09-3ポリマーフロンティア21
有機/無機ハイブリッド材料 |
趣旨 |
近年、有機材料と金属、セラミック、炭素材料の複合化によって得られるハイブリッド材料の開発が盛んに行われており、ディスプレイ材料、医用材料、半導体材料やエネルギー関連部材など幅広い分野への応用も進んできている。そこで、最新の合成技術から実用製品、特にディスプレイ材料や電子材料、医療用材料関係への展開について紹介していただく。 |
主催 |
高分子学会 行事委員会 |
協賛 |
日本化学会 |
開催日 |
2009年09月04日 10:20〜17:30 |
開催場所 |
京都テルサ 東館3F BC会議室
京都市南区東九条下殿田町70番地
【新町通九条下ル 京都府民総合交流プラザ内】
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交通 |
JR京都駅(八条口西口)より南へ徒歩約10分
近鉄東寺駅より東へ徒歩約5分
地下鉄九条駅4番出口より西へ徒歩約5分
市バス九条車庫南へすぐ
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プログラム |
<10:20-11:20> 1.有機−無機ナノハイブリッド材料の創製 (京都大学)中條 善樹 有機高分子と無機物を分子レベルあるいはナノレベルで組み合わせると、プラスチックともガラスとも違った新しい特性を有する複合材料が得られる。このような分子複合材料を「有機−無機ナノハイブリッド」という。本講演では、ナノハイブリッド材料の調製法、分子分散の原理、構造制御の範囲、さらに工業的利用の可能性について、我々の研究を中心に述べ、次世代材料として何が期待できるかを考える。 <11:20-12:20> 2.π共役高分子とシリカの有機/無機ハイブリッドの合成と応用 (三重大学大学院)久保 雅敬 電子的・光学的に興味深い性質を有するπ共役高分子に極性官能基を導入し、シリカとの有機/無機ハイブリッドを調製した。得られたハイブリッドのディスプレイ用材料としての可能性を調べた。 <13:20-14:20> 3.シルセスキオキサンを用いた有機−無機ハイブリッド材料 (新日鐵化学)林 敬一 かご型シルセスキオキサンは官能基の導入が容易で自身はナノサイズであることから有機ユニットとの組合せで優れた光学特性を持つハイブリッド材料となる。上記材料の特性とディスプレイ周辺部材への展開を概説する。 <14:20-15:20> 4.ゾル−ゲル法と交互積層法による有機/無機ハイブリッドの設計・合成・応用 (豊橋技術科学大学)松田 厚範 ゾル−ゲル法と交互積層法は、有機/無機ハイブリッド材料を液相から合成する非常に有用な方法である。本講演では、これらの方法の特徴を生かした材料設計、合成、さらに様々な分野への応用ついて述べる。 <15:30-16:30> 5.ポリイミド−シリカハイブリッドフィルムのファインピッチ基板への応用 (荒川化学工業)合田 秀樹 5nmのシリカが均一に分散したポリイミドフィルムを開発した。本フィルムをアルカリ処理しナノホ―ルを形成、ナノアンカ―効果でメッキを密着させる。Siに等しいCTEを持ち、狭ピッチ基板に適す。 <16:30-17:30> 6.有機/無機ハイブリッド材料を用いた高機能人工骨の開発 (名古屋大学大学院)大槻 主税 骨を治療する技術の高度化は、本格的な高齢社会を迎えた我が国において必須の課題である。本講演では、骨に高い親和性を示す新素材を、生体内での挙動に基づいて有機/無機ハイブリッド材料で開発する技術を紹介する。
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受付期間 |
2009年05月22日〜2009年09月04日 |
参加要領 |
1) 定員100名 2) 参加費 @企業21,000円 A大学・官公庁10,500円 B学生 1,050円 C名誉・終身・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員3,150円 年会費制会員※1)の団体からのご参加は、何名様でも割引料金となります。 a) 会社16,800円 b) 大学・官公庁8,400円 ※1)詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/nenkaihisei.html をご覧下さい。 3) 申込方法 学会ホームページhttp://www.spsj.or.jp/entry/にてお申込み下さい。随時、参加証と請求書を送付いたします。 4) 参加費の支払い 請求書到着後9月末日までにお願いします。 銀行・郵便振替の領収をもちまして本会からの領収書とさせていただきます。 振込先銀行:三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 社団法人高分子学会 郵便振込:00110-6-111688 社団法人高分子学会 5) その他 演題・講演者は予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 申 込 先 (社)高分子学会 09-3ポリマーフロンティア21係 〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F TEL 03-5540-3770 FAX 03-5540-3737
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