12-2フォトニクスポリマー研究会 フォトニクスポリマー　〜新光学フィルム材料・技術〜
趣旨	ガラスはその透明性、化学的安定性、硬度等の特長から光学用途において古くから主要素材として使用されてきました。しかしながら近年、タブレットＰＣ、スマートフォン、デジタルカメラなど情報端末のポータブル化に伴う小型薄型化・軽量化の動きに呼応して、ガラスの代替の可能性を持つ新しいフォトニクスポリマー材料がポリマー材料ならではの軽量性、加工性等の特色を前面に押し出して市場に登場、その物性、代替の動きが注目されてきています。 本研究会では、ガラス代替を狙うフォトニクスポリマーフィルム材の現状と将来展望について、その分野でご活躍の企業・大学の先生方にご講演いただきます。多数の皆様の参加をお待ちしています。
主催	高分子学会　フォトニクスポリマー研究会
協賛	応用物理学会　日本化学会　プラスチック成形加工学会
開催日	2012年11月08日　13:30〜17:00
開催場所	京都テルサ　東館３Ｆ　Ｂ、Ｃ会議室 京都市南区東九条下殿田町７０番地
交通	ＪＲ京都駅(八条口西口)より南へ徒歩約15分、近鉄東寺駅より東へ徒歩約5分 地下鉄九条駅4番出口より西へ徒歩約5分、市バス九条車庫南へすぐ http://www.kyoto-terrsa.or.jp/access.html参照
プログラム	<13:30−14:20>　基調講演 1) 励起状態プロトン移動(ＥＳＩＰＴ)を用いた多波長高蛍光性ポリイミドフィルムの分子設計と光学特性 　　　　　　　（東京工業大学）安藤　慎治 <14:20−15:05>　 2）ＦＰＤ基板用透明耐熱フィルム 　　　　　　　（住友ベークライト）江口　敏正 <15:15−16:00> 3）耐熱透明フィルム(Fフィルム)の特性とデバイス基材への応用 　　　　　　　（グンゼ）石井　良典 <16:00−16:45> 4）フォトニクスポリマーの実用化動向と潜在需要　−次世代封止・レンズ材料と透明耐熱シート(フィルム)のポテンシャル− 　　　　　　　（カワサキテクノリサーチ）川崎　　徹 <17:00−19:00> 懇親会　　　　　　レストラン「朱雀」 （京都テルサ東館1階）
受付期間	2012年06月29日〜2012年11月07日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シ二ア会員 1,050円 　　フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 懇親会費　4,000円 4) 申込方法 　　Webにて申込の上、参加費を11月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 5)　振込先 　　銀行振込 　　　＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会＞ 　　郵便振替 　　　＜00110-6-111688　公益社団法人 高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 　　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。 問合先 　　 高分子学会　フォトニクスポリマー研究会係 　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは11月6日(火)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。