13-1フォトニクスポリマー研究会 フォトニクスポリマー〜構造制御のトップダウンとボトムアップ〜
趣旨	光機能材料・部材の製造において、微細構造を精密制御し、素材特性の向上や新特性・機能の発現を図る微細構造制御技術が注目されています。構造制御の手法は大別して（１）従来の微細加工技術の極限化、高精度化、高機能化によるトップダウン型と（２）原子・分子の自己組織化プロセス等を有効に活用し、構造体を製造するボトムアップ型技術とがあります。双方の技術はある場面では競合、また別の局面では協同しつつ構造制御の技術開発が展開しています。 　本研究会では、構造制御のトップダウン型技術とボトムアップ型技術双方の最新情報、将来展望について、本分野でご活躍の著名な先生方にご講演いただきます。多数の皆様の参加をお待ちしています。
主催	高分子学会　フォトニクスポリマー研究会
協賛	応用物理学会　日本化学会　プラスチック成形加工学会
開催日	2013年06月13日　13:00〜16:40
開催場所	慶應義塾大学日吉キャンパス来往舎シンポジウムスペース 横浜市港北区日吉4-1-1 http://www.keio.ac.jp/access/hiyoshi.html参照
交通	東急東横線 日吉駅下車(徒歩1分)　※日吉駅に特急は停まりません。 http://www.keio.ac.jp/access/ac_hiyoshi.html参照
プログラム	13:00−14:00　基調講演 1.液晶ブロックコポリマーのナノ相分離構造と外場配向制御 　−工学的に使えるナノテンプレートプロセスをめざして− 　　　　　　　　　　　　（東工大資源研）彌田　智一 14:00−14:50 2.ボトムアップによる有機フォトニック結晶の構築とレーザーへの展開 　　　　　　　　　　　　（物材機構）古海　誓一 15:00−15:50 3.マイクロ光造形による3次元微細加工技術 　　　　　　　　　　　　（横国大院工）丸尾　昭二 15:50−16:40 4.Design and simulation of novel wire-grid polarizers for in-cell type liquid crystal display devices 　　　　　　　　　　　　（Sumitomo Chemical）Saswatee Banerjee
受付期間	2013年03月11日〜2013年06月12日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,150円 大学・官公庁 2,100円 学生 1,050円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員 1,050円 　　フォトニクスポリマー研究会メンバー 無料 3) 申込方法 　　Webにて申込の上、参加費を6月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店(普通)1126232 公益社団法人 高分子学会> 　　郵便振替<00110-6-111688　公益社団法人 高分子学会> 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 　　※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。 問合先 　　高分子学会　フォトニクスポリマー研究会係 　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは6月12日(水)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。