<趣旨>情報技術(IT)分野における光通信技術に見られるように,21世紀初頭におけるきわめて重要な技術として,サブミクロン程度までの安価で大量生産可能な微細加工技術があげられます。本シンポジウムでは,必ずしも高分子材料に限定せずに,エネルギービームを用いた加工技術,リソグラフィー技術のみならず,新規な微細加工技術の現状を第一人者の方々に解説していただくとともに,将来の技術展開の方向性を示唆していただきたいと考えます。 |
主 催 |
高分子学会 行事委員会 |
協 賛 |
応用物理学会 化学工学会 繊維学会 日本印刷学会 日本化学会 日本材料学会 日本表面科学会 日本分光学会 プラスチック成形加工学会 |
日 時 |
4月16日(火)9 : 50~17 : 00 |
会 場 |
東京工業大学百年記念館フェライト会議室(東京都目黒区大岡山2-12-1 TEL 03-3726-1111) |
交 通 |
東急目黒線・東急大井町線 大岡山駅下車 徒歩1分 |
プログラム |
<9 : 50~11 : 50> |
- ナノフォトニクスとそのための微細加工 (東工大院総理工)大津元一
- フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 (阪大院工)河田 聰
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<12 : 50~17 : 00> |
- 自己組織化的手法による微細加工の将来展望 (通信総研)益子信郎
- マイクロリキッドプロセスを用いたデバイス創生とその将来展望 (セイコーエプソン)下田達也
- 連続型EUVリソグラフ開発と樹脂感光性評価 (豊田中研)東 博純
- 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 (東京応化)緒方寿幸
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[お詫び]本誌2月号116頁に掲載しました本行事の主題に誤りがありました。ご迷惑をおかけしましたことをお詫び申し上げます。 |
参加要領 |
1)定員100名 2)参加費 会員(含協賛学協会員) (1)会社21,000円 (2)大学・官公庁10,500円 (3)学生・ゴールド・シルバー3,150円 3)申込方法 申込用紙(227頁)に記入し,お申し込み下さい。参加証を順次発行します。 |
申込先 |
高分子学会 02-1ポリマーフロンティア21係 |