08-2光反応･電子用材料研究会 新しい３次元微細構造の制御と応用
趣旨	近年、多くのナノ加工法・ナノ構造材料・ナノ構造素子が提案される中、依然高分子材料は、材料のナノ加工におけるキーマテリアルであり続けています。また、既存の微細加工・構造の形成は、やはり材料を２次元的な"面"として捉え、限られた面積を如何に精密に加工し、集積していくかという点に集約して研究・開発がすすめられています。しかし、新たに提案されつつある光・電子機能を有する微細構造素子を見てみると、今後の"集積"の方向は、"面"の制約を離れ、３次元的な方向へ活路を見出すことが明らかでしょう。そのような環境下、空間に伸びていく微細構造を代表する研究として、高度な高分子３次元ナノ構造解析技術や３次元集積技術、極めて高いアスペクト比を有する微細構造などの研究の第一線で活躍する講師の先生方をお招きして、将来の高分子反応・電子用材料を牽引する「新しい３次元微細構造の制御と応用」に関する研究会を企画いたしました。多くの方のご来聴をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2008年11月12日　13:00〜16:50
開催場所	東京工業大学百年記念館フェライト会議室 目黒区大岡山2-12-1 Tel：03-5734-3331
交通	東急目黒線・東急大井町線　大岡山駅下車　徒歩1分 (http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html)
プログラム	13:00〜13:50 1．ブロック共重合体のメゾヘリカル構造の観察と制御 　　　　　　　　　　　　　　　（京都工芸繊維大学院工芸科学研究科）陣内　浩司 13:55〜14:45 2．内部に微細構造を持つポリマー微粒子の自己組織的作製 　　　　　　　　　　　　　　　（東北大学多元物質科学研究所）藪　浩 15:05〜15:55 3．ブロック共重合体の新規分子設計によるナノ相分離構造制御 　　　　　　　　　　　　　　　（名古屋大学大学院工学研究科）高野　敦志 16:00〜16:50 4．集束プロトンビーム描画による高アスペクト比３次元構造の形成と応用 　　　　　　　　　　　　　　　（芝浦工業大学工学部）西川　宏之
受付期間	2008年08月01日〜2008年11月07日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を11月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　（社）高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 FAX　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは11月7日(金)までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。