第18回光反応・電子用材料研究会講座 先端リソグラフィ／微細加工技術の展望
趣旨	半導体の進歩に必須である微細化は、これまで、露光波長の短波長化、そして、高NA化により、順調に進展してきました。しかしながら今後の更なる微細化におきましては、露光技術はもとより、要求条件を満たすレジスト材料のプラットフォームも多様化してくる状況にあります。そこで本研究会講座では、材料開発の基本に立ち戻って、将来のリソグラフィ技術に向けた材料見通しとその特性について、専門の先生方からのご講演を企画しました。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2009年01月21日　10:00〜16:50
開催場所	東京工業大学百年記念館フェライト会議室 目黒区大岡山2-12-1 Tel：03-5734-3331
交通	東急目黒線・東急大井町線　大岡山駅下車　徒歩1分 http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html
プログラム	10:00〜10:10　開会挨拶 10:10〜11:00 1.　リソグラフィ技術のロードマップと現状 （東芝　セミコンダクター社）東川　　巌 11:00〜11:50 2.　ＥＵＶレジストの反応機構と材料設計 （大阪大学）古澤　孝弘 13:00〜13:50 3.　低分子アモルファスレジスト （東京工業大学）上田　　充 13:50〜14:40 4.　ナノインプリント用光機能性ポリマー （大阪府立大学）白井　正充 15:00〜15:50 5.　16nm技術ノードに向けたブロック共重合体リソグラフィ （NTT物性科学基礎研究所）山口　　徹 15:50〜16:40 6.　ブロックコポリマーテンプレート法とナノ物性工学 （東京工業大学）彌田　智一 16:40〜16:50 閉会挨拶
受付期間	2008年11月04日〜2009年01月20日
参加要領	1) 定員 100名 2) 参加費　企業　13,650円、大学・官公庁　5,250円、学生　2,100円 　　　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員　2,100円 　　　　(光反応･電子用材料研究会メンバー　企業10,500円、大学・官公庁4,200円) 3) 申込方法　WEBからお申込後、参加費を1月末日までにご送金ください。 　　　　　　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　　　振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 ※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。