08-1光反応･電子用材料研究会 フォトクロミック材料の新しい応用展開
趣旨	光照射により、分子構造が可逆的に変化し、それに伴なって、色彩や屈折率などの光学的特性や物質形状などが可逆的に変化する、いわゆるフォトクロミック材料が、近年、光メモリーや光スイッチなどのフォトニクスへの応用や、光駆動アクチュエーターの開発の観点から新たな注目を集めています。この分野の研究は日本が先導的役割を果たしてきたと言っても過言ではなく、国内の数多くの研究者が活発な研究を繰り広げています。しかしながら、現時点では本当の意味で実用化に至っているフォトクロミック材料はないに等しく、今後、産官学が協力しながら、これまでに指向されてきた用途にとどまらず、新しい発想に基づいた材料開発と応用展開が必要だと思われます。本研究会では、新しいフォトクロミック材料の開発と応用に携わっておられる四名の先生方に、最新の研究成果と今後の展望についてご講演いただき、フォトクロミック材料の新しい応用展開について議論・情報交換する場にしたいと思います。多数の方々、とくに産業界からの多数の御参加をお待ちしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2008年05月13日　13:00〜16:50
開催場所	東京理科大学　森戸記念館　地下１階　第一フォーラム 新宿区神楽坂4-2-2 Tel：03-5225-1033
交通	JR総武線、地下鉄有楽町線、東西線、南北線飯田橋駅下車　徒歩10分 都営地下鉄　牛込神楽坂駅　徒歩10分 　　　　　（http://www.tus.ac.jp/info/access/kagcamp.html　参照）
プログラム	13:00〜13:50　 1．ラジカル散逸抑制ＨＡＢＩのフォトクロミズム 　　　　　　　　　　　　　　　　　（青学大理工）阿部　二朗 13:55〜14:45 2．新しい光機能材料創成を目指したフォトクロミック希土類錯体の開発 　　　　　　　　　　　　　　　　　（奈良先端大物質創成）長谷川靖哉 15:05〜15:55 3．フォトクロミック・ジアリールエテンの新機能 　　−有機半導体メモリと金属蒸着選択性− 　　　　　　　　　　　　　　　　　（阪教大教育）辻岡　強 16:00〜16:50 4．形状を光で自在に制御できるフォトクロミックポリマーゲル材料とその応用 　　　　　　　　　　　　　　　　　（産総研バイオニクス研セ）須丸　公雄
受付期間	2008年03月14日〜2008年05月12日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を5月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　（社）高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは5月12日(月)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。