高分子2月号目次

高分子2月号 
Vol.55 No.2, 2006

特集=先端半導体を支える高分子
Polymer Materials for Semiconductor Manufacturing

素 描
真のLSI材料革命とは 角南 英夫 69
     <展 望>

半導体LSIの展望と高分子材料への期待

後河内 透

70

 

フォトリソグラフィー材料の最新動向

稗田 克彦・島 基之

74

 

半導体プロセスにおけるCMP技術と適用材料の最新動向

土肥 俊郎

78

 

誘電率層間絶縁膜材料の最新動向

阿部 浩一・桜井 治彰

82

 

実装材料の最新動向

高橋 昭雄・柿本 雅明

86

<トピックス>

カーボンナノチューブ配線

粟野 祐二

91

 

分子デバイス

谷口 正輝・川合 知二

92

 

ナノスピンエレクトロニクス―スピン分極ワイヤーで連結した金ナノ粒子ネットワーク

菅原 正

93

 

カーボンナノチューブ量子効果ナノデバイス

松本 和彦

94

 

32nmルール以降の次世代リソグラフィー技術

山田 雄

95

     <連 載>

高分子科学最近の進歩

   
 

 高分子ナノシート

宮下 徳治

96

 

高分子分析技術

   
 

 固体NMR

羅 晴・堀井 文敬

101

 

マジカルポリマ

   
 

 ハイブリッドで分子複合材料の可能性
 ―中條善樹京都大学教授に聞く―

古郡悦子

106

 

グローイングポリマ

   
 

 基礎研究と応用・実用化研究

田口 哲志

108

   <コラム>
    <会 告>

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