第8回ポリマー材料フォーラム

Aセッションプログラム


1027日(水)

招待講演

(綾の間) [座長交渉中]

Aセッション

マルチメディア社会を支える

高分子材料のシーズとニーズ[U]

オプトエレクトロニクス材料

<10:00〜11:00> [座長 小池 康博]

1AIL01

 

[基調] 光産業技術の展望……光産業振興協 石原

<11:00〜11:30> [座長 都丸 暁]

1AIL02

 

ホームネットワークの将来展望……ソニー 渡邊 健治

<11:30〜12:00> [座長 都丸 暁]

1AIL03

 

プラスチック光ファイバーの最新動向……三菱レイヨン 山本

<13:00〜13:40> [座長 長谷川 悦雄]

1AIL04

 

高分子光導波路−その現状と可能性の中心……NTTフォトニクス研 栗原

<13:40〜14:20> [座長 長谷川 悦雄]

1AIL05

 

フォトレジストの最新動向……住友化学 良太郎

<14:20〜14:50> [座長 村山 徹郎]

1AIL06

 

感光体の技術動向……富士ゼロックス 額田 克己

<14:50〜15:20> [座長 村山 徹郎]

1AIL07

 

最近のトナーの技術動向……キヤノン 山崎 益夫

<15:20〜15:50> [座長 宮崎 修次]

1AIL08

 

有機光記録材料……TDK 新海 正博

<15:50〜16:20> [座長 加藤 隆史]

1AIL09

 

色素ドープ高分子・金属薄膜による超高速並列情報処理……静岡大電子研 長村 利彦

<16:20〜17:00> [座長 加藤 隆史]

1AIL10

 

有機EL発光の狭帯域化とレーザーへの可能性……豊田中研 時任 静士

 

 

1028日(木)

ポスターセッション

(錦の間) [コメンテータ交渉中]

Aセッション

マルチメディア社会を支える

高分子材料のシーズとニーズ[U]

オプトエレクトロニクス材料

Obligation Time

10:3011:30 2PA082PA16

14:3015:30 2PA012PA07

<10:30〜11:10> [コメンテータ 都丸 暁]

2PA01

 

広帯域GI型ポリマー光ファイバーの伝搬モードフィールドと接続損失特性……慶大理工・神奈川アカデミ 島崎 大作・叶 真理子・石榑 崇明・小池 康博

2PA02

 

乾熱下におけるGIPOFの信頼性向上……慶大理工・神奈川アカデミ 平井 美季・杉崎 雅史・佐藤 真隆・石榑 孝明・小池 康博

2PA03

 

屈折率分布型ポリマー光ファイバーレーザーの特性評価……慶大理工 田村 藤嗣彦・小林 毅之・栗木 研・今井 奈々,慶大理工・KAST 小池 康博

2PA04

 

異方形状を有する銀微粒子を析出させたフッ素化ポリイミドフィルムの偏光特性……東工大院理工 安藤 慎治・松田 祥一,NTT 澤田 孝・佐々木 重邦

<11:10〜11:40> [コメンテータ 小池 康博]

2PA05

 

プラスチックロッドレンズの研究[V]……三菱レイヨン 魚津 吉弘・廣田 憲史

2PA06

 

プラスチック製IRカット材料の開発とその応用……呉羽化学 小泉 智義・上遠野 浩樹・庄司 益弘

2PA07

 

透明な希土類金属含有高分子とその応用……呉羽化学 上遠野 浩樹・小泉 智義・庄司 益宏

<13:30〜14:10> [コメンテータ 山本 隆]

2PA08

 

光通信用樹脂材料……NTT-AT 村田 則夫,NTT研究所 丸野 透・小勝負 信建,NTT-AT 村越

2PA09

 

高分子材料を用いた導波路型グレーティングの作製と光学特性評価……東北大反応研 柴田 智章・服部 俊明・戒能 俊邦

2PA10

 

酸素RIEによる有機非線形光学結晶、DAST、の光導波路化……東北大反応研 高山 一也・吉田 宗生・Huihua Deng・小松 京嗣・戒能 俊邦

2PA11

 

高耐熱性二次非線形ポリイミド……日立化成総研 本田 裕,筑波大物理系 谷田貝 豊彦・伊藤 雅英・原田 建治

<14:10〜15:00> [コメンテータ 村山 徹郎]

2PA12

 

正孔輸送分子の移動度と分子物性−分子軌道法による解析−……三菱化学 庄田 孝行・藤井 章照・荒牧 晋司・村山 徹郎

2PA13

 

染料昇華型レーザー熱転写記録におけるインク層表面の時間分解観察……千葉大自然科 木下 正兒,千葉大工 星野 勝義・北村 孝司

2PA14

 

高信頼性ポリアセタールコポリマーの特性……旭化成 谷村 徳孝・七澤

2PA15

 

高摺動性ポリアセタール樹脂……旭化成 塚原 浩・堀尾 光宏・中村 秀樹

2PA16

 

液晶性有機半導体材料による画像記録……大日本印刷中研 前田 博己,東工大像情報工学研 舟橋 正浩・半那 純一

 

 

1029日(金)

ポスターセッション

(錦の間) [コメンテータ交渉中]

Aセッション

マルチメディア社会を支える

高分子材料のシーズとニーズ[U]

オプトエレクトロニクス材料

Obligation Time

10:3011:30 3PA063PA14

14:3015:30 3PA013PA05

<10:30〜11:20> [コメンテータ 鴨志田 洋一]

3PA01

 

アダマンタン類を用いたArF用ポジレジスト……住友化学 上谷 保則・藤島 浩晃

3PA02

 

ArFレジストを用いた超微細加工……JSR 山本 将史・銅木 克次・村田 清・石井 寛之・梶田

3PA03

 

分子内エステル化反応を用いた非膨潤ArFエキシマレーザ用ネガ型レジスト……日立中研 服部 孝司・土屋 裕子・横山 義之・老泉 博昭・白石

3PA04

 

脂環式アクリレート樹脂を用いたArF露光用ネガ型レジストの開発……日本電気 岩佐 繁之・前田 勝美・長谷川 悦雄

3PA05

 

高透明酸増殖剤を用いた高感度ArFレジスト……Selete基盤研 内藤 卓哉・大藤 武・遠藤 政孝・森本 博明,東工大資源研 有光 晃二・市村 國宏

<13:30〜14:20> [コメンテータ 上野 巧]

3PA06

 

ArF用高感度ポジ型表面修飾フォトレジスト……阪府大院工 白井 正充・遠藤 充輝・角岡 正弘,半導体先端テクノロジーズ 遠藤 政孝

3PA07

 

反射防止膜材料オプスターの開発……JSR筑波研 西川 昭・渡邉 房香・宇加地 孝志

3PA08

 

新規水溶性含ケイ素レジスト−水で現像可能な含ケイ素オリゴオキシエチレン誘導体の合成とレジスト特性評価……北辰工業 青木 英敏・徳田 隆,東理大基礎工 長崎 幸夫・加藤 政雄

3PA09

 

アルカリ水溶液現像が可能なポジ型化学増幅感光性ポリイミド……東芝研究開発セ 早瀬 留美子・ 御子柴 智・早瀬 修二

3PA10

 

C-テトラオクチルカリックス[4]レゾルシンアレン、架橋剤、光酸発生剤からなるネガ型化学増幅型レジストの開発……東工大 武志 一正・上田

<14:20〜15:00> [コメンテータ 岡田 満哉]

3PA11

 

反射型LCD用液晶マイクロカプセルの開発……東芝研究開発セ 内藤 勝之・清水 征三郎・榎本 信太郎・堀田 あいら・岩永 寛規・田中 雅男・中井

3PA12

 

ポリ(3-メチルチオフェン)系複合膜に用いるベースポリマーのエレクトロクロミック特性に及ぼす影響……千葉工大院工 浅井 隆宏,千葉工大自然系 秉植,千葉工大院工 柴田 充弘・四十宮 龍徳

3PA13

 

ゴム変性芳香族ポリアミド樹脂によるエポキシ硬化物の改質……巴川製紙 清原 紀・中西 隆之・杉山 仁英

3PA14

 

テトラフェニルクロリンを用いた赤発光有機EL素子……東洋インキ 奥津 聡,電総研 榊原 陽一,東洋インキ 榎田 年男,農工大 俊朗