）定員　120名　２）参加費（銀行振込）　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁7,350円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)高分子錯体研究会メンバー(a)会社10,500円　(b)大学・官公庁5,250円　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金下さい。
申込先 　高分子学会　第34回高分子錯体研究会講座係　

第15回高分子学会NMR講座

主題＝基礎と応用コース
＜趣旨＞NMRは近年，高分子の分析，構造解析の分野でますます重要となってきています。高分子学会NMR研究会は1989年よりNMRに関心をもつ人，NMRを使用している人で最新の技術を学びたい人などを対象に，初心者を対象としたビギナーコースや経験者を対象としたアドバンストコースを開催してきました。本年は昨年と同様，「基礎と応用コース」として，応用例に基礎的な解析も含め，実際のNMR測定上の問題点や注意点を含んだ内容で構成しました。普段なにげなく使っているNMRパラメータの意味，応用する上で忘れてはならない基礎的な事項や測定の原理ならびに応用技術，測定上の問題点や注意点などを，NMRに携わる人のためにわかりやすく解説します。さらに，最新のNMR装置と新技術についての紹介を加え，NMRをこれから使おうとしている人，使い始めて日の浅い人たちにとっても，NMRでどのようなことがわかり，どう使われているかがわかるように配慮して企画しました。経験の深浅を問わず，多数の受講を歓迎します。
主　催 高分子学会　NMR研究会
協　賛 日本化学会
日　時 11月14日（金）10 : 00～16 : 40
会　場 京都大学化学研究所（宇治キャンパス）　共同研究棟大セミナー室（1階　CL-110号室）[611-0011]宇治市五ヶ庄
交　通 JR奈良線または京阪宇治線「黄檗」駅下車，徒歩約10分
講　演
＜10 : 00～11 : 40＞
  1. NMR分光法の序論　（京大化研）堀井文敬
  2. 溶液NMRの基礎　（阪大院基礎工）右手浩一
＜13 : 00～16 : 40＞
  1. 溶液NMRの応用-企業における活用例-　（三井化学分析センター）水野　章
  2. 固体NMRの基礎　（京大化研）梶　弘典
  3. 固体NMRの応用-企業における活用例-　（旭化成）山崎　悟
  4. NMR測定・データ処理の注意点　（日本電子）藤井直之
参加要領 定員　100名　２）参加費　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁7,350円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)NMR研究会メンバー　(a)会社10,500円　(b)大学・官公庁5,250円　　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金下さい。
申込先 　高分子学会　第15回高分子学会NMR講座係

第59回武蔵野地区高分子懇話会

主題＝材料プロセッシングの新展開
＜趣旨＞特殊な環境下で材料プロセッシングを行うことにより，機能の向上，新機能の発現が期待されます。超臨界，磁場印加の下での材料プロセッシングの最近の展開を，結晶性高分子，複合体，生体材料を例に取り，基礎，応用を含め，第一線でご活躍の講師の方々にお話いただきます。
主　催 高分子学会関東支部
日　時 11月14日（金）14 : 00～16 : 30
会　場 東京都立大学　国際交流会館　大会議室（八王子市南大沢1-1）
交　通 京王相模原線南大沢駅下車　徒歩10分
講　演
＜14 : 00～16 : 30＞
  1. 磁気プロセッシングの応用　（ポリマテック）飛田雅之
  2. 超臨界法による高分子の高次構造制御とプロセッシングへの可能性　（農工大工）齋藤　拓
  3. 磁場による細胞の動態と構造の制御（東大医）岩坂正和
  4. 見学と懇親会
＜16 : 50～17 : 30＞　見学　（牧野標本館）
＜17 : 30～19 : 30＞　懇親会　（国際交流会館）
参加要領 １）定員60名　２）参加費　無料　３）懇親会費　(1)一般2,000円(2)学生1,000円（当日徴収）　4）申込方法　氏名，所属，TELおよびFAX番号，懇親会の参加の有無を明記の上，はがき，E-mailまたはFAXでお申込み下さい。
申込先 [192-0397]八王子市南大沢1-1　東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻　木村恒久
FAX: 0426-77-2821
E-mail: kimura-tsunehisa@c.metro-u.ac.jp

第14回バイオマテリアル若手研究会

主題＝グライコサイエンスとバイオマテリアル
＜趣旨＞近年の革新的なバイオテクノロジーの発展を背景として，ポリマーを用いたバイオマテリアルは次代を担う研究テーマとして多くの興味が注がれています。
　本研究会では，バイオテクノロジーの分野でご活躍されている若手の先生方の講演と，参加研究者どうしの研究紹介，積極的な意見交換を通じて将来のバイオマテリアル研究の旗手を担える若い力の萌芽を促すことを目的としています。今年は最近進歩が著しいグライコサイエンスとポリマーの融合を目指した新しいバイオマテリアルについてご講演いただきます。
主　催 高分子学会　バイオマテリアル若手研究会
日　時 11月14日（金）13 : 00～15日（土）12 : 00
会　場 大学セミナー・ハウス（東京都八王子市下柚木1987-1）　(http://www.seminarhouse.or.jp)
交　通 (1)京王線北野駅またはJR八王子駅よりバス（京王バス 柚木折返場・南大沢駅行），野猿峠下車　(2)京王相模原線南大沢駅よりバス（京王バス北野駅・八王子駅行），野猿峠下車
プログラム
［依頼講演］
  1. 酵素ハイブリッドと構造色ゲルを用いたグルコースセンシング　（横浜国大）渡邉正義
  2. 糖鎖関連酵素の反応モニタリングと糖鎖チップの調製　（東工大）森　俊明
・参加者によるOHPプレビューおよびポスターセッション
・懇親会　＜14日　21 : 00～＞
参加要領 １）定員120名程度　２）参加費　無料　３）宿泊費　夕・朝食つき5,000円程度（当日徴収）　４）懇親会費　1,000円程度（当日徴収）５）申込方法　氏名，勤務先（学校名），連絡先（E-mailも），電話番号を明記してE-mailまたはFAXでお申込み下さい　６）申込締切　10月6日（月）
申込先 [192-0397]東京都八王子市南大沢1-1-1　東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻　機能システム化学講座（長岡研究室）　水島佳織
TEL: 0426-77-1111（内線4971）　FAX: 0426-77-2821
E-mail: mizushim@comp.metro-u.ac.jp

03-2光反応・電子用材料研究会

主題＝LSIの能力を最大限にひき出す最新実装技術への高分子材料の応用
＜趣旨＞小型，高速，大容量化の電子機器ニーズに対して半導体デバイスは継続的な進化を遂げています。これに伴い，半導体デバイスを電子機器に搭載するための実装技術もますます重要となり，用いられる各種材料への要求も確実により高度なものとなっています。本研究会では実装に利用される最近の高分子材料に焦点をあて，各社エキスパートの方々にご紹介いただくことを通して，今後の材料開発の可能性について議論する場を企画いたしました。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 日本化学会ほか
日　時 11月18日（木）13 : 00～16 : 55
会　場 三菱電機　先端技術総合研究所　大会議室（尼崎市塚口本町8-1-1　TEL 06-6491-8031）
講　演
＜13 : 00～16 : 55＞
  1. 最新JISSO技術　（日本IBM）塚田　裕
  2. ビルドアップ用熱硬化性絶縁材料　（味の素）中村茂雄
  3. 感光性絶縁材料　（日立化成）鍛冶　誠
  4. 半導体ウエハプロセス用テープ　（日東電工）谷川　聡
  5. マイグレーションのない導電接着剤　（ナミックス）鈴木憲一
参加要領 １） 定員60名　２）参加費（銀行振込）(1)会社3,150円，(2)大学・官公庁2,100円，(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)光反応・電子用材料研究会メンバー　無料　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金下さい。参加証は順次発送いたします。
申込先 　高分子学会　03-2光反応・電子用材料研究会係

第8回高分子計算機科学研究会講座

主題＝ソフトマテリアル統合シミュレータOCTAの徹底活用
＜趣旨＞経済産業省およびNEDOの出資による「高機能材料設計プラットフォームの研究開発」（通称「土井プロジェクト」）で開発された「ソフトマテリアルのための統合シミュレータ：OCTA」の公開から1年余りが経ち，すでに多数のサイトに導入されています。昨年度の高分子計算機科学研究会講座では，オリジナルのCDを配布し，インストールから簡単な操作法を体験していただきました。本年度は，商用版としてユーザーフレンドリーに大幅に改良されたJ-OCTAで，具体的な問題解決のためのOCTA活用法の講習会を行います。参加者にはPC（注）をお持ちいただき，その場で配布いたします。J-OCTAの評価版（（株）日本総合研究所提供）をインストールしていただき，シナリオナビゲータやシナリオサンプルなどの誘導で，具体的な課題をどのように解決するか，OCTAのいっそう高度で容易な使い方を習得していただきます。また，参加者の抱えていらっしゃる個々の問題について，いかにOCTAでアプローチするかを討論していただく場も設けます。昨年の講習会に参加された方にも，今回はじめての方にも新鮮で無理のない内容にいたしました。多くの皆様のご参加をお待ちしております。
　なお，会場の座席数の都合で定員になり次第，受付を終了したします。参加申込みは研究会ホームページ(http://www.eastcom.ne.jp/~polycomp/)でも受付けています。
（参　考）octa, J-OCTAのホームページocta.jp,
http://www.jri.co.jp/pro-eng/j-octa/
主　催 高分子学会　高分子計算機科学研究会
協　賛 （予定）日本化学会
日　時 11月21日（金）9 : 45～17 : 00
会　場 日本HP　天王州本社23F　カスタマー・コンファレンス・センター（東京都品川区東品川2-2-24　天王洲セントラルタワー）http://www.jpn.hp.com/biz/topics/seminar/seminar_room.html
交　通 (1)東京モノレール「天王洲アイル駅」下車，徒歩3分　(2)りんかい線「天王洲アイル駅」下車，スカイウォークを徒歩5分
講　演
＜9 : 30～12 : 00＞
  1. OCTAの概要と現状，J-OCTAの位置付け　（名大院工）土井正男
  2. 粗視化分子動力学シミュレータCOGNAC解説　（旭化成）青柳岳司
  3. 動的平均場シミュレータSUSHI解説　（日本ゼオン）本田　隆
  4. 多相構造シミュレータMUFFIN解説　（日本総研）山上達也
＜13 : 00～16 : 00＞
  1. J-OCTAとそれを通じてのOCTAの基本的な使い方の実習（日本総研）
＜16 : 00～17 : 00＞
  1. 討論
    （注）PCの仕様：(1)最低限スペック〈PentiumIII（またはCeleron）733 MHz同等以上，メモリ256 MB以上，HD残り1.5 GB以上，OS Windows2000またはXP，ハードウェアまたはソフトウェアでOpenGLに対応しているグラフィックチップ〉　(2)推奨スペック＜PentiumIII（またはCeleron）1 GHz同等以上，メモリ512 MB，3Dハードウェアアクセラレーション機能がついたグラフィックチップ，例：GeForce4 GO，MOBILITY RADEON 7500/9000＞
参加要領 １）定員70名　２）参加費（銀行振込，含協賛学協会会員）会員　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)高分子計算機科学研究会メンバー　a)会社10,500円　b) 大学・官公庁4,200円　３）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を11月末日までにご送金下さい。参加証と請求書（希望者のみ）は開催約1カ月前から順次ご送付いたします。
申込先 　高分子学会　第8回高分子計算機科学研究会講座係