2005年１月主催行事
本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．

2005年１月主催行事

2005年度接着と塗装研究会講座

主題＝接着・塗料の高機能化技術に関する動向
＜趣旨＞　接着・塗料は機械や構造物をはじめ，各種電気・電子製品の高性能化，高機能化技術を支える基礎技術として新たな進展が繰り広げられている。このような中には最近の環境や省資源にかかわる研究も多い。したがって，本講座はこのような最新の情報を議論するために，最近の新規技術の開発に携わっている研究者，技術者を講師に招き，その状況を検討しようとするものである。そこで，ここに取り上げるおもな内容は高機能性接着剤・塗料の新規技術をはじめ，ナノレベルの表面・界面の分析技術などに加え，接着・塗料技術を支える塗付技術にかかわる接着・塗料技術など最近の技術動向を踏まえた講演会の開催を意図したものである。
主　催 高分子学会　接着と塗装研究会
日　時 1月13日（金）　9 : 50〜16 : 40
会　場 総評会館 201会議室（東京都千代田区神田駿河台3-2-11　TEL 03-3253-1771）
交　通 (1)JR中央線・総武線　御茶ノ水駅（聖橋出口）徒歩5分　(2)東京メトロ（地下鉄）千代田線　新御茶ノ水駅，東京メトロ（地下鉄）丸ノ内線　淡路町駅，都営地下鉄新宿線　小川町駅（丸ノ内線と都営新宿線をご利用の方は千代田線方面へ）いずれもB3出口より徒歩0分
講　演
＜9 : 50〜12 : 20＞
  1. 接着・塗料に関する環境・省資源問題
    （電機大工）宮入裕夫

  2. エポキシ接着剤の高機能化
    （住友スリーエム）小嶋隆之
＜13 : 20〜16 : 40＞
  1. 接着剤の動向と新技術
    （コニシ）松浦信輝

  2. フラットパネルディスプレイ用粘接着部材
    （リンテック）大類知生

  3. 空気マイナスイオンの生理作用メカニズム
    （大東文化大）琉子友男

  4. 自動車用機能性クリヤーの開発動向
    （関西ペイント）永井健一

  5. 材料の接合界面に関する分析技術
    （日産アーク）長谷川利則

参加要領 1) 定員90名　2) 参加費　(1)企業13,650円　(2)大学・官公庁5,250円　(3)学生・ゴールド・シルバー2,100円　(4)接着と塗装研究会メンバー　a)企業10,500円　b) 大学・官公庁4,200円　3) 申込方法　こちらの申込用紙に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費用を1月末日までにご送金ください。参加証と請求書（希望者のみ）は順次ご送付いたします。
申込先 高分子学会　2005年度接着と塗装研究会講座係

05-5ポリマーフロンティア21

主題＝微粒子合成の新たな流れと応用展開
＜趣旨＞　高分子工業で広く応用されてきたポリマー微粒子は，コア・シェル化や金属ナノ粒子とのハイブリッドにより高機能化・高付加価値化が図られてきています。それらの機能性粒子をプローブとした医療診断や，粒子を規則的に配列したフォトニック結晶や構造色色材などへの展開も脚光を浴びつつあります。今回は微粒子合成の新たな流れと，その応用展開と可能性について第一線の研究者から最新の動向を紹介していただきます。
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 （予定）日本化学会
会　期 1月16日（月）　10 : 20〜17 : 20
会　場 東京工業大学大岡山キャンパス百年記念館フェライト会議室（3階）
交　通 東急目黒線・東急大井町線 大岡山駅 下車　徒歩約1分
http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html
プログラム
＜10 : 20〜12 : 20＞
  1. 高機能性微粒子の最近の展開
    （慶應大理工）川口春馬

    高分子微粒子の機能のよりどころは，実体，大きさ，形態，表面，内包物質，集積構造，運動，分散/凝集など多様で各々について興味深い展開がみられる。本講座では，粒子デザイン，粒子の医用および光学への応用に焦点をあてて解説する。


  2. フォトニック結晶に向けたコロイド結晶の固定化
    （九工大工）吉永耕二

    有機溶媒中でのポリマー修飾シリカ粒子のコロイド結晶化，ラジカル重合によるゲル固定化，つづく固化による粒子配列構造を内包したポリマーマトリックスの調製など，フォトニック結晶創製へのアプローチについて述べる。
＜13 : 20〜17 : 20＞
  1. 干渉色を用いた新しい肌色の演出
    （資生堂）勝山智祐

    光学機能を謳った化粧品が市場に多くでているが，多くは構造色色材を利用したものである。今回は，化粧品に使用される構造色色材を紹介するとともに，とくに雲母チタンの化粧品への応用例を中心に概説する。


  2. コロイド結晶をテンプレートとした構造色ゲルの作製とセンサー，デバイスへの応用
    （名大院工）竹岡敬和

    光の波長ほどの間隔で周期性のある微細構造を有する鋳型を用いてゲルを調製すると，その鋳型の構造をかたどることにより，色素を入れていないのに色づいたゲルが得られた。


  3. 懸濁重合による重合法トナー
    （日本ゼオン）岸本琢治

    電子写真用トナーの高性能化の観点から，従来の粉砕法から重合法トナー（含ケミカルトナー）への転換が図られている。発表では，各種トナーの特徴と懸濁重合法によるトナーの機能化について概説する。


  4. 金属ナノ粒子濃厚ペーストの創製と高機能コーティング材料への応用
    （日本ペイント）小林敏勝

    くし形ブロックコポリマーで保護された，金・銀・白金・パラジウム・ニッケル・ビスマスおよびこれらの合金の，ナノ粒子濃厚ペーストの製造方法を開発した。高耐久・高透明性の色材，めっき調外観形成などの応用例を紹介する。
参加要領 1) 定員100名　2) 参加費 (1)企業21,000円 (2)大学・官公庁10,500円 (3)学生・ゴールド・シルバー3,150円 (4)年会費制会員※の団体からのご参加は何名様でも割引料金となります。（※グループ・関係会社除く。詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/2005nenkaihisei.htmlをご覧ください。）
a) 企業16,800円　b) 大学・官公庁8,400円　3) 申込方法　申込用紙（862頁）にご記入の上，FAXまたは郵送にて送付ください。参加証，請求書を随時送付いたしますので，請求書到着後，1月末日までに参加費をご送金ください。
申込先 高分子学会　05-5ポリマーフロンティア21係

05-2高分子学会講演会

主題＝技術経営(MOT)のすすめ-市場競争力を高める技術戦略-
＜趣旨＞　ながらく続く日本経済の閉塞感の中，復活のために企業の研究開発や技術といった強みを再度見直し，強化する動きが活発化しています。また大学や国研も独立行政法人化に伴い，知的財産権管理やベンチャー設立といった，これまでとは異なる感覚が求められてきています。技術や研究成果をどのように経営に結びつけるか，これからの企業および大学研究者に求められる「技術経営」を，実例を交えながらわかりやすく解説していただきます。
＜企画担当委員からひとこと＞
　高分子学会主催であるからこその‘内容'，‘講師陣'，‘参加費'です。研究開発企画に携わる方，プロジェクトヘッドの方以外に，テーマリーダーの方などの次世代を担う若い研究者，技術者，学生さんに勉強してもらえればと考えて企画しました。多くの皆様の参加をお待ちしております。
主　催 高分子学会　行事委員会
協　賛 （予定）日本化学会
日　時 1月17日（火）10 : 20〜17 : 20
会　場 東京工業大学大岡山キャンパス百年記念館フェライト会議室（3階）
交　通 東急目黒線・東急大井町線 大岡山駅下車 徒歩約1分
http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html
プログラム
＜10 : 20〜12 : 45＞
  1. 総論　-技術経営(MOT)とは-
    （フュージョン アンド イノベーション）古田 健二

    技術活動をベースにイノベーションを起こし，企業価値増大を図る中にしか日本企業の継続的成長は望めない。この活動を適切にマネジメントすることが，テクノロジーマネジメントであるが，その全体像・考え・方策を解説する。

  2. 技術経営の視点・論点
    （A.T. カーニー）山本直樹

    企業経営を技術面から主導する際に求められる3つの要諦，(1)技術戦略，(2)テクノロジーマーケティング，(3)技術の商用化，についてハイテク産業の事例を中心に議論し，日本企業の成長に向けた示唆を導出する。

＜13 : 40〜17 : 20＞
  1. 村田製作所の研究開発戦略　-独自性へのこだわりとコア技術の深耕-
    （村田製作所）高木　清

    1944年セラミックコンデンサー製造を目的に創業した当社は，その後一貫してセラミック電子部品の開発・製造を手がけてきた。これまでの当社の企業活動を支えてきた企業風土や研究開発戦略，研究開発システムの概要を紹介する。

  2. 三菱化学における技術経営
    （三菱化学）今成　真

    1990年代後半から2000年代初頭にかけて化学企業は収益の悪化に直面した。三菱化学はこれを克服すべく，経営改革およびR＆D改革に取り組んできた。本講演ではその内容について紹介する。

  3. 理系の経営学　-経営と技術の相乗効果を発揮させる新しい経営の考え方-
    （東大院）宮田秀明

    経済と経営はそもそも論理の積み重ねであり，理系思考は経営に不可欠のものといえる。東大工学部に日本初の理系の経営/システム工学科「システム創成学科」を設置し，理系文系を越えた新しい教育のさらなる基盤強化を進めている。経営に必要な論理についてケーススタディを踏まえながら，わかりやすく解説する。
参加要領 1) 定員100名　2) 参加費 (1)企業10,500円 (2)大学・官公庁5,250円 (3)学生・ゴールド・シルバー2,100円 (4)年会費制会員※の団体からのご参加は何名様でも割引料金となります（※グループ・関係会社除く。詳細はhttp://www.spsj.or.jp/c18/2005nenkaihisei.htmlをご覧ください）。
a) 企業8,400円　b) 大学・官公庁4,200円　3) 申込方法　こちらの申込用紙にご記入の上，FAXまたは郵送にて送付ください。参加証，請求書を随時送付いたしますので，請求書到着後，1月末日までに参加費をご送金ください。
申込先 高分子学会　05-2高分子学会講演会係

第15回光反応・電子用材料研究会講座

主題＝液浸，EUVリソグラフィー/レジストの新展開
＜趣旨＞　液浸リソグラフィー，EUVリソグラフィーは，従来の光リソグラフィーの延長として45nmから32nmノード以降のデバイス量産手段として期待されています。最近の技術進展は目ざましいものがあり，本研究会講座では，これらのリソグラフィーと用いられるレジストについて，最新の状況を把握できるように，専門の先生方からの講演を企画しました。
主　催 高分子学会　光反応・電子用材料研究会
協　賛 （予定）日本化学会　応用物理学会
日　時 1月25日（水）　10 : 00〜16 : 45
会　場 東京工業大学百年記念館フェライト会議室（東京都目黒区大岡山2-12-1　TEL 03-5734-3340）
交　通 東急目黒線・東急大井町線　大岡山駅下車　徒歩1分
（http://www.titech.ac.jp/access-and-campusmap/j/o-okayama-campus-j.html参照）
講　演
I.　基調講演＜10 : 00〜12 : 00＞

  1. 液浸リソグラフィーの現状とQCM法による液浸用レジスト材料研究
    （阪大院工）鳥海　実

  2. 極端紫外線リソグラフィー用レジスト開発の現状と今後の展開について
    （兵庫県大高度産研）渡邊健夫

＜13 : 00〜16 : 45＞
II.　EUVレジスト

  1. EUVリソグラフィーとレジストのナノ空間反応
    （阪大産研）田川精一

  2. 低分子EUVレジストの開発
    （東京応化）塩野大寿

III.　液浸リソプロセス評価・解析

  1. 液浸リソグラフィープロセスにおける解析・評価技術
    （東レリサーチセ）奥村治樹

  2. 次世代液浸リソグラフィ技術におけるレジスト（液浸液）材料の評価技術
    （リソテックジャパン）関口　淳

IV.　液浸レジスト

  1. F2液浸リソグラフィー開発
    （半導体先端テクノ）辻昭一郎

  2. フッ素樹脂のリソグラフィー分野への応用
    （ダイキン）山下恒雄

  3. ArF液浸リソグラフィー用レジスト開発
    （住友化学）安藤信雄

参加要領 1) 定員100名　2) 参加費（銀行振込，含協賛学協会員）(1)企業13,650円 (2)大学・官公庁5,250円 (3)学生・ゴールド・シルバー　2,100円 (4)光反応・電子用材料研究会メンバー（企業10,500円，大学・官公庁4,200円）　3) 申込方法　こちらの申込用紙に記入し，FAXまたは郵送にて送付の上，参加費をご送金ください。参加証は順次ご送付したします。
申込先 高分子学会　第15回光反応・電子用材料研究会講座