高分子２月号
Vol.55 No.2, 2006
特集＝先端半導体を支える高分子
Polymer Materials for Semiconductor Manufacturing
| ＜素 描＞ | |||
| 真のＬＳＩ材料革命とは | 角南 英夫 | 69 | |
| ＜展 望＞ | |||
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半導体ＬＳＩの展望と高分子材料への期待 |
後河内 透 |
70 |
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フォトリソグラフィー材料の最新動向 |
稗田 克彦・島 基之 |
74 |
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半導体プロセスにおけるＣＭＰ技術と適用材料の最新動向 |
土肥 俊郎 |
78 |
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誘電率層間絶縁膜材料の最新動向 |
阿部 浩一・桜井 治彰 |
82 |
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実装材料の最新動向 |
高橋 昭雄・柿本 雅明 |
86 |
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| ＜トピックス＞ | |||
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カーボンナノチューブ配線 |
粟野 祐二 |
91 |
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分子デバイス |
谷口 正輝・川合 知二 |
92 |
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ナノスピンエレクトロニクス―スピン分極ワイヤーで連結した金ナノ粒子ネットワーク |
菅原 正 |
93 |
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カーボンナノチューブ量子効果ナノデバイス |
松本 和彦 |
94 |
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32nmルール以降の次世代リソグラフィー技術 |
山田 雄一 |
95 |
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| ＜連 載＞ | |||
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高分子科学最近の進歩 |
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高分子ナノシート |
宮下 徳治 |
96 |
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高分子分析技術 |
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固体ＮＭＲ |
羅 晴・堀井 文敬 |
101 |
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マジカルポリマー |
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ハイブリッドで分子複合材料の可能性 |
古郡悦子 |
106 |
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グローイングポリマー |
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基礎研究と応用・実用化研究 |
田口 哲志 |
108 |
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| ＜コラム＞ | |||
| ＜会 告＞ | |||