2005年５月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2005年５月主催行事

05-1光反応・電子用材料研究会

主題＝高分子のナノ造形の基礎と光電子機能
＜趣旨＞近年のナノテクノロジーの新展開において光と高分子の果たす役割はますます重要になっている。これらの科学の本質は高分子化学の基礎，すなわち，分子の高分子性とその光制御にあるといっても過言ではない。本研究会では最先端のナノ構造制御の話題にフォーカスし，4名の講師にご講演いただき，その基礎から光電子機能への応用，さらに次のフェーズへの展開まで参加者とともに議論したい。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 （予定）日本化学会
日　時 5月18日（水）13 : 30 - 17 : 00
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL: 03-5734-3340）
交　通 東急目黒線・大井町線　大岡山駅下車　徒歩1分
講　演
　＜13 : 30 - 17 : 00＞
  1. レーザーアブレーションによるマイクロナノ加工　（産総研）新納弘之
  2. 光機能性デンドリマーの新しい展開　（JST相田ナノ空間プロ）江　東林
  3. 二光子励起重合の研究動向と応用　（農工大工）渡辺敏行
  4. 新しい光電子機能をめざした高分子ナノ構造テンプレートの創製 （東工大資源研）彌田智一
参加要領 1) 定員60名　2) 参加費（銀行振込）　(1)企業3,150円，(2)大学・官公庁2,100円，(3)学生・ゴールド・シルバー　1,050円　(4)光反応・電子用材料研究会メンバー　無料　3）申込方法　申込用紙こちらをダウンロードしてご記入の上に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。参加証は順次発送いたします。
申込先 高分子学会　05-1光反応・電子用材料研究会係