| 高分子 Vol.60 No.3 |
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特集 半導体を極める高分子 |
| 半導体の高集積化と高速化の進歩は所謂ムーアの法則と呼ばれる2年で2倍に集積される半導体のスケーリングルールによって達成されてきた。このような半導体の発展は，シリコントランジスタ設計の進歩のみならず，要求されたパフォーマンスを実現するために新たに開発された高分子材料が重要な役割を担ってきた。この特集号では，次世代半導体デバイスの作製に寄与する高分子材料に着眼して，それぞれの技術を紹介する。 御子柴・関・中川・VACHA |
| Hot Topics |
115
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| 素描 |
| 高分子材料イノベーションへの期待 | 渡辺 久恒 | 117 |
| 展望 |
| マイクロリソグラフィー用フォトレジスト | 上田 充 | 118
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| EUVレジスト材料の開発 | 工藤 宏人・西久保 忠臣 | 122
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| 高分子ブロック共重合体のDirected Self-Assemblyとリソグラフィーへの展開 | 吉田 博史 | 126
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| 光ナノインプリント | 廣島 洋 | 130
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| ポリワーズ |
134
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| トピックス |
| ArF液浸レジスト | 野崎 耕司 | 135
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| マスクブランクスから次世代HDD作製技術へ | 渡邊 強・流川 治 | 137
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| ナノインプリントリソグラフィー用蛍光レジスト | 中川 勝 | 139
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| 電子線レジスト | 上野 巧 | 141
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| EUVレジスト開発における最近のトピック | 古澤 孝弘 | 143
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| グローイングポリマー |
| 学会を楽しもう | 岸村 顕広 | 145 |
| 人脈の中に研究の鉱脈あり | 黒岩 敬太 | 146 |
| 先輩からのメッセージ − |
| より良い社会のための仕事と私事 | 田辺 恒彰 | 147
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| 高分子科学最近の進歩 |
| 非溶媒界面における高分子の凝集状態と熱運動特性 | 田中 敬二・藤井 義久 | 148
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| 学会からのお知らせ | 153 |
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