11-2光反応･電子用材料研究会 ナノインプリント用材料とプロセス技術
趣旨	ナノインプリント法は、半導体微細加工において、EUV、ブロック共重合体リソグラフィーと伴に次世代のリソグラフィー技術として期待されています。また、その手法の簡便さから、ハードディスク、ディスプレイ、さらには生体適合材料などの加工へ応用が拡大しつつあります。ナノインプリント法が提案されてから15年ほどが経過し、当研究会においてもこれまでに個々の話題としては取り上げてきましたが、まだ材料、プロセスとも黎明期であったために主題として企画するには至りませんでした。しかし、ここ数年、産学官全ての領域から多くの研究者がナノインプリントに参入し、材料・プロセスとも大きな進展が見られました。こういう現状を踏まえ、本研究会では、ナノインプリント法に携わっている第一線の講師の先生方を産学官の領域からお招きして、材料・プロセス・シミュレーションなどの最新の成果と今後の課題をご講演頂く研究会を企画いたしました。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2011年11月18日　13:00〜16:50
開催場所	産業技術総合研究所　臨海副都心センター　別館11階　会議室１ 江東区青海二丁目４番７号4-2-2 Tel：03-3599-8001
交通	新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分 東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分 （http://unit.aist.go.jp/waterfront/　参照）
プログラム	13:00〜13:50 1．ナノインプリントプロセスの物理化学とシミュレーション 　　　　（大阪府立大学大学院工学研究科）平井　義彦 13:55〜14:45 2．ナノインプリント用材料に関して 　　　　（東京応化工業）嶋谷　　聡 15:05〜15:55 3．丸善石油化学のナノインプリント樹脂 　　　　（丸善石油化学）池田　照代 16:00〜16:50 4．ペンタフルオロプロパン(PFP)を用いた光ナノインプリント 　　　　（産総研集積マイクロシステム研究センター）廣島　　洋
受付期間	2011年07月07日〜2011年11月17日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　（社）高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは11月17日(木)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。