精密ネットワークポリマー研究会 第2回若手シンポジウム(参加募集)
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趣旨 |
ネットワークポリマーは、電気・電子材料分野、自動車工業分野などにおいて重要な高機能・高性能材料です。その性能をさらに優れたものにし、適用範囲を広げる試みが精力的になされています。特に近年、合成技術、分析・評価・解析手法が進歩し、精密ネットワークポリマーとして新しい展開が生まれてきています。たとえば次代を担う精密ネットワークポリマーを創成するためのモノマーやオリゴマーの合成からネットワークの形成過程や配列構造の制御まで広い範囲でさまざまな研究が行われています。 精密ネットワークポリマー研究会「若手シンポジウム」は、ネットワークポリマーの合成・物性・機能等を研究する大学院学生や大学・企業の若手研究者のための研究発表の場として昨年第1回が東工大にて開催され、多数の方が参加者され活発な討論がなされました。今回は大阪に場を移して行われます。このシンポジウムは、ポスター発表形式で行い、既発表を可とします。この研究分野で活動している若手研究者による活発な議論を期待します。発表会の後、無料のミキサーを予定しています。同じ分野で活動する同世代の皆様が情報交換する場として、また研究の夢や希望について語る場としてもご活用下さい。若手研究者の皆様の積極的な参加、発表を歓迎します。
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主催 |
高分子学会 精密ネットワークポリマー研究会 |
開催日 |
2009年03月05日 13:00〜17:00 |
開催場所 |
大阪市立工業研究所講堂 受付場所:3階大講堂(ポスター会場)前
大阪市城東区森之宮1-6-50
Tel:06-6963-8011
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交通 |
JR大阪環状線、地下鉄中央線・長堀鶴見緑地線、森ノ宮駅下車徒歩10分 |
プログラム |
プログラム <13:00〜14:15>招待講演 25分/件 1.ラダー型環状オリゴマー(ノリア)の合成、性質、機能
(神奈川大学大学院工学研究科)工藤 宏人 2.in situ重合改質剤による熱硬化性樹脂の強靭化
(横浜国立大学大学院工学研究院)大山 俊幸 3.RIE(Reactive Ion Etching)リソグラフィー用シリコン含有ブロック共重合体の合成と薄膜ナノ構造の創製
(東京工業大学大学院理工学研究科)早川 晃鏡
ポスター発表 <14:30〜17:00>ポスター発表
(奇数番号):14:30〜15:45 (偶数番号):15:45〜17:00 <17:30〜18:30> ミキサー |
受付期間 |
2008年11月14日〜2009年03月04日 |
参加要領 |
1)定員 70名(定員になり次第、締め切らせていただきます。) 2)参加費 @企業・大学・官公庁4,200円 A学生2,100円 B名誉・終身・フェロー・ゴールド・シルバー会員2,100円 C精密ネットワークポリマー研究会研究会メンバー 3,150円 3)ミキサー参加費 シンポジウム参加者無料 4)申込方法 WEBにて申込後、参加費を3月5日(木)までにご送金下さい。参加証、請求書(希望者のみ)を送付いたします。 5)振込先: 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 名義(社)高分子学会> 郵便振替<00110-6-111688 名義(社)高分子学会>
振込み手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。
問合先 (社)高分子学会 精密ネットワークポリマー研究会 第2回若手シンポジウム係 〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F TEL 03-5540-3771 FAX 03-5540-3737
※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 ※Webでのお申し込みは3月4日(水)午前までとさせていただきます。以降は上記宛お問い合わせ下さい。 |