10-1フォトニクスポリマー研究会 フォトニクスポリマー　〜注目の新材料・新技術〜
趣旨	情報化社会に必要な情報の記録、表示、伝送を担うディスプレイ、光ファイバー、光ディスク基板、光学レンズなどのほとんどがフォトニクスポリマーで作られています。このように情報機器・光技術に不可欠なフォトニクスポリマーは、最近の光技術・情報機器の進歩に対応して、その性能の更なる向上、いままでにない新しい機能の発現を求められています。 本研究会では、フォトニクスポリマーとそれを取り巻く光技術分野で、現在注目され、今後実用化されていく可能性の高い新材料、新技術をピックアップし、その分野でご活躍の著名な先生方にご講演いただきます。多数の皆様の参加をお待ちしています。
主催	高分子学会　フォトニクスポリマー研究会
協賛	応用物理学会　日本化学会　プラスチック成形加工学会
開催日	2010年06月17日　13:00〜17:30
開催場所	慶應義塾大学日吉キャンパス来往舎シンポジウムスペース 横浜市港北区日吉4-1-1 http://www.keio.ac.jp/access/hiyoshi.html参照
交通	東急東横線 日吉駅下車(徒歩1分)　※日吉駅に特急は停まりません。 http://www.keio.ac.jp/access/ac_hiyoshi.html参照
プログラム	13:00−14:00　基調講演 1.生物に見られるナノ周期フォトニックスポリマー −構造解明とその創生技術の確立 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東工大院理工）渡辺　順次 14:00−14:50 2.液晶系マテリアルのフォトリフラクティブ効果 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東理大理）佐々木 健夫 15:00−15:50 3.3次元ホログラフィックメモリの波面制御 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（共栄社化学）池田 順一 15:50−16:40 4.有機−無機ハイブリッド材料の光学応用の可能性 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（KRI）福井 俊巳 16:40−17:30 4.光インターコネクトデバイス用フォトニクスポリマー 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東北大多元研）杉原 興浩
受付期間	2010年04月01日〜2010年06月16日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 　　フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込の上、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 　　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。 問合先 　　（社）高分子学会　フォトニクスポリマー研究会係 　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは6月16日(水)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。