2003年11月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2003年11月主催行事

第65回千葉地域活動高分子研究交流講演会

主　催 高分子学会関東支部
日　時 11月12日（水）14 : 00〜17 : 20
会　場 出光会館（市原市姉崎海岸24-1 TEL 0436-61-1823）
交　通 JR内房線 姉ヶ崎駅（海岸出口）下車　車で5分
プログラム
[座長　長崎幸夫（東理大）]
  1. 化学エネルギー・情報変換のためのイオンゲルとオパールゲル　　　　（横国大院工）渡辺正義
[座長　久保英夫（日本曹達）]
  1. 薬物ターゲティングのための高分子設計　　　　（東女医大先端生命医科研）横山昌幸
[座長　古城真一（三井化学）]
  1. 自己組織化による高分子のマイクロ・ナノ加工とナノ微粒子の集積　　　　（北大電子研）下村政嗣
懇親会 17 : 30〜出光会館
参加要領 1）参加費：無料（当日受付）2）懇親会費：一般3,000円，学生1,000円（当日徴収）
連絡先 [263-8522] 千葉市稲毛区弥生町1-33　千葉大学工学部物質工学科　中平隆幸
TEL 043-290-3391　E-mail: nakahira@faculty.chiba-u.jp

第22回無機高分子研究討論会

＜趣旨＞先端技術によって開発されている新素材や優れた機能を有する複合材料には，無機高分子から構成されているものが多く，今後ますます無機高分子とそれを構成成分とする高性能および高機能材料開発が注目されることは明らかです。このような状況下において，学術研究討論会を企画し，幅広い領域を占める無機高分子の基礎から応用に関する研究成果の発表と情報交換の場を設けました。
主　催 高分子学会　無機高分子研究会
協　賛 日本化学会　日本セラミックス協会　繊維学会　日本ゴム協会　色材協会　日本粘土学会　耐火物技術協会　ケイ素化学協会（予定）
日　時 11月13日（木），14日（金）10 : 00〜17 : 00
会　場 東京理科大学1号館17F記念講堂（東京都新宿区神楽坂1-3　TEL 03-3260-4271）　懇親会13日（木）17 : 00〜19 : 00東京理科大学1号館17F 大会議室
交　通 JR総武線，地下鉄有楽町線，東西線，南北線 飯田橋駅下車　徒歩3〜5分
参照：http://www.tus.ac.jp/info/access/kaguacc.html
［一般テーマ研究発表 15分（研究発表10分・討論5分/件）］
プログラム
　
第1日＝11月13日
一般テーマ
＜10 : 00〜11 : 00＞［座長　中　建介］
  1. シクロデキストリンとの包接化によるオリゴシランのらせん誘起　　　　（東工大資源研・東理大理工）ﾟ三治敬信・吉原明彦・櫻井英樹・田中正人
  2. イソシアナト（ビニル）シランからのオリゴシロキサンの合成と性質　　　　（東理大理工）ﾟ門田由美・須山健一・有光晃二・郡司天博・阿部芳首
  3. メチル基を側鎖とするオリゴラダーシロキサンの合成と性質　　　　（東理大理工）ﾟ佐藤正則・須山健一・有光晃二・郡司天博・阿部芳首
  4. 側鎖にフェニルアゾベンゼン誘導体をもつオルガノホスファゼンの液晶性　　　　（岐阜大工）ﾟ神野匡史・古橋卓真・守屋慶一，（愛知学院大）梶原鳴雪
＜11 : 00〜12 : 00＞［座長　守屋慶一］
  1. 印刷法による自己温度調節面状発熱体　　　　（名大工）ﾟ木村豊明，（ミタケ電子工業）池田正男・丸山憲治
  2. 自己温度制御面状発熱体における添加物効果　　　　（名大工）木村豊明，（中部加工）ﾟ藤田哲夫
  3. カーボンー高分子系による損傷検知センサー　　　　（名大工）ﾟ木村豊明，（中部加工）藤田哲夫
  4. 自己温度調節面状発熱体における線状局部発熱　　　　（名大工） ﾟ木村豊明，（PTC面状発熱体研）藤田哲夫・池田正男・小島辰夫
＜13 : 15〜14 : 15＞［座長　伊藤真樹］
招待講演：メカニカルミリング(MM)反応による無機含有高分子複合材料の合成とその特性　　　　（帝京大）石田恒雄
＜14 : 15〜15 : 00＞［座長　冨田育義］
  1. 遷移金属含有ノボラックの合成　　　　（金沢大学工）ﾟ尾関夏紀・小西玄一・山岸忠明・中本義章
  2. アニソール樹脂を用いた有機・無機ハイブリッド材料の合成　　　　（金沢大学工）ﾟ木村　剛・小西玄一・山岸忠明・中本義章
  3. 光二量化反応による有機-無機ポリマーハイブリッドの均一性の制御　　　　（京都大院工）ﾟ足立　馨・大橋慶太・ACHIMUTHU Ashok Kumar・中條善樹
＜15 : 00〜15 : 15＞休憩
＜15 : 15〜16 : 00＞［座長　三治敬信］
  1. 主鎖にチタナシクロペンタジエン骨格を有するポリマーの高分子反応によるホスホール骨格をもつπ共役高分子の合成　　　　（東工大総理工）ﾟ上田政宏・冨田育義
  2. 低誘電率ボラジン-ケイ素ポリマーの物性　　　　（産総研）ﾟ内丸祐子，(ASET) 井上正巳・柳沢　寛
  3. けいフッ化アンモニウム水溶液の還元によるシリカ薄膜の作製　　　　（大阪市工研）ﾟ千金正也・伊崎昌伸・品川　勉
＜16 : 00〜17 : 00＞［座長　臼杵有光］
  1. 酸による石綿分解条件と分解含ケイ素生成物の性能　　　　（愛知学院大）梶原鳴雪，（ノザワ）黒田芳憲・山下喜世次・島村哲也　ﾟ上原潤一
  2. 窒素ドープTiO2繊維の可視光応答性　　　　（アート科学）ﾟ加藤栄治・長谷川良雄，（茨城県工技セ）飯村修志・佐藤　賢・冨田玄隆
  3. 窒素ドープTiO2球状多孔質体の可視光応答性　　　　（アート科学）ﾟ長谷川良雄・加藤栄治
  4. 無機物表面の水酸基とイソシアナート基との反応　　　　（宇部三菱セメント研）ﾟ歳谷一雄・高橋俊之・西田明生，（愛知学院大学）梶原鳴雪
＜17 : 00〜19 : 00＞懇親会（東京理科大学 1 号館 17 階大会議室）
第2日＝11月14日
＜10 : 00〜11 : 00＞［座長　郡司天博］
  1. ブリッジ型ピラザボールを主鎖に含む新規有機ホウ素ポリマーの合成　　　　（京大院工）ﾟ松元　深・中條善樹
  2. 環状ヒ素化合物とフェニルアセチレンと種々のビニルモノマーとのラジカル三元共重合　　　　（京大院工）ﾟ梅山有和・中　建介・中條善樹
  3. 主鎖に不斉リン原子を有する新規光学活性高分子の合成　　　　（京大院工）ﾟ大内優子・森崎泰弘・中條善樹
  4. 側鎖にアルコキシシリル基を有するアクリルアミドのリビングアニオン重合とハイブリッド材料への応用　　　　（山形大学工）ﾟ小林元康・千葉　晋・武石　誠
＜11 : 00〜12 : 00＞［座長　松川公洋］
  1. 新規シルセスキオキサン誘導体の合成とキャラクタリゼーション　　　　（チッソ横浜研）ﾟ吉田一浩・森本義孝・山廣幹夫・伊藤賢哉・大熊康之・及川尚夫・大竹伸昌・渡辺健一，（群馬大学大学院）田中陵二・松本英之
  2. かご型フェニルシルセスキオキサン含有開始剤を用いた原子移動ラジカル重合　　　　（チッソ横浜研）ﾟ山廣幹夫・及川尚夫・吉田一浩・山本泰弘・大竹伸昌・渡辺健一，（京大化研）杉山智史・高 慶武・大野工司・辻井敬亘・福田　猛
  3. ポリフェニルシルセスキオキサンの合成とキャラクタリゼーション　　　　（ダウコーニング）ﾟ伊藤真樹・須藤通孝
  4. ケイ酸ナトリウムを用いた有機-無機ハイブリッド材料の調製と物性　　　　（名工大院）ﾟ岡本真樹・杉本英樹・坂本雄二・猪股克弘・中西英二
＜13 : 15〜14 : 00＞［座長　成澤雅紀］
  1. 界面活性剤を利用したメソポーラスフェニレン-シリカ薄膜の合成　　　　（豊田中研）ﾟ後藤康友・マヘンドラ　カプール・稲垣伸二
  2. ポリジヘキシルシラン-無機ハイブリッド薄膜におけるサーモクロミズムの抑制挙動　　　　（大阪市工研）ﾟ松川公洋・松浦幸仁・井上　弘
  3. 液相から形成したシラン系有機無機複合薄膜の特性　　　　（滋賀県工技総セ）ﾟ中田邦彦，（龍谷大理工）青井芳史・上條栄治
＜14 : 00〜14 : 45＞［座長　長谷川良雄］
  1. 無機有機ナノコンポジットエマルションの合成とフィルム物性　　　　（京工繊大繊維）木村良晴・ﾟ水谷 勉
  2. 高規則性を有する-CH＝CH-基導入型有機-無機ハイブリッドメソポーラス材料の調製　　　　（東工大資源研）ﾟ中島清隆・Daling Lu・野村淳子，（東工大総理工）冨田育義・原　亨和，（産総研）林　繁信，(CREST・JST) 堂免一成
  3. ゾル-ゲル反応によるイオン交換性層状ポリシロキサンの合成とそのイオン交換反応挙動　　　　（物質・材料機構）ﾟ金子芳郎・井伊伸夫・松本太輝・藤井和子・倉嶋敬次・藤田武敏・北村健二
＜14 : 45〜15 : 00＞休憩
＜15 : 00〜15 : 45＞［座長　阿部芳首］
  1. ゾル-ゲル法で作製したPZT前駆体薄膜のレーザー誘起熱分解による低温結晶化とマイクロパターニング　　　　（東北大多元研）ﾟ渡辺　明，（東北大工）棚瀬智和・小林芳男・今野幹男，（日立基礎研）山田真治・三輪崇夫
  2. 反応性シルセスキオキサン誘導体の硬化物物性　　　　（東亞合成）ﾟ田島誠太郎・鈴木　浩
  3. 層状ペロブスカイト層間内に固定化されたC＝C結合と末端にSi-H基を有するポリマーとのヒドロシリル化反応による無機-有機複合体の合成　　　　（早大理工）ﾟ大田和督・田原聖一・内丸祐子・菅原義之
＜15 : 45〜16 : 45＞［座長　菅原義之］
  1. シリカおよびヒドロキシアパタイト表面へのポリマーのグラフト重合　　　　（新潟大院自然科学）ﾟ鈴木聖子・横山瑠理子，（新潟大工・新潟大超域研究機構）坪川紀夫
  2. カーボンブラックおよび気相生長炭素繊維表面への放射線グラフト反応とその電気的性質　　　　（新潟大工・新潟大超域研究機構）ﾟ坪川紀夫，（原研高崎）陳　進華・前川康成・吉田　勝
  3. 前駆体法による鋼板上へのセラミックスコーティングと特性評価　　　　（大阪府大工）遠藤裕士・川本義樹・ﾟ成澤雅紀・間渕　博・岡村清人・西村六郎，（福島工専）伊藤正義
  4. 超耐熱SiNBCセラミックス基複合材料　　　　（アート科学）ﾟ加藤栄治・長谷川良雄，（化研）塩谷和弘
参加要領 １）　定員100名
２）　参加費　(1)会社・大学・官公庁7,350円　(2)無機高分子研究会メンバー5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円
３）　懇親会費　4,000円
４）　申込方法　こちらをダウンロードして記入（*余白に懇親会参加有無も）し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用をご送金下さい（参加費用は11月末日までにご送金下さい）。参加証と請求書（希望者のみ）は開催約1カ月前から順次送付いたします。
申込先 高分子学会　第22回無機高分子研究討論会係

第29回茨城地区活動講演会

主　催 高分子学会関東支部
日　時 11月28日（金）13 : 30〜17 : 00
会　場 物質・材料研究機構（つくば市千現1-2-1　TEL 029-859-2748　FAX 029-859-2701）
交　通 つくばバスセンターより南大通りへ向かって徒歩約10分。東大通りと南大通りの交差点が物質・材料研究機構（千現地区）の北東端に位置し，正門は南大通りに面しています。
プログラム
＜13 : 30〜17 : 00＞
  1. 物質・材料研究機構（ナノマテリアル研究所）の紹介
  2. 有機ナノ細線および薄膜の形成と電気特性　　　　（物材機構　ナノマテリアル研究所）青野正和
  3. カーボンナノチューブの産業応用の新たな展開　　　　（産総研　新炭素系材料開発研究センター）湯村守雄
  4. 物材機構　施設見学
＜17 : 0〜18 : 30＞　懇親会
参加要領 1）参加費　会員無料
2）懇親会費　・一般3,000円　・学生1,000円　当日徴収
3）申込方法　氏名，勤務先，連絡先，懇親会参加の有無を明記し，お申込み下さい。
4）申込締切　11月20日
申込先 ［305-0047］つくば市千現1-2-1　物質・材料研究機構　ナノマテリアル研究所　ナノ電子光学材料Gr.　及川英俊
TEL 029-859-2748　FAX 029-859-2701
E-mail: OIKAWA.Hidetoshi@nims.go.jp