12-2光反応･電子用材料研究会 ナノインプリント技術とバイオミメティクスの接点
趣旨	ナノインプリント技術は、半導体微細加工において、EUV、ブロック共重合体リソグラフィーとともに次世代のリソグラフィー技術として期待されています。また、その手法の簡便さから、ハードディスクやディスプレイ、さらには生体適合材料などの分野へ応用が拡大しつつあります。今回は、生物/植物の持つ構造や仕組み・形状などを、工業製品に応用する生物模倣技術、すなわちバイオミメティクスに関する研究や製品展開への関心が急速な盛り上がりを見せている現状を踏まえ、"ナノインプリント技術とバイオミメティクスの接点"と題する研究会を企画しました。ナノインプリント技術とバイオミメティクスの両領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方を産学官からお招きして、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2012年11月14日　13:00〜16:50
開催場所	産業技術総合研究所　臨海副都心センター　別館11階　会議室１ 江東区青海二丁目４番７号4-2-2 Tel：03-3599-8001
交通	新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分 東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分 （http://unit.aist.go.jp/waterfront/　参照）
プログラム	13:00〜13:50 1．自己組織化・自己集合プロセスを用いたナノ構造体の形成と機能発現 　　　　　（東北大学多元物質科学研究所）藪　　　浩 13:55〜14:45 2．ナノインプリントによる表面改質とバイオデバイスへの応用 　　　　　（日立製作所）宮内　昭浩 15:05〜15:55 3．Design Considerations for UV-NIL Resists 　　　　　（富士フイルム）下畠　孝二 16:00〜16:50 4．印刷法によって作製するバイオセンシングデバイス 　　　　　（産総研フレキシブルエレクトロニクス研究センター）牛島　洋史
受付期間	2012年09月01日〜2012年11月13日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員 1,050円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込後、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込 　　＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人　高分子学会＞ 　　郵便振替 　　＜00110-6-111688　公益社団法人　高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは11月13日(火)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。