本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です.
2003年3月主催行事
第14回グリーンケミストリー研究会講演会
主題=循環型社会に向けたケミカルリサイクルへの産学の取り組み
<趣旨>循環型社会への移行は法律施行による基本的枠組みが示され,社会システムの基盤整備が進展しています。このようなパラダイムシフトの潮流の中で,リサイクルシステムの合理化と高度化への要望は,明らかに顕在化してくる課題です。今回のグリーンケミストリー研究会講演会は,“ケミカルリサイクル”に焦点を当て,産業界での現状の取り組みと,将来を見据えた新材料からのアプローチについての講演を伺います。これらを基にさらに議論を深めたいと思います。 主 催 高分子学会 グリーンケミストリー研究会 協 賛 (予定)日本化学会 日 時 3月6日(木)10 : 00~17 : 00 会 場 東京工業大学 百年記念館3階フェライト会議室(東京都目黒区大岡山2-12-1 TEL 03-3726-1111) プログラム <10 : 00~12 : 00> <12 : 50~17 : 00>
- 基調講演 ケミカルリサイクル性ポリマーへの取り組みと展望(山形大工)遠藤 剛
- ケミカルリサイクルのための新材料からのアプローチ
2-1. ビニルエーテル類の重付加に基づくケミカルリサイクル性ポリマーの合成(福井大工)橋本 保
2-2. ポリ乳酸のケミカルリサイクル性制御のための工学的アプローチ(近畿大分子工学研)西田治男
- 既存ポリマーのケミカルリサイクルへの取り組みの現状
3-1. ナイロンのケミカルリサイクルの現状と今後の展開(東レ樹脂技術部)小南一彦
3-2. ポリウレタンのケミカルリサイクルの現状と今後の展開(東洋ゴム工業)°石野政治・福島繁義
3-3. ポリスチレンのケミカルリサイクルの現状と今後の展開(東芝プラント建設技術開発セ)神山 隆参加要領 1)定員100名 2)参加費 (1)会社13,650円 (2)大学・官公庁5,250円 (3)学生・ゴールド・シルバー2,100円 (4)グリーンケミストリー研究会メンバー 会社10,500円 大学・官公庁4,200円 3)申込方法 申込書(51頁)に記入し,FAXまたは郵送にて送付の上,参加費用をご送金下さい。参加証は順次ご送付します。 申込先 高分子学会 第14回グリーンケミストリー研究会講演会係
02-2高分子基礎物性研究会
主題=放射光による高分子研究の新展開
<趣旨>放射光が高分子の構造研究に用いられるようになってから20年が経過しようとしています。この間,放射光の特徴である高指向性と高輝度性を利用して,高分子中で起こるさまざまな構造転移過程が明らかにされてきました。最近では,従来からの第2世代の放射光施設に加えて,第3世代の放射光施設も稼動し始め,さらに特殊な情報の獲得も可能になりつつあります。本研究会では,放射光を用いた構造測定の基本原理,放射光の高分子構造研究への今までの応用,さらには,放射光を用いた最前線の研究について紹介します。 主 催 高分子学会 高分子基礎物性研究会 日 時 3月7日(金)10 : 00~16 : 10 会 場 東京工業大学 百年記念館3階第1会議室(東京都目黒区大岡山2-12-1 TEL 03-3726-1111) 交 通 東急大井町線・東急目黒線 大岡山駅下車 徒歩1分 プログラム <10 : 00~12 : 00>
- 放射光施設と放射光による構造研究(東大院新領域)雨宮慶幸
- 放射光と高分子構造研究(東工大院理工)野島修一
<13 : 00~16 : 10>
- SAXSから多機能タンパク質の機能発現の分子機構を探る(山形大院理工)和泉義信
- SAXS/DSC同時測定で見る液晶型両親媒性ブロック共重合体の相転移(都立大院工)吉田博久
- 高分子結晶化研究へのシンクロトロン放射光の利用と企業からの期待(三井化学マテリアル研)藤隠一郎
参加要領 1)定員50名 2)参加費(銀行振込) (1)会社5,250円 (2)大学・官公庁3,150円 (3)学生・ゴールド・シルバー2,100円 (4)高分子基礎物性研究会メンバー 無料 3)申込方法 申込書(51頁)に記入し,FAXまたは郵送にて送付の上,参加費用をご送金下さい。 申込先 高分子学会 02-2高分子基礎物性研究会係
02-6ポリマーフロンティア21
主題=微細加工技術(応用編)
<趣旨>ポリマーフロンティア02-1<<微細加工技術の将来展望>>に引き続き微細加工技術の応用を中心とした講演を企画いたしました。微細加工技術は電子デバイス,光デバイス,マイクロマシンなどへの適用により,化学合成・情報・通信・印刷・医療など多くの分野で新たな展開の原動力になろうとしています。本企画では,いくつかの分野での応用面の話題について現状と今後の展開の可能性をまとめて講演していただきます。 主 催 高分子学会 行事委員会 協 賛 (予定)日本化学会 日 時 3月7日(金)10 : 00~17 : 00 会 場 東京大学 山上会館大会議室(東京都文京区本郷7-3-1 TEL 03-3818-3008)
http://www.u-tokyo.ac.jp/jpn/campus/map/map01/e11-j.html交 通 地下鉄 (1)丸ノ内線 本郷三丁目駅 (2)千代田線 湯島・根津駅 (3)南北線 東大前駅下車 プログラム <10 : 00~12 : 00>
- SPMを利用したナノスケールでの加工
ナノメートルスケールのデバイス開発が半導体デバイスの極微細化に伴い急速に進展する一方で,走査プローブ顕微鏡(SPM)技術の発展により高精度の加工が可能となっている。本講演では,シリコン表面における単原子精度の加工技術と,SPMを基にした10ナノメートルレベルの汎用極微細加工法とそれらの応用例を紹介する。
(日立製作所 基礎研)橋詰富博- 高分子材料の微細加工技術と光導波路への適用
光透過性に優れた光学用ポリイミド,光学用エポキシ樹脂の材料特性を述べるとともにその微細加工技術を紹介し,さらにこれらの材料技術,加工技術の応用としてこれらの材料を用いた光導波路とその性能についても紹介する。
(NTTフォトニクス研)松浦 徹<13 : 00~17 : 00>
- 立体マイクロマシニングの光MEMSへの応用
シリコンの立体的な微細加工により製作した光応用のMEMSについて紹介する。応用例として光スキャナー,光センサー,マイクロレーザー,光通信用デバイス(光スイッチ,光フィルター,ファイバーレンズ)などのMEMSを紹介する。製作においては,立体的なリソグラフィー加工を行うために,レジストスプレーを自作し用いている。また,シリコンを型にしたポリマーの光デバイスについても紹介する。
(東北大院工)羽根一博- インプリント技術の現状と展望
ナノインプリント技術は,電子ビーム露光によって作製されたシリコン基板などのモールドをPMMAなどの高分子にプレスすることにより,低コスト・高スループットで 10 nm ナノパターンを簡単に転写できる,画期的な技術である。石英モールドを用いた光インプリント,曲面への転写を可能にするソフトリソグラフィーの研究も進展しており,今後のナノ構造デバイス製造の重要技術となる。
(姫路工大高度産業科学技研)松井真二- 有機半導体トランジスタの最近の進展
有機半導体トランジスタは,プラスチックフィルム基板上に常温プロセスで形成できるため,フレキシブルディスプレイや情報タグを目指し活発な研究開発が進められている。トランジスタを構成する有機半導体材料を中心に,半導体薄膜形成と素子化,周辺材料について,最近の内外の進展状況を踏まえ,開発課題について議論する。
(旭化成 中研)南方 尚- マイクロ光造形法を利用した医療デバイス・化学ICチップへの応用
立体的なマイクロ構造を高速に作製する手法として各種「マイクロ光造形法」の先駆的な開発を行ってきた。最近では,分析だけでなく合成を含む化学装置全体のマイクロ化を目的とした「化学IC」チップの提案と実証を推進し,生きた細胞を用いずDNAからタンパク質を合成する化学ICチップ群の開発に成功した。コンセプトレベルで欧米と一線を画するマイクロ化学デバイスの最新成果と将来について講演する。(名古屋大院工)生田幸士参加要領 1)定員100名 2)参加費 会員(含協賛学協会員)(1)会社21,000円 (2)大学・官公庁10,500円 (3)学生・ゴールド・シルバー3,150円 3)申込方法 申込書(51頁)に記入し,FAXまたは郵送にて送付の上,参加費用をご送金下さい。参加証は順次ご送付します。 申込先 高分子学会 02-6ポリマーフロンティア21係
2002年度反応工学講習会
主題=高分子プロセスにおけるマイクロリアクター技術の展望
<趣旨>現在脚光を浴びているマイクロリアクターについて,従来の常識を覆すような化学反応プロセスや高い反応速度の可能性が報告されいます。当研究会では2001年から2年間アセスメントテーマとして,「高分子プロセスにおけるマイクロリアクターの展望」を取り上げ,マイクロリアクターを高分子製造プロセスにいかに適用するかについて議論してきました。本講習会では,革新的な反応器,反応プロセスとして注目を浴びている高分子製造プロセスにおけるマイクロリアクター技術について,研究会メンバーによる検討結果の報告を行います。 主 催 高分子学会反応工学研究会 協 賛 日本化学会 化学工学会 日 時 3月13日(木)10 : 00~16 : 30 会 場 総評会館201会議室(東京都千代田区神田駿河台3-2-11 TEL 03-3253-1771) 交 通 (1)JR:中央・総武線 御茶ノ水駅[聖橋口]下車 徒歩5分 (2)地下鉄:千代田線 新お茶の水駅[B3出口]下車すぐ プログラム <10 : 00~12 : 00>
- マイクロリアクターの構造と特徴(三菱重工)上田 隆
- マイクロリアクターの高分子反応への応用について- 期待と問題点 -(高圧ガス保安協会)大島榮次
<13 : 20~16 : 30>
- マイクロリアクターのシミュレーション(日本ゼオン)本田 隆
- マイクロリアクターの試作(住友重機)弥富隆一
- マイクロチャンネルを用いたエマルションおよびマイクロスフェアの調製(花王)久保英明
参加要領 1)定員100名 2)参加費(銀行振込,含協賛学協会員)A. 講演テキスト付 講演テキストとして「高分子製造プロセスのアセスメント24 高分子プロセスにおけるマイクロリアクターの展望」を使用 (1)会社29,650円 (2)大学・官公庁21,250円 (3)学生18,100円 (4)反応工学研究会メンバー 会社26,920円 大学・官公庁20,200円 B. 聴講のみ (5)会社13,650円 (6)大学・官公庁5,250円 (7)学生2,100円 (8)反応工学研究会メンバー 10,920円 大学・官公庁4,200円 3)申込方法 申込書(51頁)にA, Bいずれかを記入しお申込み下さい。参加証は順次ご送付いたします。 申込先 高分子学会 2002年度反応工学講習会係
第23回高分子と水・分離に関する研究会講座
主題=携帯用燃料電池の最前線
<趣旨>携帯電話やノート型パソコンに使用される小型の燃料電池の開発は著しい進展を見せています。しかしながらその詳細についてこれまであまり語られることがありませんでした。今回はこれらの研究・開発に最前線で携わっておられる方々の話題を中心に講座を開催します。多数の方々の奮っての参加を期待いたします。 主 催 高分子学会 高分子と水・分離に関する研究会 協 賛 (予定)応用物理学会 化学工学会 画像電子学会 石油学会 電気学会 電気化学会 日本化学会 日本エネルギー学会 日本機械学会 日本分析化学会 日 時 3月25日(火)11 : 00~16 : 50 会 場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室(東京都目黒区大岡山2-12-1 TEL 03-3726-1111) プログラム <11 : 00~12 : 00>
- 燃料電池用高分子電解質膜劣化の基礎(東工大院理工)谷岡明彦
<13 : 00~16 : 50>
- 超小型燃料電池の研究開発動向(長岡科技大化学)梅田 実
- 携帯用燃料電池の概況(東芝)五戸康広
- 携帯用燃料電池の開発概要(民間会社予定)
- 携帯用燃料電池の最前線(NEC基礎研)久保佳実
参加要領 1)定員100名 2)参加費(銀行振込,含協賛学協会員)(1)会社13,650円 (2)大学・官公庁7,350円 (3)学生・ゴールド・シルバー3,150円 (4)高分子と水・分離に関する研究会メンバー 会社10,500円 大学・官公庁5,250円 3)申込方法 申込書(51頁)に記入し,FAXまたは郵送にて送付の上,参加費をご送金下さい。参加証は順次発送いたします。 申込先 高分子学会 第23回高分子と水・分離に関する研究会講座係