13-1高分子基礎物性研究会 ナノインプリントを深く理解するために
趣旨	ナノインプリント技術は、半導体微細加工のみならず、磁気記録媒体、ディスプレイ、生体適合材料など様々な分野へ応用が拡大しつつあります。その成形対象は、熱可塑性高分子、熱硬化性高分子、エンプラ、光硬化性樹脂など多岐に渡りますが、高分子成形加工の基礎となる高分子の基礎物性を理解することが、非常に重要となってきています。本講演会では、主としてナノインプリントを深く理解するために、高分子のレオロジーならびに成形加工の基礎、また、表面や界面等の束縛場におけるレオロジーについて、基礎物性を中心に話題を提供していただきます。高分子物質のレオロジー制御にご興味をお持ちの方はもちろん、ナノインプリントをこれから始めよう、さらに深いところまで考えようという方のご参加をお待ちしております。
主催	高分子学会　高分子基礎物性研究会
協賛	公益社団法人応用物理学会　ナノインプリント技術研究会
開催日	2013年07月12日　13:00〜16:45
開催場所	フォーラムミカサエコ　7階ホール 千代田区内神田1-18-12　内神田東誠ビル http://fm-tohnet.com/modules/gaiyou/content0007.html Tel：03-3291-1395
交通	JR線 神田駅 西口より　徒歩5分 銀座線 神田駅 4番出口より徒歩5分／丸の内線 淡路町駅 A2・A4番出口より徒歩5分／千代田線 新御茶ノ水駅 B6番出口より徒歩6分・A4番出口より徒歩5分／新宿線 小川町駅 B6番出口より徒歩6分・A4番出口より徒歩5分
プログラム	講　演　 <13：10−14：00>　 1．高分子のレオロジーの基礎 （京大化研）増渕　雄一 <14：00−14：50>　 2．高分子成形加工の基礎 （山形大院理工）伊藤　浩志 <15：05−15：55>　 3．高分子最表面のレオロジー （九大院工）田中　敬二 <15：55−16：45> 4．表面力・共振ずり測定からわかること （東北大WPI）栗原　和枝 ※演題・講演者は予告なく変更になる場合がございます。予めご了承下さい。
受付期間	2013年04月30日〜2013年07月11日
参加要領	1）定員100名 2）参加費　�@企業　3,150円 　　　　　 �A大学・官公庁　2,100円 　　　　　 �B学生　2,100円 　　　　　 �C名誉・終身・フェロー・ゴールド・シニア会員 1,050円 　　　　　 �D高分子基礎物性研究会メンバー　無料 　　　　　　 (公社)応用物理学会ナノインプリント技術研究会会員　無料 3）申込方法 　　　　　 当サイトからお申し込みの上、参加費を7月末日までにご送金下さい。 　　　　　 参加証、請求書（希望者のみ）を順次送付させていただきます。 4）振込先 　　　　　 銀行振込＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通)1126232 (社)高分子学会＞ 　　　　　 郵便振込＜00110-6-111688 (社)高分子学会＞ 　　　　　 振込手数料は振込人にてご負担下さいますようお願いいたします。 　　　　　 銀行・郵便振替の領収書をもって本会からの領収書にかえさせていただ 　　　　　 きます。 ※Webでの受付は7月11日（木）午前までとさせていただきます。以降は下記宛てお問い合わせ下さい。 申 込 先 　　　　　 高分子学会 高分子基礎物性研究会係 　　　　　 〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ﾋﾞﾙ6F 　　　　　 TEL　03-5540-3771　　FAX　03-5540-3737