本会主催行事の参加費はいずれも消費税込みの料金です．
2018年12月主催行事
2018年度印刷・情報・電子用材料研究会講座
主題＝情報社会を支えるフォトレジスト材料・技術 －現状と今後－
＜趣旨＞ 昨年4月に「印刷・情報記録・表示研究会」と「光反応・電子用材料研究会」とが合併して新発足した本研究会の二回目となる本講座の開催に際し、半導体やディスプレイ等の電子デバイスや情報社会を支えてきたフォトレジスト材料・技術を主題に選択しました。
今後益々進展するIoT、ICTおよびビッグデータ・AI活用を含むデジタル社会においても、フォトリソグラフィー工程ならびにフォトレジスト材料・技術は引き続き重要な役割を果たし、高性能半導体、各種センサー、端末・デバイス等に必要不可欠な存在として進化していくことが求められます。また、これら材料・技術の研究開発においても飛躍的な発展を遂げるデジタル技術の活用が重要性を増すものと考えられます。
講師には第一線で活躍される先生方をお招きし、ご講演いただきます。本研究会メンバー以外の方にも広く参加いただけますので、奮ってのご参加を歓迎いたします。なお、講座終了後には、講師の方々との名刺交換会を予定しております。人脈構築にもお役立ていただければ幸いです。主 催 印刷・情報・電子用材料研究会 協 賛 応用物理学会 日本化学会 会 期 12月17日（月） 会 場 東京理科大学 森戸記念館 第1フォーラム（地下1F）（東京都新宿区神楽坂4-2-2 TEL 03-5228-8110）
http://www.tus.ac.jp/facility/morito/交 通 JR総武線、東京メトロ有楽町線・東西線・南北線、都営大江戸線「飯田橋」駅下車、徒歩3分
プログラム ＜9：50～11：50＞
1）ディスプレイ向けカラーフィルター用レジスト材料（JSR）蓑輪貴樹2）MEMSレジスト（エポキシ硬化系）の応用展開（日本化薬）小野禎之＜13：00～17：15＞
3）半導体レジストの開発と課題（信州大繊維）上野 巧4）高感度、高解像度、低ラフネス化を志向した極端紫外線用レジスト材料の開発（関西大化学生命工）工藤宏人5）リソグラフィーシミュレーションの概要と厚膜プロセスの最適化（リソテックジャパン）関口 淳6）（仮）マテリアルズインフォマティックス（産総研）安藤康伸＜17：15～17：30＞名刺交換会
参加要領 1）定員80名 2）参加費 ①企業 14,040円 ②大学・官公庁 5,400円 ③学生 2,160円 ④名誉・終身・フェロー・ゴールド・シニア会員 2,160円 ⑤印刷・情報・電子用材料研究会メンバー a）企業 10,800円 b）大学・官公庁 4,320円 3）申込方法 高分子学会ホームページの主催行事参加申し込み画面よりお手続きください。参加費は12月末日までにご送金ください。参加証、請求書（希望者のみ）は順次発送いたします。 連絡先 高分子学会 2018印刷・情報・電子用材料研究会講座係
高分子講演会（東海）
主題＝高性能化・高機能化を目指した高分子材料の設計と製品開発
＜趣旨＞ 高分子は、繊維やフィルムは言うに及ばず、医療用材料、ゴム材料、接着材料などにも利用され、われわれの生活を豊かにしています。それらのさらなる高性能高機能化あるいは新たな用途開発には、精密な分子設計と分子間相互作用の制御を駆使した高次構造構築ならびに分子レベルでの配向制御、さらには複合化などが不可欠です。今回の講演会では、精密分子設計と高性能化・高機能化をキーワードに、この分野の最先端の3人の企業研究者をお招きし、東海地方のものづくりを支える高分子材料開発の最前線からの話題をご提供いただきます。 主 催 高分子学会東海支部 会 期 12月21日（金） 会 場 岐阜大学 全学共通教育棟 全共103教室
交 通 JR岐阜駅前9番乗場岐阜バス（C70、71、72系統）乗車、岐阜大学前下車（所要時間約30分）なお、長良橋経由のN45系統バスは時間が多くかかりますのでご注意ください。
プログラム ＜13：00～14：10＞
1）自己集合性ペプチドナノファイバーハイドロゲルの開発（メニコン）横井秀典＜14：10～15：20＞
2）次世代自動車に向けたエラストマーの高機能化（JSR）辻 昭衛＜15：35～16：45＞
3）高機能アクリル系ポリマーを利用した製品開発（東亞合成）河合道弘
参加要領 1）参加費無料 2）申込方法 受付ミス防止のために、氏名、所属、連絡先（住所、電話、FAX、E-mail）、高分子学会員の方は会員番号を明記のうえで、E-mailまたはFAXにてお申し込みいただけると幸いです。 申込・連絡先 岐阜大学工学部化学・生命工学科 沓水祥一
TEL 058-293-2573 FAX 058-293-2794
E-mail：kutsu@gifu-u.ac.jp