2002年1月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2002年１月主催行事

第14回高分子ゲル研究討論会

主　催 高分子学会　高分子ゲル研究会
協　賛 応用物理学会　化学工学会　日本化学会　日本薬学会　日本レオロジー学会
日　時 1月15日（水），16日（木）
会　場 東京大学山上会館大会議室（東京都文京区本郷7-3-1　TEL 03-5841-2330）
プログラム
［研究発表20分/件：研究発表15分・討論5分］（座長交渉中）
第1日＝1月15日
＜9 : 50～10 : 00＞　開会の辞
    （運営委員長・東大物性研）柴山充弘
＜10 : 00～11 : 00＞　［座長　安中雅彦］
  1. アリル基含有ポリマーと各種アリルエステルの共重合による新規ネットワークポリマーの合成とリポゲルの膨潤特性（関西大工 & HRC）°清水紳司・青田浩幸・松本　昭
  2. トリアリルイソシアヌレートのラジカル架橋重合：剛直な一次ポリマー鎖から成るネットワークポリマーの創製とリポゲルの膨潤特性（関西大工 & HRC）°平尾親臣・青田浩幸・松本　昭，（日本化成）高山義弘・取溜博之
  3. ナノコンポジット型PNIPAヒドロゲルの合成と特性（川村理研）°武久　敢・原口和敏
＜11 : 00～12 : 00＞　［座長　松本　昭］
  1. ［中　止］
  2. リビングカチオン重合を用いた刺激応答性ブロックコポリマーの合成およびpHないし光応答物理ゲル化（阪大院理）青島貞人・°辻野友博・杉原伸治・吉田友秀・金岡鍾局
  3. 種々の溶媒中でUCST型相分離を示すポリマーの合成およびそれを利用したブロックコポリマーの感熱応答物理ゲル化（阪大院理）青島貞人・°稲岡美希・金岡鍾局
＜13 : 20～14 : 00＞　［座長　板垣秀幸］
  1. NIPA/SAゲルの乾燥におけるメゾスコピック構造の形成（九大院工）杉山正明，（千葉大工）安中雅彦，（九大院工）°原　一広
  2. 側鎖に中鎖脂肪酸を有する高分子ゲルの疎水性ドメインの形成と崩壊（日大理工）°山口　順・栗田公夫
＜14 : 00～15 : 00＞　［座長　原　一広］
  1. 疎水性凝集を起こす両親媒性ハイドロゲルのエタノール/水系における膨潤挙動とミクロ構造（京工繊大繊）°増井直樹，（ロレアル先端研）一階文良・内藤幸雄，（日大理工）栗田公夫，（東大物性研）柴山充弘
  2. 温度敏感型ブロック共重合体の構造とダイナミクス（東大物性研）°岡部哲士・柴山充弘，（阪大院理）杉原伸治・青島貞人
  3. 高分子共重合体溶液のゲル化過程に伴う微視的構造変化（東大物性研）°布施千絵子・柴山充弘，（阪大院理）杉原伸治・青島貞人
＜15 : 00～16 : 00＞　［座長　松川真吾］
  1. 低分子添加によるキシログルカンのゲル化（産総研海洋資源環境研）°湯口宜明・呉　　敏・熊谷貴子・廣津孝弘
  2. 光プローブ法で解明するアガロースゲルの分子構造（静岡大教育）°板垣秀幸・今井知恵・葺石浩恭，（静岡大農）渡瀬峰男
  3. 熱機械分析によるカラギーナンヒドロゲルのゲルーゾル転移（東京薬大生命科学）°飯島美夏，（大妻女子大家政）畠山立子，（福井工大工）畠山兵衛
＜16 : 10～17 : 50＞
    ポスターセッション
［16 : 10～16 : 50　イントロダクション（2分/件）］
P1
 アリル基含有架橋高分子ミクロスフェアと安息香酸アリルの共重合による新規コア/シェル型ミクロスフェアの合成とそれを架橋サイトとするネットワークポリマーの創製（関西大工 & HRC）松本　昭・°岡本倫子・清水紳司・青田浩幸
P2
 擬似ミクロゲルとしてのアリル基含有架橋高分子ミクロスフェアのキャラクタリゼーションと反応特性（関西大工 & HRC）松本　昭・°心光秀忠・林　　寿・青田浩幸
P3
 高機能PEG化ナノゲル粒子の合成と環境応答特性評価（東理大院基礎工）°林　寿人，（国立小山高専物質工）飯島道弘，（東理大院基礎工）長崎幸夫，（東大院工）片岡一則
P4
 ジメタクリレート系架橋剤のゲル生成過程と分子認識能発現に関する基礎検討（京工繊大繊維）細矢　憲・°青木　濶・則末智久・池上　亨・田中信男
P5
 PNIPAゲルの相挙動およびダイナミクスの圧力依存性（東大物性研）°磯野光司・岡部哲士・増井直樹・長尾道弘・柴山充弘
P6
 メチルセルロースゲルの乾燥過程における自己組織化と界面の影響（日本女子大理）°西田玲子・高橋雅江
P7
 メチルセルロース水溶液の相分離現象（日本女子大理）°入江　梓・西田玲子・高橋雅江
P8
 光プローブ法によるシンジオタクチックポリスチレンゲルのゲル化過程の解明（静岡大教育）°望月　絢・板垣秀幸
P9
 セミIPN型PNIPAAm系ハイドロゲルの分光学的手法による評価（神奈川工科大工）°松永睦生，（愛媛県工技セ）平山和子，（産総研）飯尾　心
P10
 光反応誘起によるゲルの網目構造制御（農工大工）°吉川真由美・古川英光・堀江一之
P11
 セルロースのゲル化過程におけるナノ構造形成ダイナミクス（農工大工）°東　奈緒・古川英光・堀江一之
P12
 フェニルボロン酸基含有高分子ゲルを用いた完全合成型糖応答システムの構築（東大院工）°松元　亮・片岡一則
P13
 分子インプリント法により合成したソフトコンタクトレンズへの薬物のとりこみと放出（メニコン総研）°平谷治之，（Universidad de Santiago de Compostela）Carmen Alvarez-Lorenzo
P14
 光照射で崩壊・回復するゲルシステムの創製（静岡大教育）°梅澤雄司・真鍋　尚・田中友也・板垣秀幸
P15
 高分子ゲル担体への巨大リポソームの固定化（信州大工） °Abdul Khaleque・藪下　聡・岩澤優子・奥村幸久・三谷道治
P16
 クラウンエーテル誘導体モノマーを共重合させたシリカコロイド結晶鋳型ゲルの合成およびイオン濃度変化に対する構造色変化応答（横国大院工）°斉藤　尚・竹岡敬和・渡邉正義
P17
 電場応答性高分子ゲルのロボティックモデリング（東大院工）°大武美保子，（北大院工）鏡　好晴，（東大院工）國吉康夫・稲葉雅幸・井上博允
＜18 : 00～19 : 30＞　懇親会（東京大学山上会館）
    *毎年，研究交流を深める場として多くの方にご参加いただいております。是非ご参加いただき，この場をご活用下さい。お待ちしております。ポスター発表の中から合計3件の優秀発表賞を選出し，受賞者は懇親会にご招待します。
第2日＝1月16日
＜9 : 50～10 : 30＞　［座長　田中基彦］
  1. 白濁したゲル内部のダイナミクスー網目構造に閉じこめられたナノ粒子のブラウン運動（農工大工）°古川英光・Susan Simforosa・堀江一之
  2. 熱応答性両性高分子電解質マイクロゲルのキャラクタリゼーション（筑波大応用生物化学）°中山篤史・小川和義・国府田悦男
＜10 : 30～11 : 10＞　［座長　岡部　勝］
  1. ヒアルロナンヒドロゲルのナノレベル構造と熱的性質（大妻女子大家政）°畠山立子，（福井工大工）角野浩崇・畠山兵衛
  2. リビングラジカルグラフト重合で生成するブロックコポリマーヘア粒子の特性（慶應大院理工）°辻早希子・川口春馬
＜11 : 10～12 : 10＞　［座長　川口春馬］
  1. セルロース/シリカハイブリッドゲルの調製とその物性（崇城大工）°村上良一・小窪賢太郎・鉢迫　博
  2. ポリ（フッ化ビニリデン）/有機溶媒系ゲルの生成とその物性（神奈川工科大）°和田理征・有岡由夏・岡部　勝
  3. 液晶溶媒系の体積相転移に及ぼす網目構造パラメータの影響（京大化研）°奥野裕子・浦山健治・掬谷信三
＜13 : 00～14 : 00＞　［座長　渡邉正義］
  1. 不規則網目構造の長時間緩和を利用した高ダンピングエラストマー（京大化研）°三木孝之・浦山健治・掬谷信三
  2. 電解質高分子によるDNAの電荷逆転：分子動力学研究（核融合研）°田中基彦，（ミネソタ大）A. Yu. Grosberg
  3. 流動場におけるイオン性界面活性剤の電解質ゲルへの吸着挙動 [II] 表面グラフト鎖の効果（北大院理）°陳　咏梅・勝山吉徳，（北大院理，科技団）Jian Ping Gong，（北大院理）長田義仁
＜14 : 00～15 : 00＞　［座長　浦山健治］
  1. 構造色を示すゲル（横国大院工）°竹岡敬和・渡邉正義
  2. 光リソグラフィーによる自励振動ゲルの微細加工（東大院工）°降旗芳典，（神奈川アカデミー）野川誠之・伊藤嘉浩，（東大院工）吉田　亮
  3. ナイロン6の電場応答挙動に関する研究（信州大繊維）°廣末晋介・平井利博
＜15 : 00～16 : 00＞　［座長　吉田　亮］
  1. シリコーンエラストマーの電場印加による駆動（信州大繊維）°戸屋啓一・平井利博
  2. Electro-active Intelligent Gel Actuator（信州大繊維）°Zulhash Uddin・渡辺真志・平井利博
  3. ビスフェノールA応答性分子インプリントゲルの調製（関西大工）浦上　忠・°西畑　武・宮田隆志
＜16 : 00～16 : 40＞　［座長　宮田隆志］
  1. ホスフィン酸基を有する親水性球状ゲルの合成とその機能（熊本大工）°野中敬正・安永篤史・緒方智成・栗原清二
  2. 電磁界応答性高分子ゲルの動作特性とその応用（信州大工）小島昌人・今井　正・旭　寛樹・龍　昭憲・田村直樹・笠井利幸・°太田善規
＜16 : 50～17 : 00＞ 閉会の辞
    （副運営委員長・北大院理，科技団）Jian Ping Gong
参加要領 1)定員120名　2)参加費　(1)会社・大学・官公庁7,350円　(2)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(3)高分子ゲル研究会メンバー5,250円　3)懇親会費3,000円　4)申込方法　申込用紙（987頁）に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金下さい。参加証を順次送付します。
申込先 高分子学会　高分子ゲル研究討論会係

02-2高分子表面研究会（第10回研究発表会）

＜趣旨＞本研究発表会では，高分子表面（高分子および有機分子集合体の関与する表面・界面）をどのようにつくったらよいか？ どのように観察・計測したらよいか？ あるいは，どのように理解したらよいか？ などに関して熱意をもって取組んでおられる若手および経験豊かな研究者の方々の成果を発表していただきます。「高分子表面」をキーワードにした幅広い観点からの情報交換により，参加者の研究発展のヒントを得る良い機会になるものと期待しています。本研究会メンバーのみならず，さまざまの分野において高分子表面に関心をお持ちの方の参加を歓迎いたします。
主　催 高分子学会　高分子表面研究会
協　賛 色材協会　繊維学会　日本化学会　日本接着学会　日本表面科学会
日　時 1月16日（木）12 : 20～16 : 45
会　場 東京工業大学百年記念館3階フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
交　通 東急目黒線・大井町線　大岡山駅下車徒歩1分
プログラム
　［研究発表20分/件： 研究発表15分・質疑応答5分］
＜12 : 20～12 : 25＞　はじめに　（東レリサーチセ）中山陽一
＜12 : 25～13 : 25＞
［作製方法等］
    ［座長　関　隆広］
  1. 含フッ素ポリマーを利用した高機能表面の創製（大日本インキ）°高野聖史，（神戸大工）西野　孝・三浦響子・中前勝彦
  2. 金属塩含有架橋ポリウレタンの還元処理による表面金属化フィルムの作製と物性（千葉工大院工）°伊藤　剛・寺本直純・柴田充弘
  3. 非対称尿素型アゾベンゼン誘導体の界面特性と超薄膜構造（東工大資源研）°小林　徹・中川　勝，（名大院工）関　隆広
＜13 : 25～14 : 25＞
［キャラクタリゼーション等］
    ［座長　中山　陽一］
  1. 深紫外走査型近接場光学顕微鏡(DUV-SNOM)の開発とポリマーブレンドの観察への応用（京大院工）°濱松豊博・青木裕之・伊藤紳三郎
  2. 医療用高分子材料の湿潤状態を反映した表面解析（旭化成） °菊間　淳・飯嶋秀樹
  3. 「精密斜め切削法」を用いたポリマーの深さ方向分析（東レリサーチセ）°萬　尚樹・奥村治樹・関　洋文・永井直人，(ASET)老泉博昭・西山岩男
＜14 : 45～15 : 45＞
［機能，現象の機構解析等］
    ［座長　塚原安久］
  1. 光劣化ポリカーボネートの深さ方向構造解析（東レリサーチセ）°奥村治樹・永井直人・今井友子
  2. 顕微赤外分光法を中心とした高分子材料のデプスプロファイル（出光石油化学）西岡利勝
  3. 微小角入射X線回折による高分子界面の解析（神戸大工） °西野　孝・中野真人・中前勝彦
＜15 : 45～16 : 45＞　[座長　西野　孝］
  1. 紫外線硬化型粘着テープの軽はく離化機構（群馬大工）°黒田真一・松島　亮・久保田仁，（リンテック）堀米克彦・江部和義
  2. XPSおよびDFT計算によるポリアニリン電解重合膜の酸化体および還元体の電子構造とみかけの仕事関数（金沢大理） 大塚教雄・°遠藤一央，（三菱製紙）高岡和千代・前田茂宏・兵頭建二
  3. XPSにおけるX線照射によるPVC表面損傷の解析（金沢大理）°遠藤一央，(Ulvac-PHI)小泉誠司，（三菱製紙）高岡和千代・前田茂宏・兵頭建二
参加要領 1)定員 80 名　2)参加費 （銀行振込）　(1)会社 3,150 円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子表面研究会メンバー　無料　3)申込方法　申込用紙（987頁）に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を1月末日までにご送金下さい。参加証と請求書（希望者のみ） は開催約1カ月前から順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　02-2高分子表面研究会係

02-2高分子エレクトロニクス研究会

主題＝ソフトリソグラフィー：エレクトロニクスやフォトニクスへの展開
＜趣旨＞素形材としてポリマーおよびその加工技術を高精度化することにより，現在注目されているナノテクノロジーに通用する微細加工が可能であることが示され，従来のフォトリソグラフィーによらない，「ソフトリソグラフィー」として注目されています。本研究会では，このポリマープロセッシングを高度に利用したソフトリソグラフィーのエレクトロニクスやフォトニクスへの可能性を探ります。
主　催 高分子学会　高分子エレクトロニクス研究会
協　賛 （予定）応用物理学会　日本化学会
日　時 1月24日（金）13 : 10～16 : 45
会　場 上智大学中央図書館棟8階812会議室（東京都千代田区紀尾井町7-1）
交　通 (1)JR中央線　(2)地下鉄：丸ノ内線・南北線，いずれも四谷駅下車　徒歩5分
講　演
＜13 : 00～16 : 45＞
  1. インプリントによるナノ加工　（産総研）古室昌徳
  2. インプリント法によるTFT作製 （北陸先端大）木田健一郎・松村英樹
  3. 印刷法によるポリイミドパターニングとLSI （東芝）江澤弘和
  4. 成形加工技術による導波路デバイス作製 （静岡大工）杉原興浩
  5. 複製技術を用いたシングルモードポリマー光導波路「SPICA」　（オムロン）多田羅佳孝
  6. 近接場を利用した表面レリーフ加工　（豊田中研）井川泰爾
参加要領 1)定員50名　2)参加費（銀行振込，含協賛学協会員）　(1)会社3,150円　(2)大学・官公庁2,100円　(3)学生・ゴールド・シルバー1,050円　(4)高分子エレクトロニクス研究会メンバー　無料　3)申込方法　申込用紙（987頁）に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用をご送金下さい。参加証は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　02-2高分子エレクトロニクス研究会係

02-1繊維材料研究会

主題＝ポリ乳酸を使った製品開発と市場動向
＜趣旨＞ポリ乳酸は，生分解性高分子材料であることに加え，とうもろこしなどの再生産可能な天然資源を原料として製造されるため，環境に優しいプラスチックとして注目されており，最近では，今後の生産量の拡大と価格低下を見込んだ製品開発と市場開拓が活発に進められています。ポリ乳酸の特徴のひとつは，生分解性を有する他の脂肪属ポリエステルに比べ，ガラス転移温度・融点が高いことであり，これが成形加工性の高さにも結びついています。しかし，その耐熱性は多くの用途に対して必ずしも十分ではなく，融点あるいは熱変形温度の向上が重要課題のひとつとなっています。これらの背景を踏まえて本研究会では，ポリ乳酸の基礎科学，材料開発動向，繊維材料を中心とする製品開発，環境対応素材としての位置づけなどについて，わかりやすく解説していただきます。
主　催 高分子学会　繊維材料研究会
日　時 1月24日（金）　10 : 10～16 : 50
会　場 東京工業大学百年記念館3階フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-3726-1111）
交　通 東急目黒線・大井町線　大岡山駅下車　徒歩1分
プログラム
＜10 : 10～11 : 50＞
  1. 「サスティナビリティー」を基盤としたポリ乳酸事業 （交渉中）
  2. ポリ乳酸の結晶構造の制御　（東理大理）金元哲夫
＜13 : 00～15 : 00＞
  1. ポリ乳酸製品開発の現状と将来展望　（ユニチカ）望月政嗣
  2. ポリ乳酸の製品開発　（クラレ）秋庭英治
  3. ポリ乳酸繊維の製品開発　（カネボウ合繊）山中敬雄
＜15 : 10～16 : 50＞
  1. 高速紡糸におけるポリ乳酸の繊維構造形成 ―D体分率依存性・ステレオコンプレックス晶形成―　（東工大）鞠谷雄士
  2. 自動車材料を目指したポリ乳酸の開発動向 （豊田中研）中野　充
参加要領 1)定員80名　2)参加費（銀行振込）　(1)会社5,250円　(2)大学・官公庁3,150円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)繊維材料研究会メンバー　無料　3)申込方法　申込用紙（987頁）に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を1月末日までにご送金下さい。参加証と請求書（希望者のみ）は開催約1カ月前から順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　02-1繊維材料研究会係

高分子学会創立50周年記念講演会

第2回中国四国支部高分子材料研究会

主　催 高分子学会中国四国支部
日　時 1月31日（金）13 : 30～
会　場 広島大学中央図書館ライブラリーホール（東広島市鏡山1-2-2　TEL 0824-24-6214）
交　通 JR西条駅下車　広島大学行きバスで約20分　「広大中央口」下車
プログラム
＜13 : 30～17 : 00＞
  1. Surface Dynamic Friction of Polymer Gels （北大院理）Jian Ping Gong
  2. 生分解性ポリエステルのバイオ合成と高性能化 （東工大院総合理工）土肥義治
  3. 新しい高分子材料開発の方向性 （高分子学会会長・山形大工）遠藤　剛
＜17 : 30～＞　懇親会（国民年金健康保養センター・東広島　TEL　0824-22-8211）
参加要領 1)定員120名 （先着順）　2)参加費　無料　3)懇親会費　実費（当日徴収）　4)申込方法　氏名，所属，連絡先，E-mailアドレス，懇親会参加希望の有無を明記の上，FAXまたはE-mailでお申し込み下さい。5)申込締切1月21日（火）必着
申込先 ［739-8521］東広島市鏡山1-7-1　広島大学総合科学部　戸田昭彦，彦坂正道　TEL 0824-24-6558　FAX 0824-24-0757　E-mail: atoda@hiroshima-u.ac.jp