12-1フォトニクスポリマー研究会
フォトニクスポリマーを取り巻く新材料、新技術 |
趣旨 |
フォトニクスポリマーはディスプレイやファイバー等、光を用いたディジタル情報機器をサポートするキーデバイスとして欠かせない材料となっています。フォトニクスポリマーを用いた光技術の進歩により今までにない機能が発揮される、あるいは、フォトニクスポリマー材料の進歩により光技術の実用化が可能になるなど、双方の相乗的な進化が今日のフォトニクスポリマーの隆盛に大きく寄与しています。 本研究会では、フォトニクスポリマー材料、並びにフォトニクスポリマーを用いた光技術の分野で、現在注目されている新材料、新技術について、その分野でご活躍の著名な先生方にご講演頂きます。多数の皆様の参加をお待ちしています。
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主催 |
高分子学会 フォトニクスポリマー研究会 |
協賛 |
応用物理学会 日本化学会 プラスチック成形加工学会 |
開催日 |
2012年06月14日 13:00〜16:40 |
開催場所 |
慶應義塾大学日吉キャンパス来往舎シンポジウムスペース
横浜市港北区日吉4-1-1 http://www.keio.ac.jp/access/hiyoshi.html参照
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交通 |
東急東横線 日吉駅下車(徒歩1分) ※日吉駅に特急は停まりません。 http://www.keio.ac.jp/access/ac_hiyoshi.html参照 |
プログラム |
13:00−14:00 基調講演 1.CNTポリマーフォトニクス (産業技術総合研究所)榊原 陽一 14:00−14:50 2.光学材料を目指した有機無機ハイブリッドの開発 (大阪市立工業研究所)松川 公洋 15:00−15:50 3.位相変調技術を用いた自己参照型ホログラフィックメモリ (北海道大学)岡本 淳 15:50−16:40 4.ホログラム技術とアプリケーションの最新動向 (大日本印刷)渡部 壮周
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受付期間 |
2012年04月01日〜2012年06月13日 |
参加要領 |
1) 定員 60名 2) 参加費 企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 1,050円 フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 申込方法 Webにて申込の上、参加費を6月末日までにご送金ください。 参加証、請求書(希望者のみ)を順次配布いたします。 4) 振込先 銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 (社)高分子学会> 郵便振替<00110-6-111688 (社)高分子学会> ※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 ※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。
問合先 (社)高分子学会 フォトニクスポリマー研究会係 〒104-0042 東京都中央区入船3-10-9 新富町ビル6F 電話 03−5540−3771 FAX 03−5540−3737
※Webでのお申し込みは6月13日(水)午前までとさせていただきます。 以降は上記宛お問い合わせください。
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