| 고분자 Vol.60 No.3 |
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특집 반도체를 향상시키는 고분자 |
| 반도체의 고집적화와 고속화의 진보는 이른바 반도체 집적회로의 성능이 2년마다 2배 증가한다고 하는 무어의 법칙에 따라서 달성됐다. 이와 같은 반도체의 발전은 실리콘 트랜지스터 설계의 진보 및 요구되는 성능을 실현하기 위해서 개발된 신규 고분자 재료가 중요한 역할을 하였다. 이번 특집호에서는 차세대 반도체 기기의 제작에 이바지할 것으로 기대되는 고분자 재료를 중심으로 관련 기술을 소개한다.
（Editors: 미코시바, 세키, 나카가와, 바차） |
| 최신 연구결과 | 115
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| 특집에 부쳐 |
| 고분자재료 혁신에 대한 기대 | 와타나베 히사츠네 | 117
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| 전망 |
| 마이크로 리소그래피용 포토레지스터 | 우에다 미츠루 | 118 |
| 극자외선(EUV) 레지스터 재료의 개발 | 구도 히로토, 니시쿠보 타다토미 | 122 |
| 고분자 블록 공중합체의 자기 조립화 및 리소그래피에서의 응용 | 요시다 히로시 | 126 |
| 광 나노 임프린트 | 히로시마 히로시 | 130 |
| 고분자 용어 | 134
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| 토픽 |
| ArF 액침레지스터 | 노자키 고지 | 135 |
| 차세대 HDD 제작기술을 위한 마스크블랭크스 및 나노 임프린트의 진보 | 와타나베 츠요시, 나가레카와 오사무 | 137 |
| 나노 임프린트 리소그래피용 형광 레지스터 | 나카가와 마사루 | 139 |
| 전자선 레지스터 | 우에노 타쿠미 | 141 |
| 극자외선 레지스터 개발과 관련된 최신 토픽 | 고자와 다카히로 | 143 |
| 성장하는 고분자 |
| 학회를 즐기자! | 아키히로 키시무라 | 145 |
| ‘인맥’ 속에 있는 연구의 ‘광맥’ | 구로이와 게이타 | 146 |
| 고분자과학의 최전선 |
| 비용매계면에서의 고분자의 응집상태와 열운동 특성 | 다나카 게이지, 후지이 요시히사 | 148
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| Messages from SPSJ | 153 |
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