2004年５月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2004年５月主催行事

第56回次代の高分子研究者のための講演・見学会

主　催 高分子学会関西支部
日　時 5月7日（金） 13 : 00～17 : 00
会　場 京都大学桂キャンパスBクラスター　桂ホール（京都市西京区京都大学桂）
交　通 阪急桂駅 より 市バス西6系統または京都交通バス桂坂中央（京大桂キャンパス経由）にて12分，京大桂キャンパス前下車。詳細はhttp://www.kyoto-u.ac.jp/の交通・キャンパス案内をご覧ください。
プログラム
＜13 : 00～15 : 00＞
  1. 　超臨界二酸化炭素で高分子を料理する? !　　（京大院工）大嶋正裕
  2. 　Bio-Based Polymers: つながっていく夢　　（京工繊大繊維）木村良晴
＜15 : 20～17 : 00＞
  1. 見学　京都大学桂キャンパス　A・Bクラスター研究施設
参加要領 参加費無料（当日受付）
連絡先 [536-8553] 大阪市城東区森之宮1-6-50
大阪市立工業研究所内　高分子学会関西支部
TEL/FAX 06-6969-4428
E-mail: koubunshi@kansai.email.ne.jp

04-1高分子エレクトロニクス研究会

主題＝RFID（無線ICタグ）と有機エレクトロニクス材料
＜趣旨＞ICチップとアンテナから構成されるRFID（無線ICタグ）は，従来のバーコードなどにない高い機能拡張性やセキュリティーの確保などがあります。また，電波により，離れた場所からのデータの読み書きや同時複数確認が実現できるため，新しいアプリケーションやサービスが期待できます。本研究会では，この無線ICタグへの視認性の付与や普及に向けた有機エレクトロニクス材料の取組みと現状および今後の動向を展望いたします。
主　催 高分子学会　高分子エレクトロニクス研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会
日　時 5月10日（月）　13 : 30～17 : 10
会　場 上智大学中央図書館棟8階812会議室（東京都千代田区紀尾井町7-1）
交　通 JR中央線，地下鉄丸の内線・南北線とも「四ツ谷駅」下車　徒歩5分
講　演
＜13 : 30～17 : 10＞
  1. 　無線ICタグの現状と展望：無線ICタグに望むこと　　（経産省商務情報政策局）村山　智
  2. 　無線ICタグへの展開を考慮した有機エレクトロニクス材料　　（九工大院生命体）金藤敬一
  3. 　リライト材の無線ICタグへの応用　　（三菱製紙）藤田郁夫
  4. 　光書き込み型無線IC・リライト複合媒体タグの開発　　（クロミック）開米　満
参加要領 1) 定員50名　2) 参加費（銀行振込，手数料申込者負担）　会員(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子エレクトロニクス研究会メンバー無料　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　04-1高分子エレクトロニクス研究会係

04-1　高分子錯体研究会

主題＝「精密制御」と高分子-合成・構造・集積・機能-
＜趣旨＞これまでも「精密制御」は高分子錯体研究における重要なテーマでありました。しかし，近年のナノサイエンス・ナノテクノロジーの急速な発達によって，「精密制御」は高分子をナノ材料として利用するために不可欠なキーワードとなっています。分子量分布の小さい高分子の精密合成法や，高分子構造の精密制御，高分子集合体の精密構築，高分子機能の精密コントロールなど，ナノ材料として期待される精密さへの要求は，高分子の合成・構造・集積・機能の全般にわたります。本研究会では，このような観点から高分子のさまざまな「精密制御」にスポットをあて，各分野の最先端を進まれる先生方に「精密制御」の方法論と最近の試みを講演していただき，討論を行います。
主　催 高分子学会　高分子錯体研究会
協　賛 （予定）日本化学会　電気化学会　錯体化学会　触媒学会
日　時 5月17日（月）13 : 00～17 : 30
会　場 慶應義塾大学　矢上キャンパス　創想館2階　セミナールーム3（横浜市港北区日吉3-14-1）
交　通 東急東横線「日吉駅」下車　徒歩15分
講　演
＜13 : 00～17 : 30＞
  1. 　分子集合体を利用した光制御型磁性材料の創製　　（慶應大理工）栄長泰明
  2. 　構造が明確なポルフィリン多量体の合成と性質：Concept Transfer from the Life Science into Advanced Material Science　　（都立大院理）杉浦健一
  3. 　動的共有結合化学に基づく分子集積-新しいトポロジカルポリマーの戦略合成-　　（東工大院理工）高田十志和
  4. 　光学活性高分子の不斉合成　　（東大院工）野崎京子
  5. 　鋳型法による高分子ゲル微粒子の精密調製およびその集合体の機能化　　（横国大院工）竹岡敬和
参加要領 1) 定員80名　2) 参加費（銀行振込，手数料申込者負担）(1)会社3,150円　(2)大学・官庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー 1,050円　(4)高分子錯体研究会メンバー無料　　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。開催約1カ月前より参加証，請求書（希望者のみ）を送付します。
申込先 高分子学会04-1高分子錯体研究会係

04-1光反応･電子用材料研究会

主題＝表面・界面の構造制御とナノテクノロジー
＜趣旨＞　有機分子そのものや，それを加工・複合化・機能化した超微細構造の研究，いわゆるナノテクノロジー分野において，その形成にかかわる研究から機能発現・応用の研究へと大きく局面が変わりつつあります。光・電子機能を発現させるメカニズムを実際の材料への応用につなげていく，またそれを技術シーズとして新しい事業へと展開していく上で，今一度しっかりとした基礎研究を鑑みる必要性から，専門の先生方からの講演を企画しました。
主　催 高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会
日　時 5月18日（火）13 : 00～16 : 40
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
交　通 東急目黒線・東急大井町線「大岡山駅」下車　徒歩約1分
講　演
＜13 : 00～16 : 40＞
  1. 　光応答ナノ薄膜を用いた物質制御　　（名大院工）関　隆広
  2. 　ブロックコポリマーの自己組織化を利用したナノリソグラフィーと電子材料応用　　（東芝研究開発セ）浅川鋼児
  3. 　高分子ナノ組織体を用いた機能界面の構築　　（東北大多元研）宮下徳治
  4. 　シリコン表面における高分子ナノ構造形成と操作　　（NTT物性基礎研）古川一暁
参加要領 1) 定員60名　2) 参加費（銀行振込，手数料申込者負担）(1)会社3,150円，(2)大学・官公庁2,100円，(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)光反応･電子用材料研究会メンバー　無料　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。参加証は順次発送いたします。
申込先 高分子学会　04-1光反応･電子用材料研究会係