2002年1月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

January

第1回マレーシア―日本　プラスチック会議

1st Malaysia―Japan Plastics Conference 2002
＜趣旨＞高分子ABC研究会では，研究会活動の一環として1996年以来2年ごとに日中ABC科学技術セミナーを開催し，中国の研究者と活発な交流を続けています。同様な交流の場をもちたいとの，マレーシア側からの要望に応えて，標記の第1回会議をマレーシアのペナン島で行うことになりました。ペナン島は東南アジアのシリコンバレーであり，日系も含めて世界中の電気・電子産業が集結しているところです。関連するプラスチック工業の発展にも目覚ましいものがあります。今回は，両国から各10件の招待講演を行い，プラスチック材料や成形加工の現状を紹介するとともに，研究者・技術者の交流の場を設けることを目的とします。一般の研究発表（ポスター）も募集します。多くの方が参加されることを希望します。
主　催 マレーシアプラスチック協会　高分子学会高分子ABC研究会
共　催 Texchemグループ　高分子学会高分子材料と加工研究会
日　時 1月8日（火），9日（水）〈1月10日は周辺の工場見学を予定しています〉
会　場 マレーシア・ペナン島　Rasa Sayang Hotel
研究発表・申込締切 　10月26日（金）
１）研究題目　２）発表者氏名　３）発表者所属　４）連絡先　５）E-mailアドレスを明記の上，E-mailまたはFAXで下記までお申し込み下さい。詳細は申込者に，追ってご連絡いたします。
参加登録費 10,000円
宿　泊 Rasa Sayang Hotel（約10,000円/日）
航空運賃 約60,000円
申込先 高分子学会　高分子ABC研究会係　TEL 03-5540-3770　FAX 03-5540-3737　E-mail: miho@spsj.or.jp

01-2　高分子錯体研究会

主題＝生体ナノサイエンス・テクノロジーと高分子錯体のかかわり
＜趣旨＞高分子錯体は，資源・エネルギー，新材料・新物質，情報技術，生命科学など世紀をまたいだ根幹的な研究ターゲットの新展開を可能にすると期待されているナノサイエンス，ナノテクノロジーにおけるひとつの基本構成体ととらえることができます。本研究会では，特に生体分子機能物質としての高分子錯体の新たな展開の可能性をさぐる探るために，ライフサイエンス・テクノロジーにおける高分子錯体の新展開に関する最近の話題を集め，講演および討論を行います。
主　催 高分子学会　高分子錯体研究会
日　時 1月15日（火）13 : 00〜17 : 00
会　場 東京工業大学百年記念館2階第1会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
交　通 東急大井町線・東急目黒線　大岡山駅下車　徒歩1分
プログラム
＜13 : 00〜17 : 00＞
  1. 高分子溶媒中における高分子修飾メタロプロテインの電子移動反応（農工大工）中村暢文・大野弘幸
  2. 酸素輸液を目指したポルフィリン組織体の構築と機能（早大理工総研）小松晃之
  3. PEG鎖を介して修飾したフェノチアジンとグルコースオキシダーゼの間の電子移動反応（横浜国大院工）渡邉正義・今林慎一郎
  4. 配位子周りの構造変化と金属イオンの反応性の変化（阪大院理）上山憲一
参加要領 1）定員40名　2）参加費（銀行振込）会員　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子錯体研究会メンバー　無料　3）申込方法　申込用紙（822頁）に記入し，お申し込み下さい。順次参加証を発行します。
申込先 高分子学会　高分子錯体研究会係

平成13年度無機高分子オープンセミナー

主題＝高分子と無機の融合と飛躍
＜趣旨＞炭素以外の元素を分子骨格に含む無機高分子は，きわめて多様性に富み，強く意識される機会は少ないものの，高分子の中で歴史的にも重要な位置を占めております。また先進的な機能，特性を追求する中で，実際上，高分子材料と無機をはじめとするそれ以外の材料との垣根はますます低く，互いの領域は融合する方向にあるといえるでしょう。本セミナーでは，高分子における無機高分子の位置づけを再認識するとともに，講師の方々のお話を通じて，分野間の領域を越えて，さらなる飛躍の可能性を探る機会にしたいと考えております。参加者の皆様方が，新たな発想や研究開発の萌芽をみつけていただく，一助となれば幸いです。
主　催 高分子学会　無機高分子研究会
日　時 1月15日（火）13 : 00〜16日（水）12 : 00
会　場 ゆうぽうと5階　カルチャープラザ（東京都品川区西五反田8-4-13　TEL 03-3494-8507）
交　通 JR・都営地下鉄　五反田駅［西口］徒歩5分　東急池上線大崎広小路駅となり
プログラム
第1日＝1月15日
＜13 : 00〜17 : 00＞
  1. 液状シリコーンゴム選択接着材料について（信越化学）畦地秀一
  2. シリコーンエラストマーの成形加工（日本バルカー）小野山正雄
  3. 非ハロゲン系難燃剤の近年の展開（大八化学）松村忠典
  4. SiC多孔体の機能と応用（イビデン）大野一茂
＜18 : 00〜20 : 00＞懇親会
第2日＝1月16日
＜8 : 30〜12 : 00＞
  1. 自動車用高分子材料と環境・リサイクル（日産自動車）大庭敏之
  2. 微小重力環境下における材料創製（産総研）奥谷　猛
  3. 印刷会社におけるディスプレイ部材の開発について（大日本印刷）飯田　満
  4. ポリシランの高次構造制御，集合体特性（東理大理工）三治敬信
参加要領 1）定員60名　2）参加費（銀行振込）(1)会社15,750円　(2)大学・官公庁10,500円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(4)無機高分子研究会メンバー7,350円　3）宿泊費14,000円（1泊朝食・懇親会費込み）参加費とともにお振り込み下さい。4）申込方法　申込用紙（822頁）に記入し，お申し込み下さい。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　無機高分子オープンセミナー係

第16回群馬地区特別講演会

主　催 高分子学会関東支部
日　時 1月17日（木）13 : 00〜16 : 00
会　場 群馬大学工学部材料工学科棟2階　Z2教室（桐生市天神町1-5-1）
交　通 (1)JR両毛線　桐生駅下車　タクシーで約5分　(2)東武鉄道桐生線　新桐生駅下車　タクシーで約10分
プログラム
＜13 : 00〜16 : 00＞
  1. 高機能性ヒドロゲル　　　　（原研高崎）吉田　勝
  2. 光グラフト重合による高分子材料の機能化　　　　（群馬大工）久保田　仁
参加要領 1）定員80名　2）参加費　無料　3）申込方法　氏名，勤務先，電話およびFAX番号を明記し，ハガキでお申し込み下さい。
申込先 ［376-8515］桐生市天神町1-5-1　群馬大学工学部材料工学科　片貝良一　TEL 0277-30-1340　FAX 0277-30-1343　E-mail: katakai@chem.gunma-u.ac.jp

第13回高分子ゲル研究討論会

＜趣旨＞ゲルは，高分子化合物のみが有するユニークで開放的な物質存在状態であることや，それに基づくさまざまな興味深い機能を引き出せる材料であることから，科学と工学の両面からその基礎の理解と応用への展開が進められています。ゲル研究がますます活発であることは，高分子学会年次大会や高分子討論会の発表件数の増加からもうかがい知ることができます。
　高分子ゲル研究討論会は，高分子学会が企画するもっとも本格的なゲル研究発表の場です。多くの方々が皆様の研究に注目し発表を期待しています。今回はポスターセッションにも力を入れます。どうぞ，本討論会を大いにご活用下さい。皆様のご参加，ご発表をお待ちいたしております。
主　催 高分子学会　高分子ゲル研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会　日本薬学会　日本食品工業学会　日本物理学会　写真学会　日本農芸化学会　化学工学会　日本レオロジー学会　日本バイオレオロジー学会　日本木材学会　日本生物物理学会
日　時 2002年1月17日（木），18日（金）
会　場 東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1　TEL 03-3812-2111）
発表分野 １）基礎　(a)ゲルの合成　(b)ゲルの構造　(c)ゲルの物性　２）機能　(d)医学・医療工学分野　(e)薬学分野　(f)化学工学・機械工学・電子工学などの分野　(g)ライフサイエンス分野　(h)生物化学分野　(i)農学・地質学分野　(j)食品化学・工学分野　(k)工業製品への応用　(l)その他
発表形式 口頭発表（時間15分：発表10分，討論5分），またはポスターセッション
研究発表申込締切　9月25日（火）
(1)発表形式　(2)発表分野　(3)研究発表題目（既発表可）　(4)講演者　(5)研究者名　(6)200字程度の要旨　(7)勤務先　(8)連絡先（住所・電話）　(9)高分子ゲル研究会メンバーの有無を明記し，E-mailまたはFAXでお申し込み下さい。9月28日までに受理通知をします。届かない場合は電話にて(TEL 03-5540-3771)お問い合わせ下さい。プログラム編成は運営委員会にご一任下さい。
要旨原稿締切　12月14日（金）
和文：A4判白紙2枚に，(1)目的　(2)方法　(3)結果の順
英文：A4判用紙　1/2枚
参加登録 本討論会は全員登録制です。研究発表者，共同研究者で本討論会に出席される方は必ず参加登録をして下さい。参加申し込みの上，ご送金下さい。
参加費 (1)会社・大学・官公庁7,350円　(2)学生3,150円　(3)高分子ゲル研究会メンバー5,250円
懇親会 17日　山上会館　会費3,000円
申込先 高分子学会　第13回高分子ゲル研究討論会係 FAX 03-5540-3737　E-mail: honda@spsj.or.jp

第13回高分子ゲル研究討論会

主　催 高分子学会　高分子ゲル研究会
日　時 2002年1月17日（木），18日（金）9 : 50〜17 : 00
会　場 東京大学山上会館大会議室
（東京都文京区本郷7-3-1　TEL 03-5841-2330）
交　通 地下鉄　(1)丸ノ内線　本郷三丁目駅　(2)千代田線　湯島・根津駅　(3)南北線　東大前駅下車
協　賛 （予定）応用物理学会　化学工学会　日本化学会　日本写真学会　日本農芸化学会　日本物理学会　日本薬学会　日本レオロジー学会
プログラム
［研究発表］（研究発表15分・討論5分/件）（座長交渉中）
第1日＝1月17日
＜9 : 50〜10 : 00＞
開会の辞（運営委員長・横浜国大工）渡邉正義
＜10 : 00〜11 : 00＞［座長　青島貞人］
  1. ビニル系線状ポリマー/ウレタンネットワーク型semi-IPNの合成（関西大工）°木口忠広・青田浩幸・松本　昭
  2. モノビニル/ジビニル架橋共重合に基づく非極性一次ポリマー/極性架橋セグメント型両親媒性ネットワークポリマーの創製（関西大工）°堂浦真人・青田浩幸・松本　昭
  3. アリル基含有架橋高分子ミクロスフェアを架橋サイトとするネットワークポリマーの創製（関西大工）°藤橋政人・青田浩幸・松本　昭
＜11 : 00〜12 : 00＞［座長　松本　昭］
  1. リビングカチオン重合によるグラジエントコポリマーの合成と感熱応答物理ゲル化（阪大院理）青島貞人・°辻本依都子，（東理大理工）菊地琢伸
  2. 種々の親水性セグメントを有するブロックコポリマーの合成と刺激応答物理ゲル化（阪大院理）°杉原伸治・青島貞人
  3. 感温性高分子−金属錯体ゲルの生成および金属イオン分離機能（熊本大工）°野中敬正・重本英之・渡辺　努・緒方智成・栗原清二
＜13 : 20〜14 : 00＞［座長　伊藤賢志］
  1. 二段階法によるハイドロゲルへのインプリンティングの試み（名工大工）°山下啓司・西村隆史・近藤文恵・大橋興三・出羽毅久・南後　守
  2. 静電的相互作用をインプリントした感温性高分子両性電解質ゲルの合成条件とその物性への影響（横浜国大工）°今井卓也・竹岡敬和・渡邉正義
＜14 : 00〜14 : 40＞［座長　山下啓司］
  1. ヘテロゲル中のターゲット分子多点吸着への高分子鎖エントロピー寄与（産総研）伊藤賢志
  2. 特異的分子間相互作用を利用した分子インプリント法による分子刺激応答性ゲルの合成とその分子認識応答性（関西大工）°宮田隆志・竹川佳司・治下正志・浦上　忠
＜14 : 40〜15 : 40＞［座長　宮田隆志］
  1. 筋肉タンパクゲルによるナノバイオマシーンの創製（北大理）°角五　彰・杉本　信・Jian Ping Gong・長田義仁
  2. 自由鎖を有するPHEMAゲルの調製と評価（東理大基礎工）°田村安里・長崎幸夫・鶴田禎二，（東大院工）片岡一則
  3. フェニルボロン酸基含有グルコース応答性高分子ゲルの合成と特性評価―フェニルボロン酸基の解離挙動に及ぼすゲル母材構造の効果―（東大院工）°松元　亮・原田敦史・片岡一則
［ポスターセッション］イントロダクション（2分/件）
＜16 : 00〜17 : 50＞
P-1　ゲルの形成過程とその散乱強度の考察（お茶大院人間文化）°三輪公美・出口哲生
P-2　ゲルダイナミクスシミュレータGelDynaによるソフトアクチュエータの変形シミュレーション（化学戦略機構）°山上達也，（名大院工）谷口貴志・土井正男
P-3　2層ゲルを用いた皮膚表面のシワ生成に関する物理的考察（名大院工）°定岡恵子・谷口貴志・土井正男
P-4　モノビニル/ジビニル架橋共重合に基づく極性一次ポリマー/非極性架橋セグメント型両親媒性ゲルの膨潤特性（関西大工）松本　昭・°中　陽介・堂浦真人・青田浩幸
P-5　液晶ブレンドの相分離を利用した水素結合ネットワークの形態制御（千葉工大工）°吉田隆史・柴田充弘・四十宮龍徳，（産総研高分子基盤研）木原秀元・三浦俊明・岸　良一
P-6　メチルセルロースゲルの乾燥過程における自己組織化（日本女子大理）°高橋雅江・西田玲子
P-7　TMAによるペクチンヒドロゲルの水中における粘弾性的性質（大妻女子大家政）°飯島美夏・畠山立子，（福井工大工） 中村邦雄・畠山兵衛
P-8　高分子ゲル表面の静止摩擦特性（北大理）°加々田剛・黒川孝幸・大垣伸介・Jian Ping Gong・長田義仁
P-9　両性高分子電解質マイクロゲルの合成およびそのキャラクタリゼーション（筑波大応生化）°中山篤史・小川和義・国府田悦男
P-10　インテリジェント型薬物放出制御膜の作製方法とその機能について（近畿大院総理工）°中山　大・嘉悦　勲・内田熊男・坂田尚英
P-11　肝癌マーカーをテンプレートとして用いた分子インプリント法による分子刺激応答性高分子ゲルの合成（関西大工）浦上　忠・°治下正志・宮田隆志
P-12　透明セルロースハイドロゲル(TCG)のスプレー噴霧特性（旭化成中研）°小野博文・天川英樹
P-13　温度・pH応答ゲル膜による金属イオンの選択分離（群馬大工）°大橋　仁・片貝良一，（原研高崎）長谷川伸・前川康成・玉田正男・吉田　勝
P-14　トポロジカルネットワーク形成[I]　線状ポリマー存在下でのジアリルテレフタレートの架橋重合（関西大工）松本　昭・°沖田智司・木口忠広・青田浩幸
P-15　アリルメタクリレート/アルキルメタクリレート架橋乳化共重合による反応性架橋高分子ミクロスフェアの合成と反応特性（関西大工）松本　昭・°林　　寿・藤橋政人・青田浩幸
＜18 : 00〜19 : 30＞懇親会（東京大学　山上会館）
第2日＝1月18日
［研究発表］
＜10 : 00〜11 : 00＞［座長　松川真吾］
  1. ポリ（フッ化ビニリデン）のゾルゲル転移（神奈川工大）°岡部　勝・和田理征
  2. オイルゲル化剤による有機溶媒のゲル化に関する研究（東大物性研）°岡部哲士・柴山充弘，（京工繊大繊）高田慎一，（信州大繊維）英　謙二
  3. Critical Dilution（数理科学研）末松和実
＜11 : 00〜12 : 00＞［座長　柴山充弘］
  1. 高分子ゲルにおける応力とゆらぎのカップリングについて―中性子非弾性散乱による観察ー（原研先端基礎）°小泉　智，（千葉大工）安中雅彦
  2. NIPA−PEGジブロック共重合体の相挙動（千葉大工）°元川竜平・安中雅彦，（原研先端基礎）小泉　智
  3. イオン化NIPAゲルの体積相転移における溶媒体積の効果（横浜国大環境情報）°平島由美子・玉西浩文・鈴木淳史
＜13 : 00〜14 : 00＞［座長　小泉　智］
  1. 調製温度の異なるNIPAゲルの構造不均一性と膨潤収縮挙動に関する研究（京工繊大繊維）°高田慎一・則末智久，（東大物性研）柴山充弘
  2. PNIPAゲルにおける構造不均一性の調製圧力依存性（和歌山県工技セ）°中本知伸，（東大物性研）柴山充弘，（京工繊大繊維）高田慎一
  3. ESR法を用いた2価カチオン添加gellan水溶液における高次構造形成の観察[II]（東京水産大）°金坂　将・松川真吾・渡部徳子
＜14 : 00〜14 : 40＞［座長　安中雅彦］
  1. 液晶溶媒中における液晶ゲルの体積相転移（京大化研）°奥野裕子・浦山健治・谷信三，（京工繊大工芸）河村幸伸
  2. 液晶ブレンドの相分離を利用した液晶高分子ネットワークの形態制御（産総研高分子基盤研）°木原秀元・三浦俊明・岸　良一
＜15 : 00〜15 : 40＞［座長　鈴木淳史］
  1. ゲルの滑り摩擦における静止摩擦力：ゲルと基盤との接触時間依存性（北大院理）°新田高洋・芳賀　永・川端和重
  2. 走査型プローブ顕微鏡で見たゲルの力学的不均一構造とバルク弾性率（北大院理）°遠藤友祐・芳賀　永・川端和重
＜15 : 40〜16 : 40＞［座長　川端和重］
  1. 溶液中での高分子鎖の自励振動とその同期に及ぼす架橋の効果（東大院工）酒井崇匡・°吉田　亮，（産総研）伊藤昭二・山口智彦
  2. パルスNMR法による絹フィブロインゲルの構造とダイナミックスの研究（科技団/生物資源研）°小林将俊・田中稔久・井上俊一・津田英利・馬越芳子・馬越　淳
  3. NMR法によるゲル化に伴うゼラチン鎖の運動性の変化の観察（東京水産大）°阿部絹子・松川真吾・渡部徳子
＜16 : 50〜17 : 00＞
閉会の辞（副運営委員長・東大物性研）柴山充弘
参加要領 1）定員120名　2）参加費（含協賛学協会員）　(1) 会社・大学・官公庁7,350円　(2)学生3,150円　(3)高分子ゲル研究会メンバー5,250円　3）懇親会費3,000円　4）申込方法　申込用紙（872頁）に懇親会の参加の有無も記入し，お申し込み下さい。
申込先 高分子学会　高分子ゲル研究討論会係

北陸支部学術講演会

主　催 高分子学会北陸支部
日　時 1月18日（金）14 : 30〜16 : 30
会　場 福井大学地域共同研究センター（福井市文京3-9-1　TEL 0776-27-8622）
プログラム
＜14 : 30〜16 : 30＞
  1. 新しい機能創成を目指した生体内分解性ポリロタキサンの設計　　　　（北陸先端大）由井伸彦
  2. 高分子膜燃料電池における水素貯蔵技術とカーボンナノチューブの応用（仮題）　　　　（産総研）湯村守雄
参加要領 1）定員80名　2）参加費　無料　3）申込方法　FAXまたはE-mailでお申し込み下さい。
申込先 ［910-8507］福井市文京3-9-1　福井大学工学部材料開発工学科　佐伯　進　TEL 0776-27-8622　FAX 0776-27-8767　E-mail: saeki@matse.fukui-u.ac.jp

第11回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝F2リソグラフィー―露光技術とレジスト材料の進展―
＜趣旨＞半導体デバイスの集積度向上に伴い，リソグラフィー技術に求められる要求はますます大きく，そのスピードも速くなっています。ロードマップでは次世代の70 nmノードのデバイス量産は2006年に予定されており，この要求に応えるべく，ポストArFリソグラフィーの検討がすすめられています。本研究会講座では，70 nmノード対応リソグラフィー技術の候補であるF2リソグラフィーの現状と課題を含めた最新の進展状況について，露光技術，レジスト材料の両面にわたってそれぞれ第一線の先生方の講演を企画しました。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会
日　時 1月23日（水）10 : 00〜16 : 45
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
交　通 東急大井町線・目黒線　大岡山駅下車　徒歩1分
講　演
I.　基調講演
＜10 : 00〜12 : 00＞
  1. ASML F2 Lithography Technology and Its Resist Deve-Lopment Status (ASML) Peter Jenkins
  2. 光反応性高分子の基礎と応用（阪府大院工）角岡正弘
＜13 : 00〜16 : 45＞
II.　F2露光技術
  1. 短波長光源開発の現状と展望（ギガフォトン）溝口　計
  2. F2露光機開発の現状（ニコン）白石直正
III.　F2レジスト材料
  1. 157 nm用フッ素樹脂材料（半導体先端テクノロジーズ）信田直美
  2. KrF樹脂系へのフッ素官能基の導入効果（住友化学）橋本和彦
  3. 脂環レジスト材料の変遷とその比較―ArFからF2へ（東芝）後河内　透
  4. F2レジストの開発状況と課題（東京応化）緒方寿幸
  5. 157 nmレジストデザイン―透明性とエッチング耐性（松下電産）岸村眞治
参加要領 1）定員100名　2）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)光反応･電子用材料研究会メンバー　(a)会社10,500円　(b)大学・官公庁4,200円　3）申込方法　申込用紙（822頁）に記入し，お申し込み下さい。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　第11回光反応・電子用材料研究会講座係

01-5　ポリマーフロンティア21

主題＝高分子材料の安全性設計
＜趣旨＞20世紀に誕生した合成高分子材料はあらゆる産業分野で採用され，科学技術発展の一翼を担ってきました。しかしながら，材料の耐久性，安全性などのデータの蓄積が不十分という意見も聞かれます。21世紀を迎えた今，高分子材料に要求される安全性とは何でしょうか。今回は高分子の信頼性・安全設計に焦点をあて，講演を企画いたしました。
蛛@催 高分子学会　行事委員会
協　賛 色材協会　日本化学会
日　時 1月24日（木）9 : 50〜17 : 00
会　場 東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1）
交　通 地下鉄　(1)丸ノ内線　本郷三丁目駅　(2)千代田線　湯島・根津駅　(3)南北線　東大前駅下車
プログラム
＜9 : 50〜11 : 50＞
〈総論〉
  1. 高分子材料に求められる信頼性とは―高分子材料の信頼性を支える劣化解析・耐久性評価・寿命予測（神奈川大）大石不二夫
＜各論＞
  1. ＜A.　情報記録＞光通信用高分子材料に求められる信頼性・安全性（NTTエレクトロニクス）花房廣明
＜12 : 50〜17 : 00＞
  1. ＜B.　家電製品＞熱可塑性複合材料（含エンプラ）の疲労寿命と安全性（茨城大）鈴木秀人
  2. ＜C.　極限状態＞航空機用高分子系複合材料の耐久性（次世代金属・複合材料研究開発協会）山口泰弘
  3. ＜D.　交通手段＞ゴム製品の信頼性評価（ブリヂストンフローテック）中内秀雄
  4. ＜E.　医療用高分子＞医療用高分子材料の安全性（国立医薬品衛生食品研）佐藤道夫
参加要領 1）定員100名　2）参加費　会員（含協賛会員）　(1)会社21,000円　(2)大学・官公庁10,500円　(3)学生・ゴールド･シルバー3,150円　3）申込方法　申込用紙（822頁）に記入し，お申し込み下さい。参加証を順次発行いたします。
申込先 高分子学会　01-5ポリマーフロンティア21係

01-2高分子エレクトロニクス研究会

主題＝ナノテクノロジーと高分子デバイス
＜趣旨＞ナノとは10億分の1を表し，物質を構成する分子や原子サイズに相当します。近年とくに，ナノ領域における物質や材料を正面から取り扱おうとする研究が盛んになり，医用，IT分野をはじめさまざまな領域で夢の機能性材料や加工方法が提案され始めております。本研究会では，このような将来性豊かなナノテクノロジーと高分子エレクトロニクス分野の結びつきについて考える機会を提供します。
主　催 高分子学会　高分子エレクトロニクス研究会
協　賛 日本化学会ほか
日　時 1月25日（金）13 : 00〜17 : 00
会　場 上智大学中央図書館棟812会議室（東京都千代田区紀尾井町7-1）
交　通 (1)JR中央線　(2)地下鉄丸の内線または南北線，ともに四ッ谷駅下車　徒歩5分
プログラム
＜13:00〜17:00＞
  1. 　近接場光学顕微鏡によるナノイメージング分光（東大工）斎木敏治
  2. 　ミクロ相分離を利用したナノ構造形成と実装技術（東芝）平岡俊郎
  3. 　自己組織膜を用いたマイクロパターニング（名大工）河本邦仁
  4. 　ナノスケールリソグラフィーとLSI（松下電産）遠藤政孝
  5. 　光・電子機能をめざした高分子ナノ構造材料（都立大院工） 彌田智一
参加要領 1）定員50名　2）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子エレクトロニクス研究会メンバー　無料　3）申込方法　申込用紙（872頁）に記入し，お申し込み下さい。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　01-2高分子エレクトロニクス研究会係

2001年度接着と塗装研究会講座

主題＝接着塗装における表面処理とその応用
＜趣旨＞接着，塗装は表面を接合，被覆することによって素材に美観や機能性を付与し，材料自体の用途を一段と拡張します。接着･塗装の成否を決定するのは表面，界面の状態です。
そこで，本講座ではまず物質の表面そのものを科学するところからスタートし，表面処理，表面制御技術につなげていきます。また物質により表面の状態は異なり，適用される表面処理技術も異なったものとなります。そこでゴム，金属，ガラスなどさまざまな表面に特有の処理技術を紹介します。近年考案されているさまざまな表面処理技術を紹介する一方，スパッタリングやプライマーなどの表面処理技術を通し，先端技術へのかかわりを解説します。さらに表面処理を施された材料の物性評価を特に「傾斜機能材料」を例に解説します。最後に表面処理など塗装･接着の鍵を握るファクターを最新の分析機器により解析する手法を紹介します。接着･塗装にかかわる表面処理に関し，本講座のように，まとまった内容で，しかも最新の技術を解説した例はほかにありません。接着･塗装にかかわる技術者，研究者の皆様には，この機会を逃さず，是非聴講することをお勧めいたします。
主　催 高分子学会　接着と塗装研究会
協　賛 （予定）色材協会　繊維学会　日本化学会　日本接着学会　日本塗装技術協会表面技術協会　レオロジー学会
日　時 1月29日（火），30日（水）10 : 00〜17 : 00
会　場 化学会館601会議室（東京都千代田区神田駿河台1-5　TEL 03-3292-6161）
講　演
第1日＝1月29日
＜10 : 00〜11 : 30＞
  1. 表面処理総論―表面処理と界面制御技術（東理大総合研）小石真純
＜12 : 40〜17 : 00＞
［接着･塗装のための表面処理］
  1. 金属（日本パーカライジング）前田重義
  2. プラスチック（安田ポリマーリサーチ研）安田武夫
  3. ガラス（日化協）松本　潔
  4. ゴム（ブリヂストン）滝沢俊樹
第2日＝1月30日
＜10 : 00〜11 : 30＞
  1. 最近の接着用表面処理の進歩（神奈川県技術アドバイザー）柳原榮一
＜12 : 40〜17 : 00＞
  1. 接着用プライマーの進歩（サンスター技研）原　勝之
  2. スパッタ成膜プロセスの基礎と応用（日大理工）山本　寛
  3. 高分子系傾斜構造の動向とその粘着テープへの応用（古河電工）加納義久
  4. 接着性の要因解析―分析によるアプローチ（東レリサーチセ）中川善嗣
参加要領 1）定員100名　2）参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社27,300円　(2)大学・官公庁9,450円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(4)接着と塗装研究会メンバー　(a)会社21,840円　(b)大学・官公庁7,560円　3）申込方法　申込用紙（822頁）に記入し，お申し込み下さい。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　2001年度接着と塗装研究会講座係

平成13年度東海シンポジウム

主題＝高分子と先端技術の融合
＜趣旨＞本シンポジウムでは，21世紀の産業を牽引していく先端技術分野において，高分子材料がどのような役割を担っていくのか，また，先端技術との融合により，高分子材料がどのような変貌を遂げていくのか，その新たな展開について各技術分野をリードする研究者の方々にご講演いただきます。先端技術分野としては，情報通信技術(IT)，バイオテクノロジー，ナノテクノロジー，メディカル・ライフサイエンスの4分野に加え，高分子材料を扱う新たな「場」の提供により，高分子材料はどのように姿を変えていくのかという視点も盛り込みました。高分子材料の将来像を大いに議論する場として，本シンポジウムを企画いたしましたので，多数のご参加をお願いします。
主　催 高分子学会東海支部
協　賛 化学工学会東海支部　色材協会中部支部　繊維学会東海支部　東海化学工業会　日本化学会東海支部　日本接着学会中部支部　日本分析化学会中部支部　日本レオロジー学会　有機合成化学協会東海支部
日　時 1月31日（木），2月1日（金）
会　場 名古屋国際会議場221号室（愛知県名古屋市熱田区熱田西1-1　TEL 052-683-7711）
交　通 名古屋駅から　(1)地下鉄東山線栄駅または桜通線久屋大通駅下車，名城線に乗り換え，日比野駅または西高蔵駅下車，徒歩5分。(2)JRまたは名鉄で金山駅下車，地下鉄名城線に乗り換え，日比野駅または西高蔵駅下車，徒歩5分）
プログラム
第1日＝1月31日
＜10 : 00〜12 : 20＞
  1. はじめに （東レ）山中　亨
A.　高分子とナノテクノロジーの融合
  1. 有機-無機ハイブリッド材料とナノテクノロジー（豊田中研）福嶋喜章
  2. 分子ボトムアップによるナノチューブ材料の創製（産総研） 清水敏美
＜13 : 10〜16 : 30＞
B.　高分子と情報通信技術(IT)の融合
  1. 導電性ポリマーとその応用について（筑波大物質工）赤木和夫
  2. 導電性高分子の電解コンデンサへの応用（松下電子部品）工藤康夫
  3. 液晶表示デバイスと高分子（東理大理）小出直之
第2日＝2月1日
＜9 : 00〜12 : 20＞
C.　高分子とバイオテクノロジーの融合
  1. DNAコンジュゲート材料を用いるナノ診断（九大院工・理研）前田瑞夫
  2. 生体内吸収性高分子材料の生体への適用（京工繊大繊）木村良晴
D.　高分子とメディカル・ライフサイエンス
  1. 再生医工学（京大再生医研）岩田博夫
＜13 : 10〜16 : 30＞
  1. 化粧品原料としての多糖類の応用（資生堂）金田　勇
E.　高分子と新しい「場」の融合
  1. コンピュータの中で扱う高分子（阪大院理）田代孝二
  2. 無重力場におけるコロイド分散液の性状（岐阜大工）大久保恒夫
参加要領 1）定員100名　2）参加費（含予稿集代）会員（含協賛学協会員）　(1)企業10,000円　(2)大学・官公庁5,000円　(3)学生2,000円　3）申込方法　氏名，勤務先，電話，FAX，会員番号，参加費払込日を明記し，お申し込み下さい。参加費は銀行振込［三井住友銀行名古屋支店　普通口座5557774　高分子学会東海支部］でお支払い下さい。　4）　申込締切　1月19日（土）
申込先 ［460-0008］名古屋市中区栄2-17-22　中部科学技術センター内　高分子学会東海支部　TEL 052-231-3070　FAX 052-204-1469