第24回光反応・電子用材料研究会講座 次世代の電子材料開発　〜微細加工技術の最先端〜
趣旨	半導体デバイスに、より高度な微細化が求められ続ける中、従来のリソグラフィ技術の範疇を超える、新たな微細加工手段の開発が急務となっています。本講座では、光反応の新たな可能性や、高分子加工、高分子合成など、次世代技術の開発に向けた様々なアプローチに焦点を当てました。各領域で研究開発を進めておられる第一線の講師の先生方を産学官からお招きして、最新の成果と今後の課題をご講演頂きます。多くの皆様の御参加をお待ちいたしております。
主催	高分子学会　光反応･電子用材料研究会
協賛	日本化学会　応用物理学会
開催日	2015年01月29日　10:00〜16:55
開催場所	東京工業大学　大岡山キャンパス　南８号館６F−623号室 目黒区大岡山2-12-1
交通	東急　大井町線、目黒線　大岡山駅下車　5分 （http://www.titech.ac.jp/about/campus_maps/ookayama.html　参照）
プログラム	10:00〜10:05 開会挨拶 10:05〜11:00 1.　凝縮性ガス(ペンタフルオロプロパン)を利用する光ナノインプリント 　　　　　　　　　　　　　　（産業技術総合研究所）廣島　 洋 11:00〜11:55 2.　半導体DSA(Directed Self-Assembly)技術の開発状況と実用化 　　　　　　　　　　　　　　（東京エレクトロン）永原 誠司 13:00〜13:55 3.　EUV(Extreme Ultraviolet)リソグラフィの最新状況と今後の展望 　　　　　　　　　　　　　　（東芝）内山 貴之 13:55〜14:50 4.　バイオテンプレートプロセスによるマイクロコイルの創成 　　　　　　　　　およびその物理特性 　　　　　　　　　　　　　　（東京工業大学）鎌田 香織 15:00〜15:55 5.　鎖状および環状ポルフィリン連鎖体を基盤とする高次構造体の構築 　　　　　　　　　　　　　　（東京理科大学）佐竹 彰治 15:55〜16:50 6.　3Dゲルプリンターを活用したゲルの微細加工とデバイス開発 　　　　　　　　　　　　　　（山形大学）古川 英光 16:50〜16:55 閉会挨拶
受付期間	2014年10月07日〜2015年01月28日
参加要領	1) 定員 80名 2) 参加費 　企業　14,040円、大学・官公庁　5,400円、学生　2,160円 　名誉会員・終身会員・フェロー・ゴールド会員・シニア会員　2,160円 　(光反応･電子用材料研究会メンバー　企業10,800円、大学・官公庁4,320円) 3) 申込方法　WEBにてお申込の上、参加費を1月末日までにご送金ください。 　　　　　　　参加証、請求書（希望者のみ）を順次配布いたします。 4) 振込先 　銀行振込<三菱東京UFJ銀行 銀座支店 (普通) 1126232 公益社団法人 高分子学会> 　郵便振替＜00110-6-111688　公益社団法人 高分子学会＞ 　　※振込手数料は振込人にてご負担くださいますようお願いいたします。 ※プログラムは予告なく変更になる場合がございます。予めご了承ください。