14-2光反応･電子用材料研究会 高分子微細構造形成の極限と機能化を目指したナノインプリント技術
趣旨	ナノインプリント技術は、高分子微細構造の形成技術として、低コスト大量生産やプロセス・装置簡略化による費用削減の利点を有しているばかりではなく、従来のフォトリソグラフィーにおける光の回折限界の制約を受けないことから、極限的な微細構造を形成する手法としての可能性も有しています。そこで今回は、「高分子微細構造形成の極限と機能化を目指したナノインプリント技術」と題する研究会を企画しました。高分子材料の関連したナノインプリント技術の領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方をお招きし、ナノインプリント技術関連国際会議（EIPBN2014およびMNE2014）参加報告も兼ねた最新の成果と今後の課題をご講演いただきます。多くの皆様のご参加をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会　 （共催　応用物理学会　ナノインプリント技術研究会）
協賛	日本化学会
開催日	2014年10月02日　13:00〜16:50
開催場所	産業技術総合研究所　臨海副都心センター　別館11階　会議室１ 江東区青海二丁目４番７号4-2-2 Tel：03-3599-8001
交通	新交通ゆりかもめ「船の科学館駅」「テレコムセンター駅」下車徒歩約4分 東京臨海高速鉄道りんかい線「東京テレポート駅」下車徒歩約15分 （http://unit.aist.go.jp/waterfront/　参照）
プログラム	13:00〜13:50 1．EIPBN2014およびMNE2014国際会議報告 　　　　　　　　　　　　　　　（阪府大院工）平井　義彦 13:50〜14:40 2．熱ナノインプリントによるガラスやポリマーなどの非晶質材料への 　　原子レベルパターニングと工学的応用 　　　　　　　　　　　　　　　（東工大院総合理工）吉本　　護 15:00〜15:50 3．レーザアシストローラナノインプリント 　　　　　　　　　　　　　　　（東大院工）長藤　圭介 15:50〜16:40 4．ワイヤグリッド偏光フィルム（WGF）製造における 　　RtoR UVナノインプリントプロセス 　　　　　　　　　　　　　　　（旭化成イーマテリアルズ）生田目卓治 16:40〜17:00 　　　名刺交換会
受付期間	2014年07月17日〜2014年10月01日
参加要領	1) 定員 60名　 2) 参加費 　　企業 3,240円 大学・官公庁 2,160円 学生 1,080円 　　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員 1,080円 　　光反応･電子用材料研究会メンバー 無料 　　応用物理学会ナノインプリント技術研究会会員　　無料 3) 申込方法 　　Webにてお申込の上、参加費を10月末日までにご送金ください。 　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4)　振込先 　　銀行振込 　　＜三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人　高分子学会＞ 　　郵便振替 　　＜00110-6-111688　公益社団法人　高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 問合先　　高分子学会　光反応･電子用材料研究会係 　　　　　　〒104-0042　東京都中央区入船3-10-9　新富町ビル6F 　　　　　　電話　03−5540−3771　 ＦＡＸ　03−5540−3737 ※Webでのお申し込みは10月1日(水)午前までとさせていただきます。 　以降は上記宛お問い合わせください。