| 高分子 Vol.61 No.6 |
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特集 ホスト－ゲスト相互作用を基盤とした高分子材料
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| 展望 COVER STORY: Highlight Reviews |
| 高分子包接を用いた架橋材料の多様性 The Diversity of Cross-linked Materials Using Polymer Inclusion Complexes |
加藤 和明・伊藤 耕三 Kazuaki KATO, Kohzo ITO |
| ＜要旨＞ 環状ホスト分子による包接は、低分子に限らず高分子ゲストに対しても見られる現象であり、その包接現象や包接錯体を用いると、多様な材料設計が可能となる。本稿では、シクロデキストリンの高分子包接を用いたさまざまな架橋材料の物性や機能を中心に、包接錯体の多様性がもたらす材料設計の新展開について紹介する。 Keywords: Cyclodextrin / Molecular Recognition / Polyrotaxane / Cross-linking / Slide-Ring Material / Material Design / Organic-Inorganic Hybrid / Viscoelastic Relaxation / Sliding Transition |
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| 可動な結合点をもつ高分子の合成と機能 －グラフトポリマーとネットワークポリマー－ Characteristics and Functions of Movable Bonding Point-Tethering Polymer |
高田 十志和 Toshikazu TAKATA |
| ＜要旨＞ 高分子中の分子鎖結合点にロタキサン構造のような柔軟で強い超分子構造（動的構造）を含む高分子には、これまでにない機能や特性が期待され、多くの注目が集まっている。本稿では、グラフトポリマーの結合点ならびにネットワークポリマーの架橋点へのロタキサン構造の導入とそれが及ぼす効果について解説する。 Keywords: Rotaxane / Catenane / Polyrotaxane / Bonding Point in Polymer / Graft Polyrotaxane / Polyrotaxane Network / Recyclable Network Polymer |
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| 分子インプリント高分子の蛍光センシングへの応用 Molecularly Imprinted Materials: Applications to Fluorescent Sensing Systems |
砂山 博文・竹内 俊文 Hirobumi SUNAYAMA, Toshifumi TAKEUCHI |
| ＜要旨＞ 分子インプリンティングによってさまざまなセンシング材料の開発が活発に行われている。その中でも蛍光センシングはその操作の簡便さと高感度検出が可能なことから注目されている。本稿では分子インプリント材料とそれによる標的分子の蛍光センシングに関する最近の研究について概説する。 Keywords: Molecular Imprinting / Synthetic Receptor / Fluorescent Detection / Molecular Recognition |
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| トピックス COVER STORY: Topics and Products |
| 超分子ホストを用いた発光性包接結晶と外部刺激応答スイッチング Fluorescence Inclusion Crystals with Supramolecular Host and External Stimuli Responsive Switching |
藤内 謙光 Norimitsu TOHNAI |
| ＜要旨＞ A
novel fluorescent inclusion host has been designed and prepared by supramolecular
approach. The supramolecular host was formed by a chair-like hydrogen-bonding
network and crystallized with a variety
of solvent molecules because of its awkward shape and the presence of
receptor moieties. The resulting crystals show guest-dependent fluorescence
from blue-green to orange-yellow. Keywords: Fluorescence / Inclusion Crystal / Organic Salt / Supramolecular Host |
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| 新規環状ホスト分子Pillar［5］areneを基とした超分子材料の創成 Synthesis of New Macrocyclic Molecules “Pillar[5]arenes” and Their Application for Supramolecular Materials |
生越 友樹・山岸 忠明 Tomoki OGOSHI, Tadaaki YAMAGISHI |
| ＜要旨＞ Pillar[5]arenes
have repeating units connected by methylene bridges at the para-position,
which produce a unique symmetrical pillar architecture. Based on the
unique pillar-shaped architecture and high functionality, we prepared
new functional supramolecular materials. Keywords: Pillar[5]arene / Host-Guest Complex / Supramolecular Chemistry / Macrocyclic Compound |
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| キラル液晶溶媒で制御する精密不斉合成 Asymmetric Synthesis by Chiral Liquid Crystalline Solvents |
石田 康博 Yasuhiro ISHIDA |
| ＜要旨＞ Two-component
liquid crystals were found to offer a unique reaction environment, in
which high structural order and proper flexibility were realized at the
same time. Within the liquid-crystalline matrix provided by enantiopure
amphiphilic aminoalcohols, the photo-dimerization of anthracene derivatives
proceeded with high probability and with excellent regio-, diastereo-,
and/or enantioselectivity. Keywords: Asymmetric Synthesis / Chirality / Liquid Crystals / Photochemistry / Template Synthesis |
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| グローイングポリマー Polymer Science and I: A Personal Account |
| 思い入れを込めて With a Passion for Research |
飯田 拡基 Hiroki IIDA |
| ＜要旨＞ This essay traces my research life that started with small organocatalysts simulating enzymatic functions. |
| 高分子科学最近の進歩 Front-Line Polymer Science |
| ナノインプリント用光硬化性樹脂 Recent Development of Photo Curable Resist for Photo Nanoimprint Lithography Process |
川口 泰秀・海田 由里子 Yasuhide KAWAGUCHI, Yuriko KAIDA |
| ＜要旨＞ The
nanoimprint lithography process is characterized by low cost, high throughput
and high resolution and is a much simpler process than conventional optical
lithography. Recently, it has attracted much attentionin a variety of
industrial fields such as electronics, optics, photonics or biology.
Especially, photo nanoimprint lithography fabricatesnanoscale patterns
by mechanically deforming an imprint resist that is typically made from
a monomer or polymer and cured using UV light. Based on such a situation,
the recent development of photo curable resist for photo nanoimprint
lithography is described in this article. Keywords: Nanoimprint Lithography / Photo-Curable Resin / Mold / Ultra-Violet Light |
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