2010年1月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2010年1月主催行事

09-2高分子表面研究会

主題＝高分子表面・界面の最新計測技術

＜趣旨＞高分子表面・界面は，バルクの延長ではなく，表面・界面に特有の現象を発現します。したがって，高分子表面・界面の特性を理解するためには，表面・界面に特化した計測技術が必須です。材料分野全般において，計測技術の進歩が優れた材料開発に役立っていることは周知の事実です。
今回の研究会では，表面・界面に適応し得る最新の計測技術を研究されている講師の方々をお招きし，計測技術の紹介と解析例についてご講演をいただきます。
主　催 高分子学会　高分子表面研究会
協　賛 日本化学会，応用物理学会，色材協会，繊維学会，日本材料学会，日本接着学会，日本表面科学会，日本分析化学会（予定）
日　時 平成22年1月15日（金）
10 : 10～16 : 45
会　場 東京理科大学森戸記念館第1フォーラム（東京都新宿区神楽坂4-2-2　TEL 03-3260-4271）
交　通 JR総武線，地下鉄有楽町線・東西線・南北線　飯田橋駅下車　徒歩10分，都営地下鉄大江戸線　牛込神楽坂駅　徒歩10分
プログラム
  1. 赤外分光法を中心とする高分子材料のデプスプロファイル
    （群馬大学大学院）西岡利勝
  2. シリカ粒子表面のシランカップリング剤処理層のパルスNMRによる構造解析
    （大阪工業大学）中村吉伸
  3. 単一分子観察による高分子鎖の構造とダイナミクスの評価
    （京都大学）青木裕之
  4. 液体界面における高分子の凝集状態とダイナミクス
    （九州大学大学院）田中敬二
  5. 原子間力顕微鏡を用いた高分子表面・単一高分子鎖の力学特性
    （東北大学）中嶋　健
  6. 電子顕微鏡による高分子界面と接着の解析
    （産業技術総合研究所）堀内　伸
　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。あらかじめご了承下さい。
参加要領 1）定員　100名　2）参加費（税込）　①企業5,250円　②大学・官公庁3,150円　③学生2,100円　④名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員2,100円　⑤高分子表面研究会メンバー無料　3）申込方法　学会ホームページまたは申込用紙（851頁）にご記入の上，FAXまたは郵送にて送付ください。参加証，請求書を随時送付いたしますので，請求書到着後，1月末日までに参加費をご送金下さい。
申込先 高分子学会
09-2高分子表面研究会係

第19回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝先端リソグラフィの展望

＜趣旨＞半導体の進歩に必須である加工の微細化は，露光波長の短波長化と高NA化によりこれまで順調に進展してきました。しかし今後のさらなる微細化においては，露光技術はもとより，要求条件を満たすレジスト材料のプラットフォームも多様化する状況にあります。そこで講座では，材料開発の基本に立ち戻り，将来のリソグラフィ技術に向けた材料見通しとその特性について，各分野の専門の先生方による講演会を企画しました。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 日本化学会　応用物理学会（予定）
日　時 平成22年1月20日（水）
10 : 00～16 : 50
会　場 東京理科大学　森戸記念館　地下1階　第一フォーラム（東京都新宿区神楽坂4-2-2　TEL 03-5225-1033）
交　通 JR総武線，地下鉄有楽町線，東西線，南北線飯田橋駅下車　徒歩10分　
都営地下鉄　牛込神楽坂駅　徒歩10分
（http://www.tus.ac.jp/info/access/kagcamp.html　参照）
プログラム
＜10 : 00～11 : 50＞
開会挨拶
  1. 【基調講演】先端リソグラフィー用電子材料の展望：－高分子レジストから分子レジストへ－
    （神奈川大工）西久保忠臣
  2. リソグラフィ技術の現状と将来展望
    （東芝）井上壮一
＜13 : 00～16 : 50＞
  1. EUVレジストの開発状況
    （半導体先端テクノロジーズ）老泉博明
  2. EUVレジスト材料開発の現状と将来展望について
    （兵庫県大高度産研）渡邊健夫
  3. ナノインプリントの材料とプロセス
    （兵庫県大高度産研）松井真二
  4. ブロック共重合体によるDirected Self-Assemblyとリソグラフィ材料への展開
    （東工大理工）早川晃鏡
閉会挨拶
参加要領 1）定員　100名　2） 参加費　①企業13,650円　②大学・官公庁5,250円　③学生2,100円　④名誉・終身・フェロー・ゴールド・シルバー会員2,100円　⑤光反応・電子用材料研究会メンバー　a企業10,500円，b大学・官公庁4,200円　3）申込方法　学会ホームページまたは申込用紙（851頁）に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費を1月末日までにご送金ください。参加証と請求書（希望者のみ）は順次ご送付いたします。
担　当 高分子学会
第19回光反応・電子用材料研究会講座係

09-5ポリマーフロンティア21

主題＝高分子ナノ構造体

＜趣旨＞ポリマーや分子集合体が材料自身の性質により微細で規則的な構造の形成を可能にする自己組織化の技術が近年注目をあつめています。同時に，ナノメーターオーダーの構造を形成する新規な微細構造加工技術も大きな進歩をとげています。そして，これらの技術を用いて次世代の材料（メタマテリアル，インテリジェントマテリアルなど）やデバイス（電子，光学，バイオなど）を創出する研究も盛んになってきています。本公演では，本分野の研究の最前線，およびこれらの研究が拓く未来像についてご紹介いただきます。
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 日本化学会（予定）
日　時 平成22年1月22日（金）
10 : 20～17 : 30
会　場 東京工業大学 百年記念館 フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1）
交　通 東急目黒線・東急大井町線　大岡山駅下車徒歩約1分
プログラム
＜10 : 20～11 : 20＞
  1. 自己組織化ハニカムパターン多孔性高分子薄膜による細胞制御
    （北海道大学）山本貞明
    2. 湿式製膜時における結露現象で，自己組織化的に配列した結露水滴を揮発性鋳型とすることでハニカムパターンを付与した高分子薄膜が細胞培養基材や医療デバイスなどとしての優れた機能について概説する。
＜11 : 20～12 : 20＞
  1. 自己組織化現象を用いた工業化プロセスの構築を目指して
    （三菱レイヨン）魚津吉弘
    2. 自己組織化の手法は，大面積での構造形成が可能で，加工設備は安価なもので済ませられるというメリットを有している。われわれはこの自己組織化現象を利用した工業化プロセスの構築を目指して，研究開発を推進している。
＜13 : 20～14 : 20＞
  1. 金属錯体の自己組織化によるナノマテリアルの開発と特性
    （九州大学）君塚信夫
    2. 自己組織化特性を有する一次元金属錯体ならびに錯体ナノ粒子の設計ならびにそれらの溶液特性について紹介する。また，液―液界面における金錯体のナノレベル散逸構造の形成を例に，非平衡自己組織化現象とナノ科学の接点について述べる。
＜14 : 20～15 : 20＞
  1. ナノ粒子の構造特異機能の創出
    （筑波大学）寺西利治
    2. 本講演では，高品質無機ナノ粒子の一次構造（粒径，形状，結晶構造，組成，相構造）および二次構造（空間配列）制御による，構造特異電子・光・磁気機能の創出について紹介する。
＜15 : 30～16 : 30＞
  1. ナノコーティング法に基づく次世代超微細加工法の開発とナノ構造体の機能化
    （理化学研究所）藤川茂紀
    2. 分子吸着反応を利用したナノコーティングによってナノ薄膜の自立立体化を実現し，これを『超微細加工技術』として発展させ，「国際半導体ロードマップ」で数年後の目標値とされる線幅20nmを超細線作製で実現した。この新方式を発展させさまざまな材料・構造からなるナノ構造体の作製と機能化について紹介する。
＜16 : 30～17 : 30＞
  1. 薄肉大面積マイクロ・ナノ転写成形品のための溶融微細転写プロセス
    （日本製鋼所）伊東　宏
    2. マイクロ・ナノスケールの微細構造体が表面に精度良く転写されたポリマー製品を，ペレット状の熱可塑性樹脂から効率よく製造するための溶融微細転写プロセスについて紹介し，本プロセスの特長および主要な成形事例などについて述べる。
参加要領 1）定員　100名　2）参加費①企業21,000円　②大学・官公庁10,500円　③学生1,050円　④名誉・終身・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員3,150円　⑤年会費制会員※の団体からのご参加は何名様でも割引料金となります。（※グループ・関係会社除く。詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/nenkaihisei. htmlをご覧下さい。）　a）企業16,800円　b）大学・官公庁8,400円　3）申込方法　学会ホームページまたは申込用紙（851頁）にご記入の上，FAXまたは郵送にて送付ください。参加証，請求書を随時送付いたしますので，請求書到着後，1月末日までに参加費をご送金下さい。
連絡先 高分子学会
09-5ポリマーフロンティア21係

第44回北海道支部研究発表会発表募集

主　催 高分子学会北海道支部
会　期 平成22年1月26日（火）
会　場 北海道大学百年記念会館・学術交流会館（札幌市北区）
交　通 JR札幌駅北口より徒歩10分
発表形式・
発表時間		 口頭あるいはポスター
研究発表
申込期間（締切）		 2009年12月21日（月）
発表申込方法 1）講演題目　2）勤務先　3）研究者名（講演者に○印）　4）発表形式（口頭あるいはポスター）　5）優秀講演賞・優秀ポスター賞への応募の有無（有りの場合は会員番号を明記）　6）連絡先（必ずE-mailアドレスを記入のこと）を明記の上，E-mailまたは郵送でお申込ください。FAXでも受け付けます。会場の都合で発表形式の変更をお願いすることがあります。
予稿原稿形式および締切　2010年1月12日（火）講演題目，所属，研究者名（講演者に○印）を明記の上，図表を含めて，A4判1枚に作製しご送付ください。
参加登録・
参加費		 無料
研究発表申込・
予稿原稿提出先		 札幌市北区北13条西8丁目　北海道大学大学院工学研究科 生物機能高分子専攻　佐藤敏文
TEL 011-706-6603　FAX 011-706-6603
E-mail: satoh@poly-bm.eng.hokudai.ac.jp
主催者連絡先 北海道大学大学院工学研究科　生物機能高分子専攻　覚知豊次
E-mail: kakuchi@poly-bm.eng.hokudai.ac.jp