12-1光反応･電子用材料研究会 最先端リソグラフィー国際シンポジウム
趣旨	電子デバイスの高集積化に伴い、信頼性の高い新しい微細化技術の確立が求められています。近年、従来よりも安価で簡便な微細加工法としてその将来性に期待が高まっているナノインプリントや自己組織化によるリソグラフィー技術の開発が進められています。これらの技術が提唱されたころは材料やパターンの制御性、信頼性などに多くの課題や懸念がありましたが、最近の目覚ましい技術進歩により、電子デバイスへの適用がより一層現実的な形となって近づいて来ています。さらにこれらの技術は、バイオ分野など代表されるように、より低コストで手軽な方法で微細パターンが必要とされる各種デバイスやテンプレート作製にも容易に適用できることが期待されています。今回は国内外の第一線でご活躍されている講師の先生方をお招きして、「簡便な方法による最先端高信頼性リソグラフィー技術」に関する研究会を企画いたしました。多くの方のご来聴をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2012年06月26日　10:00〜17:00
開催場所	東京理科大学　森戸記念館　二階 第一会議室 新宿区神楽坂4-2-2 Tel：03-5225-1033
交通	JR総武線、地下鉄有楽町線、東西線、南北線飯田橋駅下車　徒歩10分 都営地下鉄　牛込神楽坂駅　徒歩10分 　　　　　（http://www.tus.ac.jp/info/access/kagcamp.html　参照）
プログラム	10:00〜11:00 1．（仮）Nanoimprint Lithography�T 　　　　（The University of Texas at Austin）Grant Willson 11:00〜12:00 2．Pilot Production of Photonic Devices by Roll-to-Roll Nanoimprinting 　　　　（VTT Microsystems and Nanoelectronics）Jouni Ahopelto 13:30〜14:30 3．Materials and processes for directed assembly of block copolymers on chemically nanopatterned surfaces 　　　　（University of Wisconsin）Paul Nealey 14:45〜15:30 4．Progress of polymer blends DSA for lithography 　　　　（JSR）生井　準人 15:30〜16:15 5．Lithography Processes using Directed Self-Assembly 　　　　（東京エレクトロン九州）村松　　誠 16:15〜17:00 6．Dual mode patterning of fluorine-containing block copolymers through combined top-down and bottom-up lithography 　　　　（東京工業大学）前田　利菜
受付期間	2012年04月01日〜2012年06月25日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 10,500円 大学・官公庁 5,250円 学生 2,100円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シルバー会員 2,100円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 （社）高分子学会＞ 　　郵便振替＜00110-6-111688　（社）高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　（社）高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは6月22日(金)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。