07-1フォトニクスポリマー研究会 フォトニクスポリマーの最新動向
趣旨	フォトニクスポリマーは、液晶ディスプレイ、リアプロジェクションテレビ、光ディスクなどの種々のデジタル機器を支えるキーフォトニクスデバイスの材料として、現在広く用いられています。光ディスクや液晶ディスプレイの発展の歴史からも、新しい機器の実用化のためには多くの新しいデバイスが必要となり、広く普及させるためにはポリマーを用いて安価に提供されることが重要と考えられます。そして、より優れたフォトニクスポリマーデバイス（部材）の開発・実用化のためには、デバイスの動作原理・設計、生産を前提とした成形加工方法などを十分に理解した上でのフォトニクスポリマーの提案・開発が必要とされます。したがって、これからのフォトニクスポリマー分野の発展のためには、業種を超えた情報交換・相互交流が重要と考えられます。フォトニクスポリマー研究会は、研究会活動を通じてフォトニクスポリマーに関わる異業種間の情報交換・相互交流の場を提供し、同分野の発展に寄与することを目的とし、活動を開始します。初回となります本研究会では、ピックアップレンズ、光ディスク、液晶ディスプレイの分野において、最前線で御活躍なさっておられるポリマーメーカーの方々を講師陣にお招きして、各分野の動向についてご講演いただきます。多数の皆様の御参加をお待ちしております。 またフォトニクスポリマー研究会は、現在、会員を募集しております。フォトニクスポリマーに興味をお持ちの方々の積極的なご参加をお待ちしております。
主催	高分子学会　フォトニクスポリマー研究会
協賛	プラスチック成形加工学会　応用物理学会　社団法人日本化学会
開催日	2007年06月29日　13:00〜17:25
開催場所	慶應義塾大学　日吉キャンパス　来往舎　シンポジウムスペース 横浜市港北区日吉4-1-1 http://www.keio.ac.jp/access/hiyoshi.html参照
交通	東急東横線 日吉駅下車(徒歩1分)　※日吉駅に特急は停まりません。 http://www.keio.ac.jp/access/ac_hiyoshi.html参照
プログラム	13:00〜13:05 1.ご挨拶 　　　　　　（フォトニクスポリマー研究会運営委員長・慶應大理工）小池 康博 13:05〜13:55 2.液晶ディスプレイ向け高分子材料の最新動向 　　　　　　（住友化学）松岡 祥樹 13:55〜14:45 3.青色LDを用いたマイクロリフレクター記録再生光ディスク 　　　　　　（ソニー）内山 　浩 14:45〜15:35 4.アクリル系ポリマーとフォトニクス 　　　　　　（三菱レイヨン）魚津 吉弘 15:45〜16:35 5.位相差フィルムの分子設計による複屈折率の波長分散制御 　　　　　　（帝人）内山 昭彦 16:35〜17:25 6.環状オレフィン共重合体の光学用途への展開 　　　　　　（三井化学）渋谷　 篤
受付期間	2007年03月15日〜2007年06月28日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生/ゴールド･シルバー 1,050円 　　フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込の上、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 　　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 問合先 　　（社）高分子学会　07‐1フォトニクスポリマー研究会係 　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは6月28日(木)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせ下さい。