| 고분자 Vol.61 No.6 |
| >> Chinese | >> English | >> Japanese | >> Korean |
특집
호스트-게스트 상호작용을 이용한 고분자 재료 |
| 전망 |
| 고분자 포접을 이용한 가교재료의 다양성 | 가토 가즈아키, 이토 고조 |
| <Abstract> 환상 호스트 분자에 의한 포접은 저분자뿐만 아니라 고분자 게스트의 경우에도 볼 수 있는 현상이며, 이와 같은 포접 현상 및 포접 착물을 이용하여 다양한 재료의 설계가 가능하다. 본 원고에서는 시클로 덱스트린의 고분자 포접 현상을 이용한 다양한 가교 재료의 물성과 기능을 중심으로, 포접 착물의 다양성이 제공하는 재료 설계의 새로운 가능성에 대해 소개한다. |
| Top of the Page▲ |
| 가동적인 결합점을 갖는 고분자의 합성과 기능: 그라프트 고분자와 네트워크 고분자 | 다카타 도시카즈 |
| <Abstract> 고분자의 분자 사슬 결합점에 로타키산 구조와 같은 유연하면서 강한 초분자 구조(동적 구조)를 포함한 고분자는 지금까지와는 다른 기능이나 특성이 기대된다는 점에서 많은 주목을 받고 있다. 본 원고에서는 그라프트 고분자의 결합점 및 네트워크 고분자의 가교점에 로타키산 구조를 도입하는 과정과 로타키산의 도입이 고분자의 물성에 미치는 효과에 대해 소개한다. |
| Top of the Page▲ |
| 분자 임프린팅 고분자의 형광 탐지에의 응용 | 스나야마 히로부미, 다케우치 도시후미 |
| <Abstract> 분자 임프린팅을 이용한 다양한 탐지 재료의 개발이 활발하게 이루어지고 있다. 그중에서도 형광 탐지는 조작의 간편함과 고감도 검출이 가능하다는 점에서 주목을 받고 있다. 본 원고에서는 분자 임프린팅 재료와 이와 같은 재료를 이용한 표적 분자의 형광 탐지에 관한 최근의 연구결과를 소개한다. |
| Top of the Page▲ |
| 토픽 |
| 초분자 호스트를 이용한 발광성 포접 결정과 외부 자극 응답성 스위칭 | 도나이 노리미츠 |
| <Abstract> 형광성을 갖는 새로운 호스트 분자가 초분자적인 방식을 통해서 설계 및 합성되었다. 이 호스트 분자는 의자의 형태와 같은 수소 결합 네트워크에 의해 형성되었다. 또한, 특이한 분자 구조와 수소 결합의 수용체 부위의 존재로 인해서 다양한 용매 분자와 결정화되었다. 얻어진 결정은 게스트의 종류에 따라서 청록색에서 귤색에 이르는 다양한 형광을 나타낸다. |
| Top of the Page▲ |
| 신규 환상 호스트 분자 “Pillar[5]arenes”을 이용한 초분자 재료의 합성 | 오고시 도모키, 야마기시 다다아키 |
| <Abstract> Pillar[5]arenes은 독특한 대칭적 기둥 구조를 생성하는 파라 위치의 메틸렌으로 연결된 반복 단위를 갖고 있다. 독특한 기둥 모양의 구조와 높은 기능성을 바탕으로, 필자의 연구진은 새로운 기능성 초분자 재료를 합성하였다. |
| Top of the Page▲ |
| 키랄 액정 용매로 제어하는 정밀 비대칭 합성 | 이시다 야스히로 |
| <Abstract> 두 가지의 구성 요소로 이루어진 액정은 높은 구조적 질서와 적절한 유연성이 동시에 실현되는 독특한 반응 환경을 제공한다. 고 광학순도의 양친매성 아미노알코올로 이뤄진 액정 매트릭스 내에서, 안트라센 유도체의 광이량체화 반응은 높은 확률과 함께 뛰어난 위치 선택성, 부분입체 선택성 및 거울상이성질체 선택성을 나타낸다. |
| Top of the Page▲ |
| 성장하는 고분자 |
| 연구를 향한 열정과 함께 | 이이다 히로키 |
| <Abstract> 본 원고에서는 효소 기능을 모방하는 작은 유기촉매의 개발로 시작된 필자의 연구 생활을 되돌아 본다. |
| Top of the Page▲ |
| 고분자과학의 최전선 |
| 나노임프린트용 광경화성 수지 | 가와구치 야스히데, 가이다 유리코 |
| <Abstract> 나노임프린트 리소그래피 과정은 낮은 비용, 높은 처리량과 높은 해상도를 특징으로 하며, 종래의 광학 리소그래피보다 훨씬 간단하다는 장점을 갖고 있다. 최근 나노임프린트 ] 리소그래피는 전자공학, 광학, 포토닉스 및 생물학 등과 관련된 산업 분야의 다양한 관심을 받고 있다. 특히, 광 나노임프린트 리소그래피는 단량체 또는 중합체로 만들어지거나 자외선을 이용하여 경화된 임프린트 레지스트를 기계적으로 변형하여 나노 스케일의 패턴을 형성한다. 이와 같은 상황을 배경으로, 본 원고에서는 광 나노임프린트 리소그래피를 위한 광경화성 레지스트의 개발과 관련된 최근의 연구 결과를 소개한다. |
| Top of the Page▲ |
| Copyright(C) 2012 The Society of Polymer Science, Japan All Rights Reserved. |