2001年１月以降の行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

January

第4回日中高分子ABC科学技術交流セミナー

Japan-China Seminar on Advanced Engineering Plastics, Polymer Alloys and Composites
＜趣旨＞1995年に第1回中日科学技術交流セミナーを開催して以来，ABC研究会活動の一環として中国の研究者との交流が活発に行われています．引き続き第4回交流セミナーを2001年のはじめに行うことになりました．奮ってご参加下さい．
主　催 高分子学会　高分子ABC研究会　中国・高技術新材料領域専家委員会
協　賛 プラスチック成形加工学会
会　期 2001年1月7日（日）～10日（水）
会　場 香港科学技術大学 (The Hong Kong University of Science and Technology)
プログラム
［招待講演］
January 8 (Mon), 2001
＜8 : 30～12 : 00＞
Opening Remarks
  1. Study on PP/Aragonite Whisker Composites (Institute of Chemistry, Academia Sinica, *Xi'an Jiaotong University) Wenyu Shang, Shoutian Chen*, Zongneng Qi
  2. New Braided Composites: Fabrication and Properties (Kyoto Institute of Technology) Hiroyuki Hamada
  3. Tensile and Impact Property of Long Fiber Reinforced Polypropylene and Polyamide 6 Injection Moldings (Zhe-jiang University) Guijun Xian, Yi Pan, Xiao-Su Yi
  4. Comprehensive Analysis of GFRP Fatigue (Yamagata University) Takashi Kuriyama
  5. Study on Epoxy/Rubber/Clay Three-Phase System (Zhejiang University, *Key Laboratory of Advanced Composites) Jiankun Lu, Xiao-Su Yi*
  6. Super-Damping Polymer Alloy (Kanazawa University) Chifei Wu
＜13 : 30～14 : 00＞　Poster Preview-I
＜14 : 00～16 : 20＞
  1. A Method to Control the Dispersion of Carbon Black in an Immiscible Polymer Blends （Hong Kong University of Science and Technology) Chi-Ming Chan, Jiyun Feng, Jian-Xiong Li
  2. Shear Flow Effects on Phase Behavior and Morphology in Polymer Alloys (Tokyo Institute of Technology) Toshiaki Ougizawa
  3. Progress on Fibrous Polymeric Adsorbents (Zhongshan University) Hanmin Zheng, Shuixia Chen
  4. Polymer Industries in Asia: Prospect in New Century (MSA Institute) Masahide Tashiro
＜16 : 20～16 : 50＞　Poster Preview-II
Poster Presentation
January 9 (Tue), 2001
＜8 : 30～11 : 50＞
  1. A Study on Dynamic Plasticating Injection for Polymers with Vibration Force Field (South China University of Technology) Jinping Qu
  2. A Injection Expanded Molding of Long Fiber Reinforced Plastics (Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) Yoshiaki Saito
  3. Paint Thinner Permeation Resistance of the Polyethylene, Polyethylene/Polyamide and Polyethylene/Modified Polyamide Bottles (National Taiwan University of Science and Technology) Jen-Taut Yeh, Wei-Hsiang Shih
  4. Polymer Alloys for Engineering Plastics (Du Pont-Toray Co., Ltd.) Kazumasa Chiba
  5. Reactive Compatibilization of Polyblends through a Coupler (National Chiao-Tung University) Feng-Chih Chang
  6. Polymer Recycle from Wire Cable (Sumitomo Electric Industries, Ltd.) Shinya Nishikawa
＜13 : 20～13 : 50＞　Poster Preview-III
＜13 : 50～16 : 10＞
  1. Mechanical Properties and Fracture Behavior of in-situ Ternary LCP/Polyamide-6/RSMA Composites (Huazhong University of Science and Technology, *City University of Hong Kong) Xiao-Lin Xie, P.-K.-Y. Li*, S.-C. Tiong
  2. Mechanical Properties and Morphology of Ethylene-Propylene Block Copolymers with Isotactic Propylene Sequence (Japan Advanced Institute of Science and Technology) Koh-hei Nitta
  3. The Effect of Compatibilizer on Morphological Structure and Preparation Technology of EPDM/PP Thermoplastic Elastomer (HuBei University) Tao Jiang, Shiyuan Cheng
  4. Hydrogenated Block Copolymers and Application (Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) Kiyoo Kato
＜16 : 10～16 : 40＞　Poster Preview-VI
＜16 : 40～18 : 10＞　Poster Presentation
［ポスター発表］
  1. Miscibility of Poly(vinyliden fluoride)/Polyalkylmethacrylate Blend Evaluated by Crystallization Dynamics Using the Simultaneous-DSC-FT-IR Method (Tokyo Metropolitan University) G. Z. Zhang, T. Kitamura, H. Yoshida, T. Kawai
  2. Degradability and Morphology for Films and Fibers of Poly-L-Lactic Acid Blended with Polycaprolactone or Polybuthylenesuccinate (Gifu University) Tomoyuki Kasemura, Shinnya Takahashi, Naoto Kuriyama
  3. Dynamic Mechanical Properties of Pressure-Sensitive Adhesives Utilized in Semiconductor Processing (The Furukawa Electric Co., Ltd.) Yoshihisa Kano, Yasumasa Morishima, Hiromitsu Maruyama
  4. Morphology and Mechanical Properties for Binary Blends of Polypropylenes with Different Tacticities (Chisso Co., Ltd., *Japan Advanced Institute of Science and Technology) Hisanobu Minamizawa, Koh-hei Nitta
    5. *
  5. Deformation and Relaxation of Molecular Conformation in the Injection Molding of Homogeneous Polymer Blends (Toyota Technological Institute) Tadaoki Okumoto,Mitsuru Nagasawa, Akito Sakai
  6. Ultradraw of LMWPE and UHMWPE Blend Films Prepared by Gelation/Crystallization from Solutions (Nara Women's University) Uezhen Bin, Hiromichi Kurosu, Masaru Matsuo
  7. Surface Morphology of Crystalline Amorphous Diblock Copolymer Films (Japan Advanced Institute of Science and Technology) Satoshi Tanimoto, Shuichi Nojima, Shintaro Sasaki
  8. Dynamic Percolation Phenomenon and Its Role in Characterization of Nanoparticle-filled Polymer Composites (Tokyo Institute of Technology) Guozhang Wu, Shigeo Asai, Masao Sumita
  9. Damping Properties and Crystallization Behavior of Chlorinated Polyethylene Based Organic Hybrids (Tokyo Institute of Technology, *Zhejiang University of Technology) Cheng Zhang*, Tadashi Miura, Shigeo Asai, Masao Sumita
  10. Competition between Component Chains in Crystallization of Crystalline-Crystalline Block Copolymers (Nagaoka University of Technology) Tomoo Shiomi,Hiroki Takeshita, Katsuhiko Fukumoto, Takeshi Onishi, Kazuyoshi Imai, Katsuhiko Takenaka, Yasuyuki Tezuka
  11. Morphological Studies on Interpenetrated Spherulites in Miscible Crystalline Polymer Blends (The University of Tokyo) Satomi Hirano, Yasuhiko Terada, Takayuki Ikehara, Toshio Nishi
  12. Reactive Processing of Ternary Blends for Rubber-Toughened PPS (Tokyo Institute of Technology, *Otsuka Chemical Co., Ltd.) Jung-Bum An, Toshiaki Ougizawa, Takashi Inoue, Yoshiaki Ishii*, Tadashi Yoshizaki*
  13. Study on Polymer Alloys of Polybenzoxazine and Polyimide (Toyohashi University of Technology) Tsutomu Takeichi, Tarek Agag, Yusuke Kusakabe, Rachib Zeidam
  14. Morphology and Surface Composition in Crosslinkable Polydimethylsiloxane/Poly(methyl methacrylate) Blend Films Prepared by Solution Casting (Tokyo University of Agriculture and Technology) S. Akiyama, K. Seki, Y.-J. Lee, I. Akiba
＜中国側からもほぼ同数のポスター発表が予定されています＞
参加要領　１）登録費　(1)正会員30,000円　(2)学生会員20,000円　(3)同行者10,000円　２）宿泊費15,000円（香港科学技術大学宿舎を使用，3泊分）　３）航空運賃（9月現在の概算）成田発着69,000円/関空発着・名古屋発着72,000円　４）オプショナルツアー　セミナー終了後，深開発地区の工場見学を予定　５）観光　昆明を予定〈見学，観光の費用は別途かかります．登録申込者に詳細をお知らせします〉　６）申込方法　申込希望者は氏名，所属，連絡先，電話，FAXを明記し〈第4回JCセミナー申込書希望〉と書いて，FAXでお申し込み下さい．７）申込締切　11月7日（火）
申込先　高分子学会　第4回JCセミナー係　FAX 03-5540-3737

2000-2高分子錯体研究会

主題＝ガス吸蔵および反応のための高分子錯体
＜趣旨＞ガスの吸蔵や，その吸蔵点を反応場とする高機能触媒，さらにこの反応場に電極を直結した燃料電池などについて，合成高分子錯体では分子設計と集合体の構築の研究が活発に行われています．本研究会では，これらの分野からガス反応のための高分子錯体や，ガス運搬や貯蔵のための高分子錯体のトピックスを集めて，講演および討論を行います．
主　催 高分子学会　高分子錯体研究会
日　時 1月12日（金）13 : 30～17 : 00
会　場 大阪大学待兼山会館2階（大阪府豊中市待兼山町1-1　TEL06-6850-5000）
講　演
  1. 水素と金属ナノ粒子（山口東理大）戸嶋直樹
  2. 超分子鋳型法により合成した有機/シリカハイブリッドメソポーラス物質の合成（豊田中研）稲垣伸二
  3. 新規多孔性配位高分子錯体およびその応用－吸着式ガス貯蔵方法（大阪ガス応用研）関　建司
  4. カルボン酸金属錯体を用いた機能性細孔の構築（神奈川大理）森　和亮
  5. 配位高分子を用いる多重機能細孔吸着材料（京大院工）北川　進
参加要領　１）定員40名　２）参加費(銀行振込）　会員　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子錯体研究会メンバー　無料　３）申込方法　申込用紙（872頁）に記入し，お申し込み下さい．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　2000-2高分子錯体研究会係

東北地区会員増強支部講演会

主題＝バイオ高分子の利用
趣　旨バイオ高分子にはわれわれの想像を超える未知なる機能が備わっています。今回の講演会では，タンパク質と多糖にスポットをあて，それらの機能性高分子としての利用について，最近の研究成果を講演していただきます。
主　催高分子学会東北支部
日　時1月16日（火）15:00～17:00
会　場東北大学反応化学研究所2号館2階セミナー室（仙台市青葉区片平2-1-1）
講　演 1) タンパク質分子と化学力学エネルギー変換（東北大院工） 鈴木　誠

2) 多糖誘導体を用いる光学分割（名大院工） 岡本　佳男
参加要領参加費無料
申込先 ［980-8579］宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉07　東北大学大学院工学研究科　正田晋一郎
Tel: 022-217-7230　Fax 022-217-7293　E-mail: shoda@poly.che.tohoku.ac.jp

第12回高分子ゲル研究討論会

主　催 高分子学会　高分子ゲル研究会
日　時 1月18日（木），19日（金）
会　場 東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1　TEL03-5841-2330）
プログラム
第1日＝1月18日　開会の辞　（運営委員長・横浜国大工）渡邉正義
＜9 : 30～12 : 00＞
田中豊一先生　追悼セッション（題目は仮題）
  1. 高分子ゲル研究会の発足　山内愛造
  2. MIT田中豊一研究室（日本ゼオン）廣川能嗣
  3. 高分子ゲル研究会のあゆみ（北大院理）長田義仁
  4. 田中先生の業績（体積相転移を中心として）（東工大院生命理工）弘津俊輔
  5. 国際舞台での田中先生のご活躍 (Technical Univ. of Budapest) M. Zrinyi
挨拶　（副運営委員長・東大物性研）柴山充弘
［研究発表］
（研究発表10分・討論5分/件）（座長交渉中）
＜13 : 00～14 : 00＞　［座長　柴山充弘］
  1. 超低速応答ゲル（群馬大工）゜廣木章博・片貝良一，（原研高崎）前川康成・吉田　勝
  2. 拘束された高分子ゲルの膨潤特性（横浜国大院工）°原　拓・呉　細栄・鈴木淳史
  3. 高分子電解質の温度・塩濃度変化に対する構造の応答（核融合研）田中基彦
  4. ゲルのメカノケミカルカップリング現象：外的環境への力学応答（九大院理）°古賀尚悟・佐々木茂男・前田　悠
＜14 : 00～14 : 45＞　［座長　佐々木茂男］
  1. 放射線架橋によるN-イソプロピルアクリルアミドゲルの解析（京工繊大院工芸科学）°増井直樹，（京工繊大繊維）則末智久，（東大物性研）柴山充弘
  2. 分子レベルでの高度架橋ゲルの構造制御と認識（京工繊大繊維）°細矢　憲・久井清輝・池上　亨・田中信男・則末智久，（東大物性研）柴山充弘
  3. 光架橋型ポリビニルアルコールゲルの膨潤挙動（東邦大理）°進藤洋一・木下真知子・長谷川匡俊・井上和夫，（ムラカミ）川延淳一
＜15 : 00～15 : 45＞　［座長　吉田　勝］
  1. ハイドロゲルの液晶構造形成に及ぼす水の効果（北大院理）°山岡寛司・金子達雄・J. P. Gong・長田義仁
  2. 長鎖アルキル基を有する高分子ゲルでの疎水性ドメイン形成（日大理工）°平松正幸・栗田公夫，（ロレアル先端研）一階文良・内藤幸雄
  3. 8の字架橋点を用いたトポロジカルゲル：ポリロタキサンゲルの合成と物性（東大工）°奥村泰志・伊藤耕三
＜15 : 45～16 : 45＞　［座長 Jian Ping Gong］
  1. タンパク質類似ゲル-新規機能性モノマー，「インプリンター」の利用 (MIT) °森谷東平・C. A. Lorenzo・田中豊一
  2. ヘテロ高分子ゲル中のフラストレーションおよびターゲット分子吸着挙動の制御 (MIT)°伊藤賢志・渡邉　毅・C. A. Lorenzo・田中豊一
  3. 2-Methacryloyloxyethyl Phosphorylcholine (MPC) ポリマーゲルのアルコール水溶液中における可逆的体積相転移（東大院工）°切通義弘・橋本幸彦・石原一彦
  4. 相補的水素結合を利用した核酸塩基導入ゲル膜の上り坂輸送特性（関西大工）浦上　忠・°夫婦岩昭美・宮田隆u
ポスターセッション　イントロダクション（60秒/件）
＜17 : 00～18 : 20＞
  1. ビニル系ハイドロゲル生成機構[II]　React IR によるモノメタクリレート/ジメタクリレート架橋共重合系の反応追跡（関西大工）松本　昭・°松浦崇子・大高豊史・青田浩幸
  2. モノメタクリレート/ジメタクリレート架橋共重合におけるミクロゲル化の追求（関西大工）松本　昭・°松川明裕・木口忠広・青田浩幸
  3. トリアリルイソシアヌレートの重合特異性[XIII]　一次ポリマー鎖の剛直性とゲル化挙動（関西大工）松本　昭・°平尾親臣・上田哲義・青田浩幸，（日本化成）高山義弘・名倉豊二
  4. 連鎖移動剤存在下におけるベンジルメタクリレートとネオペンチルグリコールジメタクリレートの架橋共重合：通常のネットワーク形成とポップコーン化の境域における三次元化挙動（関西大工）松本　昭・°清水紳司・浅井　学・青田浩幸
  5. ミクロスペースでのN-イソプロピルアクリルアミドの沈殿重合（慶應大院理工）°加古あかね・川口春馬
  6. 水溶性NIPA-PEGブロックポリマーの合成と物理化学的特性（千葉大院自然科学）°元川竜平・安中雅彦・中平隆幸，（原研先端基礎研究セ）小泉　智
  7. 逆相懸濁重合によるNIPAゲルビーズの合成と物理化学的特性（千葉大院自然科学）°葛西正樹・安中雅彦・中平隆幸，（東女医大医工研）青柳隆夫・岡野光夫
  8. 拡散を考慮したキトサンゲルの拡散モデル（政策科学研）山口治子
  9. 光散乱実験にもとづいた高分子ゲルのモデルの考察（お茶大院人間文化）°三輪公美・出口哲生
  10. 界面反応を用いたウレタン化PVA膜の調製とチューブ化への応用（信州大繊維）°中村毅彦・渡辺真志・平井利博
  11. メチルセルロース水溶液のゲル化機構（日本女子大理）°高橋雅江・島崎昌子
  12. ハイドロゲルの結晶形成における水の役割（北大院理）°宮崎　崇・松田　篤・金子達雄・J. P. Gong・長田義仁
  13. 放射線照射法により合成したゲルの温度応答速度に及ぼす照射温度の影響（群馬大工）°廣木章博・片貝良一，（原研高崎）前川康成・吉田　勝
  14. 電気伝導度による温度応答性ゲルの体積相転移挙動の評価（新潟大工）°陳　進華・坪川紀夫，（原研高崎）前川康成・吉田　勝
  15. ネイティブジェランガム溶液/ゲルのレオロジーおよび熱的性質（阪市大生活科学）°新田陽子・三好恵真子・池田新矢・高谷友久・西成勝好
  16. 物質輸送過程からみた光学活性ハイドロゲルの分子認識（横浜国大工）°西尾由利子・中山大輔・竹岡敬和・渡辺正義
  17. アルギン酸ヒドロゲルの調製法とその熱機械的性質（大妻女子大家政）°飯島美夏・笠間充子・前川久乃・中村邦雄・畠山立子
  18. セルロースゲルの物性に及ぼす調整条件の影響（崇城大工）°村上良一・藤川猛志・小窪賢太郎
  19. 温度応答性コポリマーの収縮メカニズム（農工大工）°石黒直孝・上野正宙・米澤宣行，（原研高崎）前川康成・吉田　勝
  20. イオン導電性高分子アクチュエータの変形シミュレーション（JCII土井プロ）°山上達也，（名大院工）谷口貴志・土井正男
  21. 疎水性対イオンのアクリル酸ゲル内外への分配に及ぼす静電相互作用の効果（九大院理）°古賀尚悟・今林良太・佐々木茂男・前田　悠
  22. 構造を記憶した高分子ゲルの創成 (MIT) °伊藤賢志・田中豊一，（岡山大工）崎山高明
  23. グルコース応答性高分子ゲルを用いたインスリン放出デバイスへの展開：共重合組成比の調節による応答条件の最適化（東大院工）°松元　亮・原田敦史・片岡一則，（鹿児島大工）山元和哉・芹沢　武・明石　満
  24. ポリウレタンの曲げ電歪-印加電場の極性を反転した場合の挙動-（信州大繊維）°渡辺真志・平井利博，（ニッタ）鈴木　信・平子慶之
  25. 親水性成分導入キトサン誘導体ゲル膜によるエタノール水溶液の分離濃縮（関西大工）浦上　忠・°板垣保広・山本学志・宮田隆志
  26. 温度応答性コポリマーゲルの収縮速度に及ぼすモノマー組成の影響（群馬大工）゜J. Hendrl・廣木章博・片貝良一，（原研高崎）前川康成・吉田　勝
＜18 : 30～20 : 00＞　懇親会（東京大学　山上会館）
第2日＝1月19日
＜9 : 30～10 : 15＞　［座長　川口春馬］
  1. モノビニル/ジビニル架橋共重合：ネットワークポリマー生成過程におけるミクロゲル化についての一考察（関西大工）°松本　昭・松川明裕・木口忠広・青田浩幸
  2. ポリスチレンの重合過程の比較-規制ラジカル重合とラジカル重合（京工繊大院工芸科学）°森永隆志，（京工繊大繊維）則末智久，（東大物性研）柴山充弘，（京大化研）福田　猛・後藤　淳・佐藤弘一
  3. リビングカチオン重合による種々のブロックコポリマーの合成と刺激応答性物理ゲルの設計（阪大院理）青島貞人・°吉田友秀・杉原伸治
＜10 : 15～11 : 00＞　［座長　青島貞人］
  1. ポリ（フッ化ビニリデン）ホモポリマーおよびコポリマーのゲル化に及ぼす溶媒効果（神奈川工大応化）°和田理征・田崎美智子・岡部　勝
  2. イオン性液体を高分子網目中に閉じ込めたイオンゲルの合成と特性（横浜国大工）°渡邉正義・野田明宏・金子健人
  3. 電荷注入による非イオン性ゲルの駆動-ポリビニルアルコール(PVA)ゲルの特異的電場応答（信州大繊維）°萩原美映子・渡辺真志・平井利博
＜11 : 15～12 : 00＞　［座長　岡部　勝］
  1. ポリウレタンの曲げ電歪における微量の塩の添加効果（信州大繊維）°加藤孝弘・渡辺真志・平井利博，（ニッタ）鈴木　信・平子慶之
  2. 発泡ポリスチレン製包装容器からのゲル状吸着剤の製造とその機能（熊本大工）°野中敬正・友澤将良・緒方智成・栗原清二
  3. 超耐放射線材料の開発－超耐放射線高分子ゲルへの微細アルミ箔の役割（日本文理大工）°大西靖彦，（原研那珂）大川慶直，（東洋アルミニウム）加藤晴三，（明電舎）長沢　清，（ポリプラスチックス）岡田常義，（クラレ）西面憲二，（日石三菱）板野文裕，（関電工）村野桂大，（原研高崎）八木敏明・森田洋右・瀬口忠男
＜13 : 00～13 : 45＞　［座長　一階文良］
  1. 絹フィブロインタンパク質のゲル-ゾル転移に関する研究（科技団・生物資源研）°小林将俊・馬越　淳・田中稔久・井上俊一，（科技団・蚕昆研）・馬越芳子・津田英利
  2. カードラン水分散液のゲル化（阪市大生活科学）°西成勝好・H. Zhang, (Unilever Research) T. Foster・I. Norton
  3. 粘弾性，CDおよびT2測定によるゼラチンの構造変化の速度論的研究（東京水産大水産）°阿部絹子・松川真吾・渡部徳子
＜13 : 45～14 : 45＞　［座長　西成勝好］
  1. ESR法を用いた2価カチオン添加ジェランガム水溶液における高次構造形成の観察（東京水産大水産）°金坂　将・松川真吾・渡部徳子
  2. ケラチンタンパク質水溶液のゲル化機構に関する研究（ロレアル先端研）°一階文良・内藤幸雄
  3. キトサン架橋型pH応答ゲルの合成とDDSへの応用（原研高崎）°A. E. A. Sald・前川康成・久米民和・吉田　勝
  4. 混合貧溶媒中での沈殿重合による温度応答性ミクロゲルの合成（慶應大院理工）°高橋利雄・川口春馬
＜15 : 00～16 : 00＞　［座長　青柳隆夫］
  1. リビングラジカルグラフト重合により生成した温度応答性ヘア粒子の特性（慶應大院理工）°磯野洋子・川口春馬
  2. ゲル微粒子を用いた 2 次元構造体の創製（慶應大院理工）°中濱数理・藤本啓二
  3. 反応拡散モデルによる酵素包括ゲルの生成物不均一分布・収縮形態変化の検討（筑波大応生化）°小川和義・吉田　亮・国府田悦男
  4. 抗原応答性ゲルの応答挙動に及ぼすゲル構造の影響（関西大工）°宮田隆志・浅見典子・浦上　忠
＜16 : 15～17 : 00＞　［座長　藤本啓二］
  1. 高分子ゲルのネットワーク構造制御と生体組織粘着性（神戸大工）°中前勝彦・加藤功一・福本好央・島岡秀行
  2. 負荷電を導入したポリ（N-イソプロピルアクリルアミド）の固体表面への固定化と細胞粘脱着制御（早大理工）°荏原充宏・酒井清孝，（東女医大）青柳隆夫・岡野光夫
  3. イオン性基をもつ温度応答性ゲル修飾表面と生理活性物質との相互作用（早大理工）°小林　純・酒井清孝，（東女医大医工研）菊池明彦・岡野光夫
閉会の辞
参加要領　1）定員120名　２）参加費　会員　(1)会社・大学・官公庁7,350円　(2)学生3,150円　(3)高分子ゲル研究会メンバー5,250円　３）懇親会費3,000円　４）申込方法　申込用紙（872頁）に懇親会の参加の有無も記入し，お申し込み下さい．
申込先　高分子学会　高分子ゲル研究討論会係

2000-5　ポリマーフロンティア21

高分子科学と光物理学とのキャッチボール
-光情報化時代の新材料・新技術の展望-
＜趣旨＞   21世紀の前半には，情報通信システムの飛躍的な発展により，社会・経済のグローバル化・ボーダーレス化がいっそう進展すると言われている．情報通信システムの中でも，光情報分野の材料，技術の発展は著しいものがある．
   この分野の進歩・発展は化学技術，高分子技術に負うところが大きい．表示材料（ディスプレイ）分野では，LCD, PDP, FED, 有機ELなどの新規材料・技術の開発が目白押しであり，一方では，情報の高速化，高密度化を可能にする光回路材料や光メモリーの開発が新市場の創出に向けて活発に展開されている．
   今回は，光情報化時代の到来に重要な役割を演じる新材料・新技術の展開を特集する．
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 （予定）化学工学会　強化プラスチック協会　繊維学会　日本化学会　日本ゴム協会　日本合成樹脂技術協会　プラスチック成形加工学会　日本材料学会　有機合成化学協会
日　時 1月19日（金）9 : 50～17 : 00
会　場 東京工業大学　百年記念館フェライト会議室（目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111　交通：東急目蒲線・田園都市線　大岡山駅下車）
プログラム
＜9 : 50～11 : 50＞
  1. 次世代ディスプレイを支える新技術（山口東理大）小林駿介
  2. 反射型LCDの新展開（シャープ）水嶋繁光
＜12 : 50～17 : 00＞
  1. 有機ELの新展開（九大院総合理工）筒井哲夫
  2. デジタルペーパーの可能性（富士ゼロックス）津田大介
  3. 新光メモリー技術の新展開（東大院工）堀江一之
  4. 光導波路の新展開（東北大反応研）戒能俊邦
参加要領　１）定員100名　２）参加費　会員（含協賛会員）　(1)会社21,000円　(2)大学・官公庁10,500円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　３）申込方法　申込用紙（819頁）に記入しお申し込み下さい．参加証を順次発行します．
申込先　高分子学会　2000-5 ポリマーフロンティア21係

第33回繊維材料研究会講座

主題＝フッ素系高分子材料の応用と展開
＜趣旨＞フッ素系高分子は，耐熱性，耐薬品性，低摩擦性，はっ水性など実用上きわめて優れた特性や，特異な電気物性を有しております．しかし，きわめて成形が困難であることからこのポリマーの特性を十分に活かした利用がなされていないのが現状のようです．
   今回は，フッ素系高分子が有する特性を活かす成形加工技術や，特異な電気物性についてそれぞれの領域の専門家に最新の話題をご提供いただきます．
主　催 高分子学会　繊維材料研究会
協　賛 化学工学会　繊維学会　日本化学会　日本機械学会　日本分析化学会　日本膜学会（予定）
日　時 1月23日（火）10 : 00～16 : 30
会　場 東京理科大学理窓会館（新宿区神楽坂2-13-1末よしビル　交通：JRまたは営団地下鉄（東西線・有楽町線・南北線）飯田橋駅下車　徒歩5分）
講　演
＜10 : 00～12 : 00＞
  1. 通信用フッ素系プラスチック光ファイバーケーブルの開発（旭硝子） 杉山徳英
  2. フッ素系樹脂の紡糸技術開発（東洋ポリマー）宇野泰光
＜13 : 00～16 : 30＞
  1. フロロカーボン系高分子繊維の高性能化技術（呉羽合繊）大平清一
  2. フッ素系高分子材料の電気物性（東理大理）古川猛夫
  3. テフロンパウダーの超延伸（東理大理）金元哲夫
参加要領　１）定員60名　２）参加費（銀行振込）：(1)会社13,650円　　(2)大学・官公庁7,350円　(3)学生3,150円　(4)研究会メンバー：会社10,500円　大学・官公庁5,250円　３）申込方法　申込用紙（819頁）に記入し，お申し込み下さい．順次参加証を発行します．
申込先　高分子学会　第33回繊維材料研究会講座係

第10回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝Post-ArFに向けた露光技術とレジスト材料
＜趣旨＞半導体デバイスの微細化，高集積化は加速される一方です．現在の生産技術は，レジスト材料技術および露光技術の進歩により，KrF露光により0.18mmの量産をカバー，0.15mm, さらには，0.13mmの世代をもうかがう状況です．しかし，このことは反面その後の微細化を進める上で，露光光源の短波長化，さらには露光技術そのものが，急ピッチに変化する可能性を示しているともいえます．そこで今回は，ポストArFとして候補となるVUV, PXL, EUV, EPL それぞれの露光技術にスポットをあて，最新の開発状況についての講演を企画しました．
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 日本化学会
日　時 1月25日（木）10 : 00～17 : 00
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
講　演
＜10 : 00～12 : 00＞
I.　基調講演
  1. EUVにおけるレジスト反応機構（阪大産研）田川精一
  2. EB stepper: NGL からポストArFへ（ニコン精機カンパニー）河田真太郎
＜13 : 00～17 : 00＞
II.　VUV露光技術とレジスト材料・プロセス技術
  1. F2リソグラフィ開発の現状（キヤノン）鈴木章義
  2. メタクリロニトリル/ a-メチルスチレン共重合体をベースとする157 nm用ポジ型レジスト（阪府大院工）白井正充
  3. F2対応表層プロセスの現状（半導体先端テクノロジーズ）渡辺裕之
III.　PXL, EPL 露光用レジスト材料・プロセス技術
  1. PXL露光技術の進展（超先端電子技術開発機構）菊池幸子
  2. 脂環族エステルを用いた電子線レジスト（富士通研）野崎耕司
IV.　EUV露光用レジスト材料・プロセス技術
  1. ASET-EUVLビームラインの建設（超先端電子技術開発機構）西山岩男
  2. EUVレジストの開発と今後の展開（超先端電子技術開発機構）矢野　映
参加要領　１）定員80名　２）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)光反応・電子用材料研究会メンバー　(a)会社10,500円　(b)大学・官公庁4,200円　３）申込方法　申込用紙（819頁）に記入し，お申し込み下さい．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　第10回光反応・電子用材料研究会講座係

2000-2 高分子エレクトロニクス研究会

主題＝電性高分子の最新技術
＜趣旨＞導電性高分子材料研究の隆盛も20年目を迎え，電気伝導性という視点から離れた幅広い応用に着目して，共役高分子鎖の精密合成，キャリヤー移動度，発光などの研究が進められています．このテーマは本研究会の主題でもあり，この分野の先端研究を進められている方々に最新技術の進展をお話いただきます．
主　催 高分子学会　高分子エレクトロニクス研究会
日　時 1月26日（金）　13 : 10～16 : 50
会　場 上智大学中央図書館棟812会議室（東京都千代田区紀尾井町7-1　交通：JR中央線，地下鉄丸ノ内線・南北線とも四谷駅下車）
講　演
＜13 : 10～16 : 50＞
  1. 最近の立体規則共役高分子合成について（上智大理工）陸川政弘
  2. 正孔輸送高分子材料-EL応用と関連して（農工大工）佐藤壽彌
  3. 導電性高分子を用いた画像記録（千葉大工）小林範久
  4. 導電性高分子を用いた固体電解コンデンサの開発（松下通信工業）工藤康夫
参加要領　1）定員50名　２）参加費　会員　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生1,050円　(4)高分子エレクトロニクス研究会メンバー無料　３）申込方法　申込用紙（872頁）に記入し，お申し込み下さい．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　2000-2高分子エレクトロニクス研究会係

2000-2 高分子表面研究会

主題＝材料・技術と表面科学
＜趣旨＞現在，天然物も合成物も技術的加工なしに日常製品として残るものは少ない．今回は表面科学的な立場から代表的なものとして，伝統工芸材料から最先端材料までを取り上げてみました．これらの開発に携わられた方，さらに進歩の著しい分析機器を用いて材料開発やその物性評価などいかなるアイデア・技術を駆使して研究してきたかを講演していただきます．
主　催 高分子学会　高分子表面研究会
協　賛 高分子学会　北陸支部
日　時 1月27日（土）13 : 00～17 : 00
会　場 金沢大学理学部大講義室（金沢市角間町　TEL 076-264-5924）
講　演
  1. 和紙あれこれ：金箔と化粧紙（加賀奉書紙）小松秀雄
  2. イオンビーム照射による高分子表面の改質と漆への応用（理研）岩木正哉
  3. 高分子による微粒子表面の機能化とその特性（新潟大工）坪川紀夫
  4. 次世代有機太陽電池（金沢大工）高橋光信
  5. TOF-SIMSの進歩と展望（アルバック・ファイ）星　孝弘
参加要領　１）定員60名　２）参加費（銀行振込）　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子表面研究会メンバー無料　３）申込方法　申込用紙（819頁）に記入し，お申し込み下さい．参加証は順次ご送付します．
申込先　高分子学会　2000-2 高分子表面研究会係

生医学高分子および材料研究会講演会［中国四国地区］

主題＝高分子化学と分子生物学のクロスロードを見る
趣　旨高分子化学と分子生物学の双方向のアプローチによって近未来のテクノロジー領域が生まれつつあります。今回は，薬物送達システム(DDS)の評価を細胞の非特異的認識にかかわるm-RNAや転写因子の発現形式から行う分子生物学から高分子化学へのアプローチと人工タンパク質の創製する高分子化学から分子生物学的へのアプローチのクロスロードに位置する先生方を招き，21世紀の生医学高分子材料の位置づけを探ります。
主　催高分子学会　中国四国支部
日　時1月27日（土）13:30～15:40
会　場近畿大学工学部（広島県東広島市高屋うめの辺1番）
講　演 1) 遺伝暗号を拡張した人工タンパク質合成システム---化学と遺伝情報の融合を目指して （岡山大工） 芳坂　貴弘

2) 生体と材料の相互作用のDDSへの応用 （国立循環器病セ） 岸田　晶夫
参加要領1）定員　80名
2）参加費　無料
3）申込方法　氏名，勤務先，連絡先を記入の上，ハガキ，FAXまたはE-mailでお申し込み下さい。
4）申込締切　1月20日（土）
申込先 ［739-2116］東広島市高屋うめの辺1番　近畿大学工学部　杉山一男
Tel: 0824-34-7000　Fax: 0824-34-7011　E-mail: sugiyama@chem.hiro.kindai.ac.jp

2000年度接着と塗装研究会講座

主題＝接着剤・塗料の界面とレオロジー
＜趣旨＞接着は2つ以上の物質を張り合わせることで，塗装は物質の表面を覆い美観とともにさまざまな機能を与えるものです．両者に共通しているのは「界面」とそこに介在する物質です．表面や界面のとらえ方はそれぞれの分野で異なっているが，接着，付着を論ずる場合はどうしても微視的な見地からのアプローチが必要となります．また塗料や接着剤の機能を論ずる場合，材料のダイナミックスが必要になります．そこで本年度はその本質に立ち戻り，界面および界面現象をミクロな視点からマクロな視点にわたって解説するとともに，それぞれコアになる研究手法，考え方を紹介します．それと当時にこの分野の斬新なトピックスについても紹介します．
主　催 高分子学会　接着と塗装研究会
協　賛 色材協会，繊維学会，日本化学会，日本接着学会，日本塗装技術協会，表面技術協会，レオロジー学会（予定）
日　時 1月29日（月），30日（火）10 : 00～17 : 00
会　場 化学会館601会議室(東京都千代田区神田駿河台1-5　TEL 03-3292-6161)
講　演
第1日＝1月29日
＜10 : 00～11 : 30＞
  1. 界面総論（神戸大工）中前勝彦
＜12 : 40～17 : 00＞
  1. 微細有機パターンの付着・凝集挙動（長岡技科学大）河合　晃
  2. 接着強度の非破壊試験（東工大精密工学研）肥後矢吉
  3. 界面の挙動と接着強さ（東医歯大生体材料工学研）宮入裕夫
  4. 接着剤を使わない常温接合（東大先端研）須賀唯知
第2日＝1月30日
＜10 : 00～11 : 30＞
  1. コーティングのレオロジー（千葉大工）甘利武司
＜12 : 40～17 : 00＞
  1. ナノレオロジーとナノトライボロジー（東大院工）西　敏夫
  2. 接着剤・塗料硬化過程におけるレオロジー（エー・アンド・デイ）田中丈之
  3. 粘着の科学（東大院農）竹村彰夫
  4. トライボロジー-潤滑油の進歩と応用-（出光興産）畑　一志
参加要領　１）定員100名　２）参加費（銀行振込，含協賛学協会会員）　(1)会社27,300円　(2)大学・官公庁9,450円　(3)学生3,150円　(4)接着と塗装研究会メンバー　(a)会社21,840円　(b)大学・官公庁7,560円　３）申込方法　申込用紙（819頁）に記入し，お申込下さい．参加証は順次ご送付いたします．
申込先　高分子学会　2000年度接着と塗装研究会講座係

第15回精密重合フォーラム討論会

主題＝精密重合：異分野先端科学にブレークスルーのヒントを探る
主　催高分子懇談会（日本化学会・高分子学会）
日　時1月30日（火），31日（水）10:00～17:00
会　場化学会館（東京都千代田区神田駿河台1-5　日本化学会7階ホール）
プログラム
第1日=1月30日
＜錯体触媒の発展から考える＞
＜10:00～12:00＞
開会挨拶　（高分子懇談会主査・山形大工）遠藤　剛
  1. 錯体はどこまで精緻に分子を認識できるか（名大院工）藤田　誠
  2. どこまで多機能錯体触媒を設計できるか（阪大産研）笹井宏明
＜13:00～17:00＞
  1. 錯体触媒はどこまでC-C結合形成を制御できるか（京大院工）野崎京子
  2. コンビケムはどこまで錯体触媒研究を変えるか（分子研）魚住泰広
  3. 錯体触媒による極性モノマーの精密重合の可能性（東工大資源研）小坂田耕太郎
  4. 精密重合のための有機金属---これからの可能性（九大機能物質研）永島英夫
閉会挨拶（高分子懇談会委員・横浜国立大工）伊藤　卓
第2日=1月31日
＜究極の設計図『ゲノム』から考える＞
＜10:00～12:00＞
開会挨拶（高分子懇談会主査・山形大工）遠藤　剛
  1. ゲノムとは何か（東工大院生命理工）石川冬木
  2. ここまできたゲノム解析（海洋科学技術セ）高見英人
＜13:00～17:00＞
  1. ここまで分かった遺伝子情報発現の制御メカニズム（東大院新領域）渡辺公綱
  2. 遺伝子情報はどこまでタンパク質構造を規制できるか（農工大工）早出広司
  3. ここまできた分子進化工学によるタンパク質の合成（東工大院生命理工）小畠英理
  4. ゲノム情報科学への期待（理研）八尾　徹
閉会挨拶（高分子懇談会委員・東工大院生命理工）相澤益男
参加要領1）参加費　無料
2）　講演要旨集　無料（当日配布）
3）申込方法　『精密重合フォーラム討論会（第15回）』，氏名，勤務先，連絡先住所（〒）・電話番号・FAX・E-mailアドレス，出席希望日を明記し，お申し込み下さい（なるべくE-mailでお申し込み下さい）。申込者には参加証を送付いたします。当日も参加できますが，事前にお申し込み下さい。
4）申込締切　定員（120）名なり次第
申込先 ［101-0062］東京都千代田区神田駿河台1-5　日本化学会内　高分子懇談会係
Tel: 03-3292-6162　Fax: 03-3292-6318 E-mail: furuse@chemistry.or.jp