08-2フォトニクスポリマー研究会 フォトニクスポリマーの基礎と新展開
趣旨	光の波長より小さいナノ構造と光との相互作用が生み出す新しい現象・機能を活用することにより、従来のデバイスを超えた優れた新規フォトニクスデバイスが実現できる可能性があります。またすでに実用化されているフォトニクスデバイスにおいても、精密な評価・基礎理論に基づいた詳細な解析を行うことにより、新たな発見・性能向上につながる可能性があります。本講座では、これらの分野の最前線で御活躍なさっておられる方々を講師陣にお招きして、ご講演いただきます。多数の皆様の御参加をお待ちしております。
主催	高分子学会　フォトニクスポリマー研究会
協賛	応用物理学会　日本化学会　プラスチック成形加工学会
開催日	2008年10月09日　13:00〜16:50
開催場所	慶應義塾大学日吉キャンパス来往舎シンポジウムスペース 横浜市港北区日吉4-1-1 http://www.keio.ac.jp/access/hiyoshi.html参照
交通	東急東横線 日吉駅下車(徒歩1分)　※日吉駅に特急は停まりません。 http://www.keio.ac.jp/access/ac_hiyoshi.html参照
プログラム	<13:00−14:00> 基調講演 1)　ナノフォトニクスの未来 　（理化学研究所）河田　聡 <14:00−14:50> 2)　光学機能フィルムのための光弾性測定 　（関西大学システム理工学部）田實　佳郎 <15:10−16:00> 3)　非晶構造制御による光学ポリマー設計 　（千歳科学技術大学総合光科学部）谷尾　宣久 <16:00−16:50> 4)　光学レンズの機能と樹脂に求められる特性 　（リコー）酒井　浩司
受付期間	2008年06月28日〜2008年10月08日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 　　フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込の上、参加費を10月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 　　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 問合先 　　（社）高分子学会　フォトニクスポリマー研究会係 　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは10月8日(水)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。