第22回光反応・電子用材料研究会講座 ボトムアップパタン形成技術の現状と将来
趣旨	スキャナに代表される微細パタン形成技術は、EUV露光技術実用化の遅延もあり、話題の中心はこれらトップダウン技術から、ナノインプリントやDSAに代表されるボトムアップ技術へと変化してきています。今回は、この背景を踏まえ、"ボトムアップパタン形成技術の現状と将来"と題する研究会を企画しました。この領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方を産学官からお招きして、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2013年01月15日　10:00〜16:45
開催場所	東京理科大学　森戸記念館　地下１階　第一フォーラム 新宿区神楽坂4-2-2 Tel：03-5225-1033
交通	JR総武線、地下鉄有楽町線、東西線、南北線飯田橋駅下車　徒歩10分 都営地下鉄　牛込神楽坂駅　徒歩10分 （http://www.tus.ac.jp/info/access/kagcamp.html　参照）
プログラム	10:00〜10:05 開会挨拶 10:05〜10:50 1.　次世代リソグラフィとしてのナノインプリントの動向 　　　　　　　　　　　　　　（兵庫県大高度産研）松井　真二 10:50〜11:35 2.　ナノインプリント用材料とそのプロセス 　　　　　　　　　　　　　　（東京応化）嶋谷　　聡 11:35〜12:20 3.　含フッ素化合物を用いた 　　　　　　　　　　　ナノインプリントリソグラフィ用離型材料の開発 　　　　　　　　　　　　　　（ダイキン）山下　恒雄 13:30〜14:15 4.　マイクロリンクルによる液体の成形と秩序発現 　　　　　　　　　　　　　　（産総研）大園　拓哉 14:15〜15:00 5.　ブロック共重合体のグラフォエピタキシ 　　　　　　　　　　　　　　（NTT物性科学基礎研）山口　　徹 15:10〜15:55 6.　ブロックコポリマーの相分離シミュレーション 　　　　　　　　　　　　　　（産総研）森田　裕史 15:55〜16:40 7.　半導体プロセスへの自己組織化リソグラフィ応用 　　　　　　　　　　　　　　（東芝）清野由里子 16:40〜16:45 閉会挨拶
受付期間	2012年11月01日〜2013年01月11日
参加要領	1) 定員 80名 2) 参加費 　企業　13,650円、大学・官公庁　5,250円、学生　2,100円 　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員　2,100円 　(光反応･電子用材料研究会メンバー　企業10,500円、大学・官公庁4,200円) 3) 申込方法　WEBからお申込後、参加費を1月末日までにご送金ください。 　　　　　　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会> 　郵便振替＜00110-6-111688　公益社団法人 高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 ※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。