2004年２月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2004年２月主催行事

04-2　高分子学会講演会

主題＝高分子1本のサイエンス「空間をつくる，つかう」
＜趣旨＞前回の「みる，はかる」では，高分子鎖1本の理解を主眼に置いて企画しました。本講演会ではそれに引き続き，一本鎖の理解に基づいて，高分子鎖がどのように集まり，組織化され，さまざまな機能を発現するのか，特にサイエンスの観点から最先端でご活躍の研究者にご講演いただき，今後のさらなる可能性を考えていきます。
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 （予定）日本化学会
日　時 2月9日（水） 10 : 20〜16 : 20
会　場 東京工業大学大岡山キャンパス百年記念館フェライト会議室（3階）
交　通 東急目黒線･東急大井町線　大岡山駅　下車徒歩約1分
http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html
プログラム
＜10 : 20〜12 : 20＞
  1. 総論　（東工大学長）相澤益男
  2. 自己組織化（ボトムアップ技術）による分子機能発現　（東大院工）加藤隆史

    3. ポリマー鎖1本の化学構造を自己組織化のプログラムととらえ，高次のポリマー構造や階層構造が自己組織化によっていかに形成されるかを解説し，さらに超分子液晶，イオン性液体の1次元組織化，分子の組織化・階層化による高分子機能の発現に関する最新情報を講演する。
＜13 : 10〜16 : 20＞
  1. DNA/導電性高分子ナノ組織体の構造と光電機能　（千葉大院自然科学）小林範久

    2. バイオエレクトロニクス材料や分子素子材料として期待されるDNAに導電性高分子を複合することで，単一鎖レベルで興味深い高次構造を有する高分子組織体を構築できる。この組織体が示す光電機能や単一鎖レベルでの機能発現の可能性について解説する。
  2. シャペロニンのつくる「動く」ナノ空間を利用した材料科学　（東大院工）金原　数
    分子シャペロンの概念や自己組織化による立体構造の形成，高次元構造と空間を利用した分子マシン・フラスコへの展開について解説し，昨年の講演以降の進展やトピックス，将来展望などにも言及する。
  3. カーボンナノチューブをモチーフとしたソフトナノマテリアル　(ERATO)福島孝典
    本格的な製造検討が進められつつあるCNTを利用した新素材と，分子の自己組織化によりつくられるグラファイトナノチューブに関して，空間をつくる・つかう，という観点から，それぞれの材料の構造的特徴，およびその応用として微小電子回路の可能性探索などの現状について講演する。
参加要領 1) 定員100名　2) 参加費　(1)会社10,500円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)年会費制登録※1) をされている団体からのご参加は，何名様でも割引料金となります。a）会社8,400円　b）大学・官公庁4,200円（※1) 詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/2004nenkaihisei.htmlをご覧下さい）　3) 申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付して下さい。開催約1カ月前より参加証，請求書を送付いたしますので，請求書到着後，2月末日までにご送金下さい。
申込先 高分子学会　04-2高分子学会講演会係

2004年度印刷・情報記録・表示研究会講座

主題＝表示・記録技術を支える材料とプロセスの新展開
＜趣旨＞表示技術は最も生活者の目に触れやすい，その意味ではわかりやすい先端技術です。その中でも，特に今注目の的であるディスプレイの大型化，薄層化を支える新しい技術こそが，現在の開発を優位に進め，また次世代開発のリードの源泉となるものです。これら先鞭的研究開発の中から，プロセス開発として「プリンティングによるデバイスの製造」・「パターニング・アドレッシング技術」を，また材料開発からは「光学フィルム」・「フォトニクス材料」に焦点を当て，各分野での第一線の研究者・技術者の方にお願いして講座を開催することにいたしました。皆様のご参加をお待ちします。
主　催 高分子学会　印刷・情報記録・表示研究会
協　賛 （予定）紙パルプ技術協会　色材協会　日本化学会　日本印刷学会　日本写真学会　画像電子学会　日本画像学会
日　時 2月17日（木），18日（金）
会　場 発明会館ホール（東京都港区虎ノ門2-9-14　TEL: 03-3502-5499）
交　通 東京メトロ 銀座線　虎ノ門3番出口より徒歩約5分　http://www.bekkoame.ne.jp/ha/id25154/index.html
プログラム
第1日＝2月17日（木） 10 : 00〜16 : 00
『プリンティングによるデバイス製造』
  1. ナノインプリントの開発動向（リソテックジャパン）関口　淳
  2. 有機TFT駆動ELディスプレイ（千葉大）工藤一浩
  3. 印刷法で作る圧力センサ（東大）染谷隆夫
＜オーサーズインタビュー＞ 15分
『パターニング・アドレッシング技術』
  1. アライメントフリーのパターニング（日立製作所）安藤正彦
  2. 光パターニングを利用した（ドライ）エッチング技術（産総研）新納弘之
  3. レーザー熱転写法による有機ELデバイス（住友スリーエム）山中啓造
＜オーサーズインタビュー＞ 15分
第2日＝2月18日（金） 10 : 00〜16 : 55
  • 『光学フィルム』
    1. ７)　ゼロ複屈折性光学フィルム（慶應大）小池康博
    2. 光配向法による位相差フィルムの作製（兵庫県大院）川月喜弘
    『フォトニクス材料』
    1. 光通信/導波路（東北大多元研）戒能俊邦
    ＜オーサーズインタビュー＞ 15分
    1. フォトニック結晶（神奈川アカデミー）佐藤　治
    2. ナノチューブフォトニクス（産総研）榊原陽一
    3. フォトクロミック材料を用いたフルカラーリライタブルメディア（リコー）高橋裕幸
    4. ポリマー微粒子の合成とコロイド結晶への応用（綜研化学）吉田哲也
    ＜オーサーズインタビュー＞ 15分
    参加要領 1) 定員200名　2) 参加費（銀行振込，含協賛学協会会員）会員　(1)会社27,300円　(2)大学・官公庁9,450円　(3)学生・ゴールド・シルバー3,150円　(4)印刷・情報記録・表示研究会メンバー　a) 会社22,050円　b) 大学・官公庁7,350円　3）申込方法　こちらをダウンロードして記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を2月末日までにご送金ください。参加証と請求書（希望者のみ）は開催約1カ月前から順次ご送付いたします。
    申込先 高分子学会　2004年度印刷・情報記録・表示研究会講座係