2000年6月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

January

99-2ミクロシンポジウム

主題＝マイクロ加工が拓く新しいバイオテクノロジー
＜趣旨＞高分子材料は加工法によりさまざまな機能を発揮できるようになります．半導体産業の発展によりさまざまな材料のマイクロ加工が可能になり，機械産業ではマイクロマシンが，化学産業ではマイクロリアクターが，環境・臨床分析ではマイクロトータル分析システム (μTAS), DNA チップが考案されるようになってきています．Lab-On-A-Chipのアイデアも生まれて久しくなります．ここでは，特に新しいバイオテクノロジーにマイクロ加工材料がどのように応用できるかについて，第一線で活躍中の研究者が一堂に会して討論を行う機会を設けました．ぜひご参加ください．
主　催高分子学会
日　時1月17日（月）　10:00～17:30
会　場徳島大学工業会館メモリアルホール（徳島市南常三島町2-1　TEL088-656-5432）
講　演
＜10:00～11:50＞
  1. マイクロ加工とバイオテクノロジー（徳島大工）伊藤嘉浩
  2. マイクロ加工人工臓器（国立循環器病セ）中山泰秀
  3. 人工視覚チップ（奈良先端大）太田　淳
＜13:00～14:40＞
  1. 臨床分析チップ（徳島大工）三澤弘明
  2. DNAチップ（宝酒造）峰野純一
＜15:10～17:30＞
  1. 遺伝子分析チップ（徳島大薬）馬場嘉信
  2. エコ分析チップ（徳島大総科）伊永隆史
  3. チップテクノロジーの将来（東大工）北森武彦
参加要領　１）参加費　無料　２）申込方法　FAX, E-mail またはハガキでお申し込みください．
申込先　［770-8506］徳島市南常三島町2-1　徳島大学工学部生物工学　伊藤嘉浩　Fax 088-656-7524　e-mail: ito＠bio.tokushima-u.ac.jp

99-5ポリマーフロンティア21

主題＝ソフトエネルギー分野を支える高分子材料の活用--最前線－21世紀の世界で存在感のある高分子技術の開発を目指して
＜趣旨＞新世紀の重要課題のひとつにエネルギー問題があります．とりわけ，環境にやさしい持続可能なエネルギーシステムともいうべきソフトエネルギーの開発は，緊急かつ重要な課題となっています．20世紀の石油文明を支えた化学技術／高分子技術がこのエネルギー問題の解決にいかに期待され，かつ，使命を担っているのか，その実態を検証し，高分子技術の明日の事業機会を提供するとともに，その技術的課題を明確にします．
主　催高分子学会　行事委員会
協　賛（予定）化学工学会　強化プラスチック協会　繊維学会　日本化学会　日本合成技術協会　日本ゴム協会　日本材料学会　プラスチック成形加工学会　有機合成化学協会
日　時1月21日（金）　10:00～17:00
会　場東京大学山上会館（東京都文京区本郷7-3-1）
プログラム
＜10:00～12:00＞
  1. 21世紀のエネルギービジョンにおけるソフトエネルギーと化学技術の役割（電力中研）田中祀捷
  2. 地球と人に優しい新エネルギー源（電気二重層キャパシターと新クリーンネエルギー源）（元　松下電器産業）西野　敦
＜13:00～17:00＞
  1. 次世代自動車用エネルギー技術と課題（日本電動車両協会）丹下昭二
  2. ポリマー二次電池の開発最前線（ソニー）西　美緒
  3. ポリマー燃料電池の開発最前線（燃料電池開発情報セ）本間琢也
  4. 高性能電池（二次電池，燃料電池）を支える高分子技術の課題（農工大工）小山　昇
参加要領　1）定員100名　2）参加費会員（含協賛学協会員）　(1)会社21,000円，(2)大学・官公庁10,500円，(3)学生，ゴールド・シルバー3,150円　3）申込方法　申込用紙（896頁）に記入しお申し込みください．参加証は順次発行いたします．
申込先　高分子学会 99-5ポリマーフロンティア21係

第9回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝ArFの限界と次世代リソグラフィ
＜趣旨＞半導体デバイスの微細化，高集積化に伴う，レジスト材料の進捗は目ざましいものがあり，ArF露光用レジストも実用化が目前に迫っています．さらに，ArF以降の露光技術として，VUVやEUVの研究が開始され，レジスト材料も新たな局面を迎えています．そこで今回の講座は，100nmを目指すArFレジスト材料，プロセスの限界とポストArFとして注目されるVUVやEUVにスポットをあて，最新の開発状況についての講座を企画しました．
主　催高分子学会　光反応・電子用材料研究会 　
協　賛日本化学会，ほか
日　時1月25日（火）　10:00～18:00
会　場東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1　TEL03-3818-3008内線2334）
講演
＜10:00～12:00＞
I.　基調講演
  1. 100nm以下世代への光リソグラフィ技術（沖電気　超LSI開発セ）大塚　博
  2. EUVリソグラフィの開発状況と展望（超先端電子技術開発機構）岡崎信次
＜13:00～1800＞
II.　100nm解像に向けたArFリソグラフィの材料・プロセス技術
  1. 次世代レジスト材料の現状と課題（東京応化）羽田英夫
  2. 分子内エステル化反応を用いた非膨潤ArFエキシマレーザ用ネガ型レジスト（日立　中研）服部孝司
  3. 193nmリソグラフィ用無機反射防止膜の開発（半導体先端テクノロジーズ）岡部一朗
III.　露光技術による高解像化
  1. KrFリソグラフィにおける薄膜レジストプロセス（東芝　セミコンダクター社）大西廉伸
  2. RELACSプロセスを用いた100nmレベルのホールパターン形成技術（三菱電機　先端研）豊島利之
  3. IDEAL露光技術の実用化（キヤノン　オプト・ナノテク研）長谷川雅宣
IV.　Post ArF レジスト材料・プロセス技術
  1. 露光装置から見た100nmリソグラフィ（ニコン　半導体露光装置事業）亀山雅臣
  2. 真空紫外光による樹脂の光化学反応と溶解性変化（松下電子　半導体社プロセス開発セ）岸村眞治
  3. EUVリソグラフィに向けたレジスト材料プロセス（超先端電子技術開発機構）矢野　映
  4. 高分子材料のVUVおよびEUVに対する吸収の理論的予測（超先端電子技術開発機構）松澤伸行
  5. フラーレン複合化レジストを用いたナノメートルパタン形成（NTT　物性科学基礎研）石井哲好
参加要領　1）定員80名　2）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生2,100円　(4)光反応・電子用材料研究会メンバー　a)会社10,500円　b)大学・官公庁4,200円　3）申込方法　申込用紙（896頁）に記入しお申し込みください．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　光反応・電子材料研究会講座係

1999年度接着と塗装研究会講座

主題＝建築関連における接着と塗装－基礎と応用－
＜趣旨＞建築関連分野での接着・塗装の展開はインテリジェントビルなどの新しい技術を支える基盤技術として多くの技術者が関心をよせています．特に接着・塗装の高機能性はただ優れた物性と機能だけではなく，作業性，メンテナンスフリーなど広いニーズに応えるものでなければならない．そのためこの分野では新しいニーズに応えるためにさまざまな応用技術が展開されています．本講座では最近のこの分野での新しい技術も含め，ニーズに応えるための高機能化技術の基礎と応用について検討し，21世紀の接着剤・塗料について特に建築関連の高機能化技術について講演していただきます．
主　催高分子学会　接着と塗装研究会
協　賛（予定）色材協会　繊維学会　日本化学会日本接着学会　日本塗装技術協会　日本分析学会　表面技術協会
日　時1月25日（火），26日（水）
会　場国立教育会館601大会議室（東京都千代田区霞が関1-3　TEL03-3580-7151　交通：地下鉄銀座線虎ノ門駅下車　5番出口すぐ）
講　演
第1日＝1月25日
＜10:30～12:00＞
  1. 建築用接着剤と塗料（日大工建築）出村克宣
＜13:10～16:30＞
  1. 内装材用接着剤・粘着剤（コニシ）井上雅雄
  2. 外装用塗料（大日本塗料）水野民雄
  3. 床材用塗料（エービーシー商会）伊藤弘基
第2日＝1月26日
＜10:00～12:00＞
  1. 防炎塗料・接着剤（日本防災化学研）田中丈之
  2. 低汚染・高耐久性塗料（日本油脂）大浜宣史
＜13:10～16:30＞
  1. 塗装による抗菌性・防カビ性への付与（関西ペイント）津村昌伸
  2. 建材の耐久性と試験法（積水化学）長野　基
  3. 最近の建築仕上げにおける接着と塗装の技術動向（清水建設）近藤照夫
参加要領　1）定員100名　2）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　（１）会社27,300円　(2)大学・官公庁9,450円　(3)学生3,150円　(4)接着と塗装研究会メンバー　a)会社21,840円　b)大学・官公庁7,560円　3）申込方法　申込用紙（896頁）に記入しお申し込みください．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　接着と塗装研究会講座係

平成11年度無機高分子オープンセミナー

主題＝無機高分子－無機-有機相互作用を利用した材料開発
＜趣旨＞無機高分子および無機高分子をベースとした高分子材料は広い領域をカバーしており，さまざまな物質系を含んでおります．今回は，無機-有機相互作用に焦点をあて，さまざまなレベルでの無機-有機相互作用を利用した材料開発について，基礎と応用の両面から企画しました．無機高分子関連材料の広がりを再認識していただき，このオープンセミナーがまた新しい研究の芽を見つけていただく一助となれば幸いです．
主　催高分子学会　無機高分子研究会
日　時1月25日（火）～26日（水）1泊2日
会　場早稲田大学本庄セミナーハウス（埼玉県本庄市大字栗崎字東谷214　TEL0495-21-1351　交通：上野駅から特急で約1時間30分）
プログラム
第1日＝1月25日
＜13:00～17:15＞
  1. 機能材料としてのモレキュラーハイブリッド（東理大理工）阿部芳首
  2. ポリイミド-シリカ複合体の作製と特性（東工大院理工）柿本雅明
  3. 無機-有機相互作用を利用したメソポーラス材料合成（電総研）本間　格
  4. スズ化合物を用いた材料開発（日東化成）岡本和夫
＜18:00～21:00＞　懇親会
第2日＝1月26日
＜8:30～12:10＞
  1. ゾル-ゲル法による材料合成（関西新技術研）會澤　守
  2. Si以外の無機成分を含む無機-有機ハイブリッドの合成（新日鐵）片山真吾
  3. 5配位オリゴシラン：合成，構造および電子特性（物質研）畠中康夫
  4. 表面グラフト反応による無機-有機ハイブリッド合成（新潟大工）坪川紀夫
参加要領　1）定員50名　2）参加費（銀行振込）　(1)会社15,750円　(2)大学・官公庁10,500円　(3)学生3,150円　(4)無機高分子研究会メンバー　7,350円　3）宿泊費9,000円（1泊3食付き）参加費と一緒にお振り込み下さい．4）申込方法　申込用紙（下記）に記入し，お申し込みください．参加証は順次お送りします．★本セミナーは，講師と参加者が一緒に宿泊して，討論・懇談ができるよう企画しております．
申込先　高分子学会　無機高分子オープンセミナー係

第11回高分子ゲル研究討論会

主　催高分子学会　高分子ゲル研究会
協　賛（予定）応用物理学会　日本化学会　日本薬学会　日本食品科学工学会　日本物理学会　写真学会　日本農芸化学会　化学工学会　日本レオロジー学会　日本バイオレオロジー学会　日本木材学会　日本生物物理学会
日　時1月27日（木），28日（金）
会　場東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1　TEL03-5841-2330）
プログラム［研究発表15分／件（発表10分・討論5分）］（座長交渉中）
第1日＝1月27日
＜9:50～10:00＞
  1. 開会の辞　運営委員長（慶應大理工）川口春馬
＜10:00～10:45＞　［座長　青島貞人］
  1. 分散重合で生成する架橋微粒子の構造制御（慶應大理工）°橋本康弘・藤本啓二・川口春馬，（積水化学）永井康彦
  2. 分子認識に基づくゲル微細構造の推定とその制御（京工繊大繊維）°細矢　憲・寺町正史・佐々木　寛・池上　亨・田中信男
  3. 多孔質構造をもつ刺激応答性高分子ゲルの合成とその応答性（千葉工大工）゜浅野智美・四十宮龍徳，（物質研）岸　良一・三浦俊明・一條久夫
＜10:45～11:45＞　［座長　岸　良一］
  1. ポリ（フッ化ビニリデン）の有機溶媒中でのゲル化（神奈川工科大工）°和田理征・岡部　勝
  2. リビングカチオン重合による種々のブロックコポリマーの合成と溶媒添加によるゲル化（東理大理工）青島貞人・°松園真一郎・杉原伸治
  3. リビングカチオン重合による種々の感熱応答性ブロックコポリマーの合成と物理ゲル形成挙動（東理大理工）青島貞人・°橋本清和・杉原伸治
  4. 熱変性による球状タンパク質のゲル化過程解析（京工繊大繊維）°高田慎一・柴山充弘
＜13:00～13:45＞　［座長　川口春馬］
  1. 固体NMR法によるエチレン・ビニルアルコール共重合体ゲルの構造とダイナミックスの研究（東工大院理工）°兼清真人・小林将俊・安藤　勲，（奈良女大院人間文化）黒子弘道，（クラレ）網屋繁俊
  2. NMR法によるポリ（ビニルアルコール）ゲルの構造とダイナミックス，ゲル生成機構の研究（東工大院理工）°小林将俊・兼清真人・安藤　勲，（クラレ）網屋繁俊
  3. パルスNMRを用いた緩和時間および拡散係数測定による天然高分子ゲルの構造に関する研究（東京水産大水産）°松川真吾・阿部美希・渡部徳子
＜13:45～14:30＞　［座長　西成勝好］
  1. 動的光散乱法によるゼラチンゲルの構造解析（京工繊大繊維）°岡本勝彦・柴山充弘
  2. 物理架橋ゲル中の構造不均一性に関する研究（京工繊大繊維）°辻本雅之・柴山充弘，（ロレアル先端研）一階文良
  3. ケラチンタンパクゲルの調製とその構造（ロレアル先端研）°一階文良・安田　徹・内藤幸雄
＜14:45～15:30＞　［座長　安藤　勲］
  1. Comparison of Rheological and Thermal Properties of Some Heat-induced Polymeric Aqueous Gels（大阪市大生活科学）°張　洪斌・西成勝好・T. Foster・I. Norton
  2. 末端架橋高分子網目中の高分子鎖の粘弾性緩和（京大化研）°横山景介・浦山健治・°谷信三
  3. 蛍光相関分光法によるゲルの物性解析（北大院理）°成田哲治・Jian Ping Gong・長田義仁，（北大電子研）西村吾朗・金城政孝
  4. ゲル点の見積もり（河野臨床医学研）末松和実
＜15:45～17:30＞　ポスターセッション

＜15:45～17:05＞　イントロダクション（90秒／件）
P-1応力拡散カップルドモデルによるゲルの大変形シミュレーション（JCII土井プロ）°山上達也，（名大院工）谷口貴志・土井正男
P-2流体がPVA-PAAブレンドゲル界面の壁面せん断応力に及ぼす影響（信州大院工）°吉田岳志・渡辺真志・平井利博
P-3PVAゲルの構造と水の状態 （信州大繊維）°山口貴明・奈倉正宣・後藤康夫・大越　豊
P-4カルシウム-ペクチンゲルの熱安定性（大妻女大家政）°飯島美夏・畠山立子・中村邦雄，（福井工大工）°畠山兵衛
P-5ゲル法による高強度・高弾性ポリエチレン繊維表面への接着相の形成（信州大繊維）°石川雄二・藤松　仁・宇佐美久尚
P-6膨潤－超延伸法による超高分子量ポリエチレンの繊維化とその条件[II]重量平均分子量330万のポリエチレンについて（信州大繊維）°林　貴志・藤松　仁・宇佐美久尚
P-7電場下でのポリウレタンのUVスペクトル（信州大繊維）°渡辺真志・鈴木道斎・平井利博，（ニッタ）°鈴木　信・平子慶之
P-8スピロピラン誘導体を添加した高分子膜の光応答性（信州大院工）°比田井　理・渡辺真志・平井利博
P-9Stimuli-sensitive Poly(silamine) Hydrogel Based on Rod-coil Transition（東理大基礎工）°　Laibin Luo・長崎幸夫・加藤政雄，（東大院工）片岡一則，鶴田禎二
P-10フェニルボロン酸含有高分子ゲルビーズの調製とそのグルコース応答性膨潤・収縮挙動の画像解析評価（東大院工）倉田健幸
P-11高分子ゲル担体上へのリポソームの固定化（信州大院工）°於保隆宏・奥村幸久・三谷道治
P-12分子認識部位を有する高分子膜の調製と核酸塩基の選択的上り坂輸送（関西大工）°夫婦岩昭美・浦上　忠・宮田隆志
P-13ヒアルロン酸架橋ゲルと医薬品の相互作用（国立医薬品食品衛生研）°四方田千佳子・岡田敏史
＜18:00～20:00＞　懇親会（東京大学　山上会館）

第2日＝1月28日
＜9:45～10:45＞　［座長　青柳隆夫］
  1. ミセルの積層による表面上へのラメラ状のハイドロゲルの構築とその応用（東理大基礎工）°惠本和法・飯島道弘・長崎幸夫，（東大院工）片岡一則
  2. 二分子膜ラメラ構造を固定化したヒドロゲル（海洋科学技術セ）°辻井　薫・早川正樹・恩田智彦，(MIT)田中豊一
  3. ヒドロゲル中における界面活性剤の会合挙動（海洋科学技術セ）°辻井　薫・村瀬靖幸，(MIT)田中豊一
  4. ウレタン結合を有する重合性糖鎖モノマーの合成とそのゲル性状（新潟大工）外山裕二・丸山大輔・石井克行・°飯田高三
＜10:45～11:45＞　［座長　長崎幸夫］
  1. 3-カルボキシ-n-プロピルアクリルアミド-イソプロピルアクリルアミド共重合体およびゲルの合成とLCST挙動（早大理工）°太田智明・荏原充宏・酒井清孝，（東女医大）青柳隆夫・岡野光夫
  2. 2-カルボキシイソプロピルアクリルアミド-イソプロピルアクリルアミド共重合ゲルの温度に応答した収縮挙動（早大理工）°荏原充宏・酒井清孝，（東女医大）青柳隆夫・岡野光夫
  3. ゲルにおけるパターン形成のメカニズム（三重大工）°田昌之
  4. 熱応答性ゲルの収縮パターンと二相共存（横浜国大院工）°白　　剛・鈴木淳史
＜13:00～14:00＞　［座長　渡辺正義］
  1. ゲルを媒体とした化学振動反応－振動波形から観察される反応基質・生成物の拡散阻害効果（筑波大応用生化系）°小野寺聡子・吉田　亮・山口智彦・国府田悦男
  2. 反応拡散と運動リズムのカップリングによる新しいゲルの散逸構造－体積振動と振動反応の共役機構（筑波大応用生化）°吉田　亮・田中雅美・山口智彦・国府田悦男
  3. 電場により誘起される可塑化ポリ塩化ビニルの変形挙動（信州大院工）°山口正樹・渡辺真志・平井利博
  4. 筋肉タンパクのゲル化と滑り運動特性 （北大院理）°角五　彰・瀬口達也・金子達雄・Jian Ping Gong・長田義仁
＜14:00～14:45＞　［座長　吉田　亮］
  1. カチオン性高分子ハイドロゲルの刺激応答性（物質研）°飯尾　心・三浦俊明・平山和子
  2. アクリルアミド系ゲルの体積相転移における重水素効果（東大院工）°遠藤賀子・城田秀明・堀江一之
  3. N-イソプロピルアクリルアミド／マレイン酸系高分子電解質およびゲルの電位差滴定挙動（筑波大応用生化）°近藤卓哉・鈴木宏典・吉田　亮・国府田悦男
＜15:00～15:45＞　［座長　堀江一之］
  1. ホスホニウム基を有する感温性高分子ハイドロゲルの構造と機能（熊本大工）°野中敬正・廣田安彦・栗原清二
  2. 光学活性な感温性ハイドロゲルの膨潤・収縮特性（上智大理工）°村松美香・青木隆史・讃井浩平
  3. 酵素包括ゲル内部における反応基質・生成物の濃度分布形成とその膨潤・収縮過程への影響（筑波大応用生化系）°小川和義・吉田　亮・国府田悦男
＜16:00～16:45＞　［座長　片岡一則］
  1. 抗原応答性ゲル膜の構造設計とインテリジェント物質透過制御機能（関西大工）°宮田隆志・浅見典子・浦上　忠
  2. テンプレート効果によるゲルの細胞接着性制御（北大院理）°角田　智・成田哲治・J.P. Gong・長田義仁，（東大医）高橋希美子・安藤譲二
  3. 温度で親水性／疎水性を変化させるポリ（N-イソプロピルアクリルアミド）(PIPAAm)ゲル修飾表面の生医学分野への応用（東女医大）°菊池明彦・權五　亨・大和雅之・岡野光夫
＜16:45～16:50＞　閉会の辞（横浜国大工）渡辺正義
参加要領　１）定員120名　２）参加費　(1)会社・大学・官公庁7,350円　(2)研究会メンバー5,250円　(3)学生3,150円　3）懇親会参加費：3,000円　4）申込方法　申込用紙（959頁）に懇親会の参加の有無を記入してお申込ください．
申込先　高分子学会　高分子ゲル研究討論会係

99-2高分子表面研究会（第9回研究発表会）

主　催高分子学会　高分子表面研究会
協　賛日本化学会
日　時1月28日（金）　13:00～17:00
会　場総評会館401会議室（東京都千代田区神田駿河台3-2-11　TEL03-3253-1771）
プログラム
＜13:00～14:00＞
  1. 高分子表面の撥水・滑水による濡れ性評価（神戸大工）°漆原良昌・有馬祐介・西野　孝・中前勝彦
  2. 表面力測定を用いた高分子電解質ブラシの相互作用の転移の研究（東北大反応研）°林修二郎・栗原和枝
  3. 価電子帯スペクトルの理論計算と実験データによる高分子表面構造変化の解析（理研）中尾愛子・岩木正哉，（金沢大理）小泉誠司・遠藤一央
  4. アニリンオリゴマーの deMon DFT プログラムによるXESおよびAESの解析（金沢大理）°名嘉克弥・大塚教雄・遠藤一央・須原正彦
＜14:05～15:20＞
  1. X線照射によるニトロセルロースの表面分解過程の解析（金沢大理）°遠藤一央，（三菱製紙総研）前田茂宏・三浦偉俊，（表面分析研）有機材料G
  2. LB膜中でのメロシアンによるJ-会合体形成に伴うモルホロジー変化（物質研・東理大理工）°橘　浩昭・山中康史・酒井秀樹・阿部正彦・松本睦良
  3. LB膜中での自己組織化に伴うモルホロジー変化（東理大理工・物質研）°山中康史・橘　浩昭・酒井秀樹・阿部正彦・松本睦良
  4. ハロゲン化合物による金属(Sb)成分のフィルム内通過促進移動（帝人　構造解析研）三木哲郎
  5. 含フッ素ポリイミド膜の表面特性とタンパク質吸着量の相関（都立大院工）川上浩良・°高橋健夫・長岡昭二
＜15:25～16:40＞
  1. へキサメチルジシロキサンのプラズマ重合における共存酸素の影響（群馬大工）°黒田真一・杉本英敏・久保田仁
  2. シクロヘキサン-アルコール2成分液体中のガラス／シリカ表面へのクラスター形成（東北大反応研）°水上雅史・栗原和枝
  3. フッ素系高分子の銅メタライジングのためのリモートプラズマ処理（静岡大工）°朴　容佑・田坂　茂・稲垣訓宏
  4. パルスプラズマ処理によるポリアリルエーテルエーテルケトンフィルムの表面改質（静岡大工）°成島和男・田坂　茂・稲垣訓宏
  5. フッ素フィルムの接着力評価法（旭硝子　中研）°沖　　聡・有賀広志・実桐幸男・米森重明
参加要領　１）定員40名　２）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社・大学・官公庁4,200円　(2)学生2,100円　(3)表面研究会メンバー　無料　３）申込方法　申込用紙（959頁）に記入しお申し込みください．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　99-2高分子表面研究会係